CN205281091U - 显示基板、显示面板 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种显示基板、显示面板，属于显示基板技术领域，其可解决现有的显示面板中隔垫物需要单独制备且各子像素间容易产生串色的问题。本实用新型的显示基板包括多个子像素，每个所述子像素中设有彩色滤光膜，各子像素之间设有黑矩阵，且至少部分所述黑矩阵上设有条形的挡墙，挡墙与黑矩阵为一体结构。本实用新型的显示面板包括上述的显示基板。

Description

显示基板、显示面板

技术领域

本实用新型属于显示基板技术领域，具体涉及一种显示基板、显示面板。

背景技术

在显示面板(如液晶显示面板)的两个基板之间，需要设置隔垫物以维持两基板间的距离。为了不影响显示，这些隔垫物要设置在各子像素之间的位置，也就是设在黑矩阵所在的位置。

但是，这些隔垫物需要通过单独的工艺制备(例如用透明光刻胶通过构图工艺制备)或布撒，这会使显示面板的制备工序增加，工艺复杂。

另外，由于各子像素之间的距离很小，且黑矩阵的高度与彩色滤光膜的高度相同或更低，故各子像素发出的光可能会斜向进入相邻的子像素中，并穿过不同颜色的彩色滤光膜而变为其他颜色，由此引起“串色”现象，影响显示。

实用新型内容

本实用新型针对现有的显示面板中隔垫物需要单独制备且各子像素间容易产生串色的问题，提供一种不用单独制备隔垫物，且可避免串色的显示基板、显示面板、

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，其包括多个子像素，每个所述子像素中设有彩色滤光膜，各子像素之间设有黑矩阵，且

至少部分所述黑矩阵上设有条形的挡墙，挡墙与黑矩阵为一体结构。

优选的是，所述黑矩阵上还设有隔垫物，所述隔垫物与黑矩阵为一体结构。

进一步优选的是，所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度。

进一步优选的是，所述挡墙的高度等于辅隔垫物的高度。

进一步优选的是，所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对应数据线的黑矩阵，所述隔垫物设于对应栅极线的黑矩阵上。

优选的是，所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对应数据线的黑矩阵，所述挡墙设于对应数据线的黑矩阵上。

优选的是，沿所述挡墙的长度方向每隔一段距离设有一个开口。

优选的是，所述黑矩阵的高度小于最薄的彩色滤光膜的厚度。

优选的是，所述黑矩阵由黑色光刻胶构成。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示面板，其包括上述的显示基板。

本实用新型的显示基板中包括挡墙，挡墙从黑矩阵上凸起，从而可起到类似隔垫物的支撑作用，且其是与黑矩阵同步形成的，由此不需要用单独的工艺制备，故可简化显示面板的制备工艺，并由此提高产率，降低成本；同时，挡墙必然由与黑矩阵相同的黑色材料构成，且挡在相邻的子像素之间，故其可阻止各子像素的光进入相邻的子像素中，从而避免串色现象。

附图说明

图1为本实用新型的实施例的一种显示基板的局部俯视结构示意图；

图2为本实用新型的实施例的一种显示基板的挡墙的局部面结构示意图；

图3为本实用新型的实施例的一种显示基板的隔垫物的局部面结构示意图；

图4为本实用新型的实施例的一种显示基板的隔垫物和彩色滤光膜的局部面结构示意图；

其中，附图标记为：1、黑矩阵；11、挡墙；111、开口；12、隔垫物；121、主隔垫物；122、辅隔垫物；2、彩色滤光膜；51、栅极线；52、数据线；9、基底。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

实施例1：

如图1至图4所示，本实施例提供一种显示基板，其包括多个子像素，每个子像素中设有彩色滤光膜2，各子像素之间设有黑矩阵1。

也就是说，本实施例的显示基板包括排成阵列的子像素，每个子像素中填充有设于基底9上的相应颜色的彩色滤光膜2，以便将从该子像素处射出的光转变为相应的颜色；而在各子像素之间的位置则设有位于基底上的黑矩阵1，用于阻止光从这些位置射出。由此，该显示基板可为彩膜基板，如用于液晶显示装置的彩膜基板，当然，若该显示基板为COA(ColorOnArray)模式的阵列基板，也是可行的。

