CN105679796A - 显示面板及制备方法 - Google Patents

Abstract

一种显示面板，包括多个用于显示图像的像素，包括：基板；像素定义层，设置于所述基板，所述像素定义层具有与多个像素对应的多个开口，所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，其中，相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距；发光层，形成在与所述像素对应的所述开口内。上述显示面板，由于像素定义层位于相邻两个第一开口的间距大于相邻两个第二开口的间距，可以避免相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题。本发明还提供一种显示面板的制备方法。

Description

显示面板及制备方法

技术领域

本发明涉及一种显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及制备方法。

背景技术

有机电致发光二极管(OrganicLight-EmittingDiodes，简称OLED)是自发光器件，不需要背光源，外观轻、薄，而传统的液晶显示器(LCD)需要背光源才能工作，外观尺寸较厚。有机发光二极管显示器的功耗低，视角宽，屏幕响应快，是最能符合人们未来对显示器功能要求的技术。因此，有机发光二极管有望在不久的将来取代液晶显示器，具有很高的市场潜力。

有机小分子发光二极管在制作过程中，目前较成熟的技术是采用真空蒸镀技术，在器件制备过程中，有机材料会淀积在位于蒸发源上方的基板上，为形成特有的图案，在基板下方紧贴有掩膜版，掩膜版上留有预先设计排版好的开口，最终有机材料会通过掩膜板上的开口区域，淀积到基板上面。

OLED区域多色的实现一般是通过区域蒸镀不同的有机材料层来实现，而蒸镀制作是通过掩膜的方式进行，那么区域蒸镀就需要掩膜板区域开口，因此OLED区域多色就需要使用不同的掩膜板分别来制作不同的颜色。而现有的技术，在整张掩膜板区域内，同色发光有机层的掩膜板子像素开口和子像素有效发光区域的大小是一致的。在生产过程中，通过对位机构使掩膜板子像素开口区域与基板蒸镀图案相对应并紧紧贴合后，有机材料就是通过掩膜板的开口区域蒸镀到对应基板图案上；但是在实际生产过程中，受限于掩膜板承载平台的平坦度、基板变形量和对位机构中磁力大小以及磁力均匀性等因素影响，局部掩膜板与基板贴合之间存在间隙，这样导致存在间隙的区域在蒸镀一种颜色时掩膜板遮挡区域不能有效遮挡相邻的其他颜色图案区域，使其他颜色的图案在蒸镀过程中被镀上不需要的有机材料，导致点亮时整个基板存在混色缺陷，造成基板报废。

发明内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种显示面板及制备方法，以改善显示面板的混色缺陷，提升良率。

一种显示面板，包括多个用于显示图像的像素，包括：

基板；

像素定义层，设置于所述基板，所述像素定义层具有与多个像素对应的多个开口，所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，其中，相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距；

发光层，形成在与所述像素对应的所述开口内。

在其中一个实施例中，所述第一开口的宽度小于所述第二开口的宽度。

在其中一个实施例中，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距与相邻两个所述第二开口的间距比值为1.01～1.20。

在其中一个实施例中，所述开口呈阵列式分布。

一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：

在基板上形成具有多个开口的像素定义层，所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口；

利用掩膜板使发光层形成在与所述像素对应的开口内，所述掩膜板包括多个蒸镀孔，发光材料通过所述掩膜板的所述蒸镀孔沉积于所述开口内，形成发光层，所述蒸镀孔呈阵列式分布，包括位于四周区域的第一蒸镀孔，以及位于中间区域的第二蒸镀孔；

其中，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距；或者，所述掩膜板的所述第一蒸镀孔的宽度小于所述第二蒸镀孔的宽度。

在其中一个实施例中，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距与相邻两个所述第二开口的间距比值为1.01～1.20。

在其中一个实施例中，所述掩膜板相邻两个所述第一蒸镀孔的间距大于相邻两个所述第二蒸镀孔的间距。

在其中一个实施例中，所述掩膜板的所述第一蒸镀孔的宽度与所述第二蒸镀孔的宽度的比值为0.80～0.99。

在其中一个实施例中，所述掩膜板的所述蒸镀孔的顶部宽度小于所述蒸镀孔底部的宽度。

在其中一个实施例中，在基板上形成具有多个开口的像素定义层，通过如下步骤实现：

在基板上形成像素定义材料层；

通过构图工艺图案化所述像素定义材料层，以形成具有多个开口的像素定义层。

上述显示面板的制备方法，通过使像素定义层的相邻第一开口的间距小于相邻第二开口的间距，或者，使掩膜板第一蒸镀孔的宽度小于第二蒸镀孔的宽度，可以有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

