CN203976642U - 碗托式自动浸釉装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种式碗托式自动浸釉装置,包括支座、滑块、吸盘,碗坯放在碗托上加工的凹槽中,横向移动电机通过驱动横向移动机构将纵向移动机构移动到碗托的上方,纵向移动电机使滑块向下移动,横向移动机构和纵向移动机构协同动作使碗坯进入釉池上釉,待上釉完成后纵向移动机构是碗托和碗坯离开釉水面,纵向移动机构和横向移动机构再次协同动作将碗托和碗坯送到传送机架上,从而完成整个上釉过程。本装置用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工序,解决目前在工厂使用的一些上釉装置存在的驱动机构复杂、上釉效率不高、上釉存在死角的缺陷。
Description
技术领域
本实用新型涉及日用陶瓷生产设备,特别是日用陶瓷自动上釉装置。
背景技术
在以往的日用陶瓷生产中,各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因,施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉,手工浸釉生产效率低,同时由于在施釉过程中手指接触坯体,使坯体在施釉后留下手指印,影响坯体的施釉质量。另外,由于釉水中加有多种化工材料,这些化工材料对人体有腐蚀作用,长期手工浸釉对人体有危害。
为了提高生产效率,提高产品质量,改善工人生产环境,降低成本等,技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中,针对陶瓷上釉工序的技术文献有:
1、专利文献【公开号:CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”, 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置,以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高,但结构复杂,成本高,并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。
2、专利文献【公开号:CN2647444】公开了一种“上釉机”。该上釉机通过将往复机构及转角机构相组合喷枪机构并以控制器控制的电动机作为动力源来实现上釉,其喷枪机构布置在机架上,机架上同时还布置有工件装夹机构等。该上釉机适用于对有波纹环的圆柱形工件外表面进行上釉处理,不适于异形工件的上釉处理。
3、专利文献【公开号:CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”, 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰,这种方式的上釉能量消耗巨大,不适用大批量生产制造过程。
4、专利文献【公开号:CN202246453U】公开了“一种上釉装置”,该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐,通过打釉泵将釉料送入稳压罐中,再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程,这种工艺过程过于繁琐,生产效率低,其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化,导致其上釉质量不稳定。
5、专利文献【公开号:CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”,该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘,电机固定在支撑架上;电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序,其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积,使得一次上釉的面积减少,影响生产效率。
6、专利文献【公开号:CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”,该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序,但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格,若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致,直接影响成品率。
7、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中,储釉筒壁上设有吸釉孔,以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用,在生产过程发现,吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中,碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些,对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉,碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大,坯体上釉不合格。
综上所述,现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度有待提高等缺陷。
发明内容
本实用新型提供一种碗托式自动浸釉装置,用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤,使其能够解决现有的上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度不高的缺陷。
一种碗托式自动浸釉装置,碗坯被限定在碗托上加工的凹槽中,碗托则由传送机架一和传送机架二传送,吸盘与吸盘安装板连接,所述吸盘安装板则固定连接在纵向移动机构上,所述纵向移动机构与横向移动机构连接,横向移动机构则安装在支座上。所述横向移动机构包括滑块一、连接块一、机架一、横向移动电机,所述横向移动电机固定在机架一一端,滑块一则与机架一形成移动副,连接块一安装在滑块一上。所述纵向移动机构包括滑块二、机架二、纵向移动电机,所述纵向移动电机固定在机架二一端,滑块二则与机架二形成移动副。
所述碗托上加工有凹槽,用于放置碗坯和与吸盘连接,在除与吸盘接触的部位外均加工有小孔。
本实用新型的显著效果在于:
1、本实用新型为流水线式结构,浸釉部分的体积小,同时也易于与其他自动化装置对接;
2、上釉过程是将碗坯直接浸入到釉池当中,且碗坯是倒扣在碗托的圆形凹槽中,在碗托的圆形凹槽中开有孔,因此釉水可以直接浸泡碗坯内外表面,明显无死角,上釉质量能得到绝对的保证;
3、碗托上开有多个圆形凹槽用于限定碗坯在碗托上的位置,因此可以一次给多个碗坯上釉,上釉效率高;
4、本装置的碗托的形状可以根据需要对其更改以适应碗坯的形状变化,因此本装置对异形碗坯的适应性也很好。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
其中:1-支座;2-滑块一;3-连接块一;4-机架一;5-横向移动电机;6-传送架一;7-传送架一电机;8-纵向移动电机;9-机架二;10-吸盘安装板;11-碗坯;12-釉池;13-机架二安装板;14-滑块二;15-吸盘;16-传送架二;17-传送架二电机;18-碗托。
图2为本实用新型两工位示意图。
图3为局部C的碗坯运动机构放大示意图。
具体实施方式
对照图2、3,首先是确定碗坯11的位置,碗坯11放在碗托18上的凹槽中,碗托18则放在传送架二16上,在传送架二电机17的驱动下机架二9将碗托18和碗坯11送到工位A,从而完成碗坯11的上釉的前期准备。
对照图1,横向移动机构则安装在支座1上,待碗坯11处于工位A时,横向移动电机5动作驱动滑块一2、连接块一3,连接块一3则通过机架二安装板13驱动纵向移动机构运动到工位A的碗坯11上方,随后纵向移动电机8动作,驱动滑块二14运动,滑块二14驱动吸盘安装板10向下运动,待吸盘15吸住碗托18后纵向移动电机8动作驱动滑块二14使碗托18向上运动,然后横向移动机构和纵向移动机构协同动作使碗托18和碗坯11进入釉池12当中对碗坯11全方位的上釉,当上釉完成后,纵向移动机构使碗坯11离开釉池12釉水面,随后横向移动机构动作使碗托18运动到工位B的上方,纵向移动电机8使滑块二14向下运动将碗托18连同碗坯11放在传送架一6上,传送架一电机7使碗托18在传送架一6上移动,进入日用陶瓷生产的下一道工序从而完成了整个上釉过程,同时横向移动机构继续动作使纵向移动机构运动工位A传送架二16的上方,重复前述的过程不断工作。
Claims (2)
1. 一种碗托式自动浸釉装置,碗坯(11)被限定在碗托(18)上加工的凹槽中,碗托(18)则由传送架一(6)和传送架二(16)传送,吸盘(15)与吸盘安装板(10)连接,其特征在于:所述吸盘安装板(10)则固定连接在纵向移动机构上,所述纵向移动机构与横向移动机构连接,横向移动机构则安装在支座(1)上;所述横向移动机构包括滑块一(2)、连接块一(3)、机架一(4)、横向移动电机(5),所述横向移动电机(5)固定在机架一(4)一端,滑块一(2)则与机架一(4)形成移动副,连接块一(3)固定在滑块一(2)上;所述纵向移动机构包括滑块二(14)、机架二(9)、纵向移动电机(8),所述纵向移动电机(8)固定在机架二(9)一端,滑块二(14)则与机架二(9)形成移动副。
2. 根据权利要求1所述的碗托式自动浸釉装置,其特征在于:所述碗托(18)上加工有凹槽,用于放置碗坯(11)和与吸盘(15)连接,在除与吸盘(15)接触的部位外均加工有小孔。
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CN107415035A (zh) * | 2017-08-31 | 2017-12-01 | 吴素贞 | 一种陶瓷生产用高效上釉机 |
CN108608564A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-10-02 | 安徽省亚欧陶瓷有限责任公司 | 一种立式转盘自动浸釉装置 |
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