其中，显示基板的至少部分黑矩阵1上设有条形的挡墙11，挡墙11与黑矩阵1为一体结构。

也就是说，如图1、图2所示，在显示基板的黑矩阵1上还设有沿两子像素之间的间隔的长度方向分布的条状凸起(即挡墙11)，且挡墙11与黑矩阵1是一体结构的，由此它们必定是在同一次工艺中用同样材料形成的，或者说二者是同步形成的。

可见，以上挡墙11从黑矩阵1上凸起，从而可起到类似隔垫物12的支撑作用，且其与黑矩阵1同步形成，故不需要用单独的工艺制备，从而可简化显示面板的制备工艺，并由此提高产率，降低成本；同时，挡墙11必然由与黑矩阵1相同的黑色材料构成，且挡在相邻的子像素之间，故其可阻止各子像素的光进入相邻的子像素中，从而避免串色现象。

优选的，沿挡墙11的长度方向每隔一段距离设有一个开口111。

也就是说，如图2所示，挡墙11并不是贯穿整个显示面板的长条，而是每隔一段距离(如数十微米)设有一个开口111，或者说，每个挡墙11也可看成由多段沿一条直线间隔排布的“子挡墙”构成。

其中，黑矩阵1(挡墙11)一般先于彩色滤光膜2制造，而彩色滤光膜2一般是由相应颜色的光刻胶通过构图工艺形成的，即先通过旋涂等方式涂布完整的光刻胶层，之后再将不需要的光刻胶层除去使剩余部分成为彩色滤光膜2。而光刻胶在涂布过程中要流动，但挡墙11比黑矩阵1更高，故其对光刻胶的流动有更明显的阻挡作用，为此，优选在挡墙11上设置多个开口111，以作为光刻胶流动的通道，便于彩色滤光膜2的形成。

优选的，黑矩阵1的高度小于最薄的彩色滤光膜2的厚度。

也就是说，如图3所示，在没有挡墙11等结构的位置处，单纯的黑矩阵1的高度应比最薄的彩色滤光膜2(一般为蓝色滤光膜)的厚度更小。这是因为黑矩阵1对光刻胶的流动也有阻挡作用，且由于挡墙11等的存在，故本实施例中彩色滤光膜2的光刻胶的流动比只有常规黑矩阵1时更困难，因此，黑矩阵1的厚度应比最薄的彩色滤光膜2还低，以保证所有彩色滤光膜2的光刻胶都可漫过挡墙11流动，从而形成厚度均匀的彩色滤光膜2。

优选的，黑矩阵1上还设有隔垫物12，隔垫物12与黑矩阵1为一体结构。

也就是说，如图1、图3、图4所示，除以上挡墙11之外，黑矩阵1上还设有与其为一体结构的、圆柱状的隔垫物12(当然与挡墙11设于不同位置)，该隔垫物12的形态、高度等与现有隔垫物类似，故可进一步改善支撑效果。而由于隔垫物12也与黑矩阵1为一体结构，故其也是与黑矩阵1(和挡墙11)同步形成的，而不需要增加单独的制备工艺。

优选的，隔垫物12包括主隔垫物121和辅隔垫物122，主隔垫物121的高度大于辅隔垫物122的高度。

也就是说，如图4所示，优选包括两种高度不同的隔垫物12，较高的为主隔垫物121，一般高度在3～3.4μm左右，而较低的为辅隔垫物122，其一般比主隔垫物121低0.4～0.5μm左右，且主隔垫物121和辅隔垫物122的数量比一般在1∶60左右。其中，主隔垫物121用于在通常情况下起到支撑作用，而当显示面板受压力而变形时，辅隔垫物122也开始接触基板，从而提供更强的支撑。