附图说明

图1为本发明一实施例中显示面板的结构示意图；

图2为本发明一实施例中显示面板另一角度的局部示意图；

图3为现有技术显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图；

图4为本发明一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图；

图5为本发明一实施例中掩膜板的结构示意图；

图6为本发明另一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图；

图7为本发明另一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。

请参阅图1及图2，其分别为本发明一实施例中显示面板的结构示意图及另一角度的局部示意图。

显示面板10，包括多个用于显示图像的像素，包括：基板100、像素定义层200及发光层300，像素定义层200设置于基板100，像素定义层200具有与多个像素对应的多个开口210，开口210包括位于四周区域的第一开口211，以及位于中间区域的第二开口212，相邻两个第一开口211的间距大于相邻两个第二开口212的间距，发光层300形成在与像素对应的开口210内。

具体地，像素定义层200相邻两个第一开口211的间距与相邻两个第二开口212的间距的比值为1.01～1.20，进一步地，像素定义层200相邻两个第一开口211的间距与相邻两个第二开口212的间距的比值为1.01～1.10，这样，可以避免显示面板中间区域与四周区域发光不均匀的问题，同时还可以避免相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题。

在本发明一实施例中，像素定义层200的相邻开口210之间的间距从中间区域向四周区域逐渐增加，更好地避免四周区域相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题。

请参阅图2，第一开口211的宽度小于第二开口212的宽度。换言之，通过减少第一开口211的宽度以增加相邻两个第一开口211之间的距离，即，使四周区域与中间区域的单位面积内的开口数量相等，以避免显示面板四周区域与中间区域发光不均匀的问题。

在本实施例中，像素定义层200上还设置有垫块220，以支撑显示面板，防止封装过程中对显示面板造成损伤。

上述显示面板，由于像素定义层位于相邻两个第一开口的间距大于相邻两个第二开口的间距，可以避免相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题。

本发明提供一种显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S110、在基板上形成具有多个开口的像素定义层。

具体地，步骤S110包括如下步骤：

S111、在基板上形成像素定义材料层。

具体地，通过旋涂、刮涂等方法在基板上形成像素定义材料层。例如，所述像素定义材料层为光刻胶层。

需要说明的是，本发明实施例中的基板是形成像素定义层之前的基板，其可以是基板也可以是在基板上形成多个薄膜或层的得到的结构，例如，基板为玻璃、硅片、石英等。

S112、通过构图工艺图案化所述像素定义材料层，以形成具有多个开口的像素定义层，使所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，且相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距。

例如，利用掩膜板通过构图工艺对所述像素定义材料层进行曝光、显影，以在所述像素定义材料层上形成具有多个开口的像素定义层，使所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，且相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距。具体地，相邻两个第一开口的间距与相邻两个第二开口的间距的比值为1.01～1.20，进一步地，相邻两个第一开口的间距与相邻两个第二开口的间距的比值为1.01～1.10。

需要说明的是，为了便于封装，提高封装良率，在形成像素定义层之后，还包括在像素定义层上形成垫块，以支撑显示面板，防止封装过程中对显示面板造成损伤。

S120、利用掩膜板使发光层形成在与所述像素对应的开口内，所述掩膜板包括蒸镀孔多个呈阵列式分布的蒸镀孔，发光材料通过所述掩膜板的所述蒸镀孔沉积于所述开口内，形成发光层。

可以理解，在实际生产中，受限于基板的变形量、掩膜板承载平台的平坦度、对位机构中磁力大小与磁力均匀性等因素影响，基板与掩膜板之间存在间隙，而基板与掩膜板贴合不好的区域一般位于基板的四周。请参阅图3，其为现有技术显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图。由于现有技术中，显示面板中像素定义层200四周区域的开口210之间的间距与中间区域的开口210的间距相等，将发光材料蒸镀至待蒸镀像素的开口210形成发光层时，请参阅图3，四周区域的发光材料通过掩膜板20的蒸镀孔201形成的蒸镀轨迹会进入待蒸镀像素的开口210以外非蒸镀像素的开口210的区域，例如，当红色发光材料需要蒸镀至红色像素对应的开口210内时，由于基板100与掩膜板20之间的贴合间隙，红色发光材料通过掩膜板20的蒸镀孔201可能蒸镀至与红色像素对应的开口210相邻的绿色像素或蓝色像素对应的开口210内，造成混色现象。

请参阅图4，其为本发明一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图。请一并参阅图5，由于像素定义层200相邻两个第一开口211之间的间距大于相邻两个第二开口212之间的间距，同时像素定义层200第一开口211的宽度小于第二开口212的宽度，将发光材料蒸镀至待蒸镀像素的开口210形成发光层时，四周区域发光材料通过掩膜板20的蒸镀孔201形成的蒸镀轨迹不能进入其他非蒸镀像素的第一开口211内，有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

进一步地，所述像素定义层相邻两个第一开口211之间的间距与相邻两个第二开口之间的间距的比值为1.01～1.20，更进一步地，所述像素定义层相邻两个第一开口211之间的间距与相邻两个第二开口之间的间距的比值为1.01～1.10，以避免显示面板中间区域与四周区域发光不均匀的问题，同时还可以避免相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题。

在本实施例中，第一开口211围绕第二开口212设置，第一开口211所在的四周区域与第二开口212所在的中间区域的面积比值为1：2。在其他实施例中，四周区域与中间区域的面积比值可以根据基板与掩膜板贴合间隙，掩膜板平坦度，掩膜板蒸镀孔位置的精度，掩膜的蒸镀孔大小的精度，像素定义层位置的精度，像素定义层的大小精度计算得出。

上述显示面板的制备方法，通过使相邻第一开口之间的间距大于相邻第二开口之间的间距，可以有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

本发明另一实施例中显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S210、在基板上形成包括多个开口的像素定义层。

具体地，步骤S210包括如下步骤：

S211、在基板上形成像素定义材料层。

具体地，通过旋涂、刮涂等方法在基板上形成像素定义材料层。例如，所述像素定义材料层为光刻胶层。

需要说明的是，本发明实施例中的基板是形成像素定义层之前的基板，其可以是基板也可以是在基板上形成多个薄膜或层的得到的结构。

S212、通过构图工艺图案化所述像素定义材料层，以形成包括多个呈阵列分布的开口的像素定义层。

例如，利用掩膜板通过构图工艺对所述像素定义材料层进行曝光、显影，以在所述像素定义材料层上形成多个开口的像素定义层，且所述像素定义层的所述开口均相等。

S220、利用掩膜板使发光层形成在与所述像素对应的开口内，所述掩膜板包括多个蒸镀孔，发光材料通过所述掩膜板的所述蒸镀孔沉积于所述开口内，形成发光层，所述蒸镀孔呈阵列式分布，包括位于四周区域的第一蒸镀孔，以及位于中间区域的第二蒸镀孔。

请参阅图5，其为本发明一实施例中掩膜板的结构示意图。掩膜板20包括呈阵列式分布的蒸镀孔，包括位于四周区域的第一蒸镀孔201，以及位于中间区域的第二蒸镀孔202，且第一蒸镀孔201的宽度小于第二蒸镀孔202的宽度，相邻两个第一蒸镀孔201之间的间距大于相邻两个第二蒸镀孔202之间的间距。具体地，第一蒸镀孔201的宽度与第二蒸镀孔202的宽度的比值为0.80～0.99。进一步地，第一蒸镀孔201的宽度与第二蒸镀孔202的宽度的比值为0.90～0.99。

在本发明一实施例中，掩膜板20的所述蒸镀孔的顶部宽度小于所述蒸镀孔底部的宽度，即，所述蒸镀孔靠近所述基板一侧的宽度小于蒸镀孔远离所述基板一侧的宽度。

在本实施例中，掩膜板第一蒸镀孔201位于第二蒸镀空202的两侧，第一蒸镀孔201所在的四周区域与第二蒸镀孔202所在的中间区域的面积比值为1：3。在其他实施例中，掩膜板第一蒸镀孔所在区域与第二蒸镀孔所在区域的面积比值可以根据基板与掩膜板贴合间隙，掩膜板平坦度，掩膜板蒸镀孔位置的精度，掩膜的蒸镀孔大小的精度，像素定义层位置的精度，像素定义层的大小精度计算得出。

请参阅图6，其为本发明一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图。将发光材料蒸镀至待蒸镀像素的开口210形成发光层时，由于掩膜板20第一蒸镀孔201的宽度小于第二蒸镀孔202的宽度，相邻第一蒸镀孔201之间的间距大于第二蒸镀孔202之间的间距，四周区域发光材料通过掩膜板20的蒸镀孔201形成的蒸镀轨迹不能进入其他非蒸镀像素的第一开口211内，有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

上述显示面板的制备方法，通过使掩膜板第一蒸镀孔的宽度小于第二蒸镀孔的宽度，可以有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

本发明另一实施例中显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S310、在基板上形成包括多个开口的像素定义层。

具体地，步骤S310包括如下步骤：

S311、在基板上形成像素定义材料层。

具体地，通过旋涂、刮涂等方法在基板上形成像素定义材料层。例如，所述像素定义材料层为光刻胶层。

需要说明的是，本发明实施例中的基板是形成像素定义层之前的基板，其可以是基板也可以是在基板上形成多个薄膜或层的得到的结构。

S312、通过构图工艺图案化所述像素定义材料层，以形成包括多个呈阵列分布的开口的像素定义层，使所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，且相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距。