优选的，挡墙11的高度等于辅隔垫物122的高度。

也就是说，挡墙11高度可与辅隔垫物122的高度基本相当，也比主隔垫物121低0.4～0.5μm左右，由此，挡墙11的支撑作用与辅隔垫物122类似。这是因为挡墙11一般长度较大，故其支撑作用应当与原来数量就较多的辅隔垫物122类似。

优选的，黑矩阵1包括对应栅极线51的黑矩阵1和对应数据线52的黑矩阵1，挡墙11设于对应数据线52的黑矩阵1上，而隔垫物12设于对应栅极线51的黑矩阵1上。

也就是说，各子像素之间(黑矩阵1)一般是用于设置栅极线51和数据线52的(当然可位于阵列基板中)，而以上的挡墙11优选设在与数据线52对应的黑矩阵1上，而隔垫物12则可设于对应栅极线51的黑矩阵1上。

通常而言，栅极线51的宽度比数据线52的宽度大，故如图1所示，对应栅极线51的黑矩阵1也比对应数据线52的黑矩阵1更宽，因此，将支撑作用更强的隔垫物12(尤其是主隔垫物121)设在较宽的黑矩阵1上可获得更稳定的基础，而将具有挡光作用的挡墙11设在较窄的黑矩阵1上可起到更好的防止串色效果(因为较窄的黑矩阵1两侧的子像素显然更容易串色，故也更需要挡墙11)。

优选的，黑矩阵1由黑色光刻胶构成。

也就是说，黑矩阵1可以是由黑色的光刻胶构成的，当然，挡墙11和隔垫物12(如果有的话)也是由黑色光刻胶构成的。

光刻胶可通过构图(曝光)工艺加工，而构图工艺可一次形成各位置厚度不同的光刻胶图案，故用光刻胶(包括正性光刻胶和负性光刻胶)构成的黑矩阵1更加便于制备。

具体的，当要同时形成以上黑矩阵1、挡墙11、隔垫物12时，可采用阶梯曝光工艺，即采用灰阶掩膜版或半色调掩膜版进行曝光，从而使光刻胶层的不同位置的曝光程度不同，这样在显影时有些位置的光刻胶层会被完全保留，并形成主隔垫物121，有些位置的光刻胶层则被部分溶解，形成辅隔垫物122、挡墙11、单纯的黑矩阵1等，而剩余位置的光刻胶层则被完全溶解，形成对应各子像素的彩色滤光膜2的位置。

由此可见，使用黑色光刻胶的优点还在于，其中黑矩阵1的厚度以及挡墙11、隔垫物12的高度均可通过调整曝光工艺简单的单独控制，从而便于显示基板的结构调整。

当然，由于要同时形成挡墙11和隔垫物12，故本实施例的黑矩阵1在制备时，涂布的黑色光刻胶层的厚度会比现有技术更大。因此，应当注意选用能涂布较(如约9μm)厚光刻胶的涂布设备、能在厚度较大时完成曝光的光刻胶、能检测当前黑矩阵结构的检测设备等。

实施例2：

本实施例提供一种显示面板，其包括上述的显示基板。

具体的，该显示面板优选为液晶显示面板；当然，其也可为有机发光二极管(OLED)显示面板等其他形式。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示基板，包括多个子像素，每个所述子像素中设有彩色滤光膜，各子像素之间设有黑矩阵，其特征在于，

至少部分所述黑矩阵上设有条形的挡墙，挡墙与黑矩阵为一体结构。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述黑矩阵上还设有隔垫物，所述隔垫物与黑矩阵为一体结构。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物，所述主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，

所述挡墙的高度等于辅隔垫物的高度。

5.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，

所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对应数据线的黑矩阵，所述隔垫物设于对应栅极线的黑矩阵上。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对应数据线的黑矩阵，所述挡墙设于对应数据线的黑矩阵上。

7.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

沿所述挡墙的长度方向每隔一段距离设有一个开口。

8.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述黑矩阵的高度小于最薄的彩色滤光膜的厚度。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，

所述黑矩阵由黑色光刻胶构成。

10.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1至9中任意一项所述的显示基板。