例如，利用掩膜板通过构图工艺对所述像素定义材料层进行曝光、显影，以在所述像素定义材料层上形成具有多个开口的像素定义层，使所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，且相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距。具体地，相邻两个第一开口的间距与相邻两个第二开口的间距的比值为1.01～1.20。进一步地，相邻两个第一开口的间距与相邻两个第二开口的间距的比值为1.01～1.10。

S320、利用掩膜板使发光层形成在与所述像素对应的开口内，所述掩膜板包括多个蒸镀孔，发光材料通过所述掩膜板的所述蒸镀孔沉积于所述开口内，形成发光层，所述蒸镀孔呈阵列式分布，包括位于四周区域的第一蒸镀孔，以及位于中间区域的第二蒸镀孔。

具体地，掩膜板20包括呈阵列式分布的蒸镀孔，包括位于四周区域的第一蒸镀孔201，以及位于中间区域的第二蒸镀孔202，且第一蒸镀孔201的宽度小于第二蒸镀孔202的宽度，相邻两个第一蒸镀孔201之间的间距大于相邻两个第二蒸镀孔202之间的间距。

请参阅图7，其为本发明一实施例中显示面板与掩膜板在显示面板制备过程中的局部结构示意图。将发光材料蒸镀至待蒸镀像素的开口210形成发光层时，由于掩膜板20第一蒸镀孔201的宽度小于第二蒸镀孔202的宽度，相邻第一蒸镀孔201之间的间距大于第二蒸镀孔202之间的间距，同时像素定义层200相邻两个第一开口211之间的间距大于相邻两个第二开口212之间的间距，同时像素定义层200第一开口211的宽度小于第二开口212的宽度，四周区域的发光材料通过掩膜板20的蒸镀孔201形成的蒸镀轨迹不能进入其他非蒸镀像素的第一开口211内，有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

例如，像素定义层相邻两个第一开口211之间的间距与相邻两个第二开口212的间距的比值为1.05；并且，掩膜板20第一蒸镀孔201的宽度与第二蒸镀孔202的宽度的比值为0.95；这样，整体形成一个两层缓冲结构，避免了四周区域的发光材料通过掩膜板的蒸镀孔形成的蒸镀轨迹进入待蒸镀像素的开口以外非蒸镀像素的开口的区域，从而巧妙地预防了混色现象，具有较好的应用价值，特别适合应用于智能终端的显示面板，也适用于大屏幕显示器。

上述显示面板的制备方法，通过使像素定义层相邻两个第一开口之间的间距大于相邻两个第二开口之间的间距，或者使掩膜板第一蒸镀孔的宽度小于第二蒸镀孔的宽度，可以有效避免了相邻不同颜色的像素区域的发光层混色的问题，提升了蒸镀良率。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括多个用于显示图像的像素，其特征在于，包括：

基板；

像素定义层，设置于所述基板，所述像素定义层具有与多个像素对应的多个开口，所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口，其中，相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距；

发光层，形成在与所述像素对应的所述开口内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一开口的宽度小于所述第二开口的宽度。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距与相邻两个所述第二开口的间距比值为1.01～1.20。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开口呈阵列式分布。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

在基板上形成具有多个开口的像素定义层，所述开口包括位于四周区域的第一开口，以及位于中间区域的第二开口；

利用掩膜板使发光层形成在与所述像素对应的开口内，所述掩膜板包括多个蒸镀孔，发光材料通过所述掩膜板的所述蒸镀孔沉积于所述开口内，形成发光层，所述蒸镀孔呈阵列式分布，包括位于四周区域的第一蒸镀孔，以及位于中间区域的第二蒸镀孔；

其中，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距大于相邻两个所述第二开口的间距；或者，所述掩膜板的所述第一蒸镀孔的宽度小于所述第二蒸镀孔的宽度。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述像素定义层相邻两个所述第一开口的间距与相邻两个所述第二开口的间距比值为1.01～1.2。

7.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述掩膜板相邻两个所述第一蒸镀孔的间距大于相邻两个所述第二蒸镀孔的间距。

8.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述掩膜板的所述第一蒸镀孔的宽度与所述第二蒸镀孔的宽度的比值为0.80～0.99。

9.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述掩膜板的所述蒸镀孔的顶部宽度小于所述蒸镀孔底部的宽度。

10.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在基板上形成具有多个开口的像素定义层，通过如下步骤实现：

在基板上形成像素定义材料层；

通过构图工艺图案化所述像素定义材料层，以形成具有多个开口的像素定义层。