CN203751880U - 磨边设备真空平台 - Google Patents

Abstract

一种磨边设备真空平台，包括真空平台本体，所述真空平台本体一端面为工作台面，所述工作台面间隔设置有多个真空吸嘴，所述真空吸嘴顶部凸出于所述工作台面，所述真空吸嘴开设有真空吸附孔，所述真空吸附孔连通真空发生装置；由于真空吸嘴与工作台面间具有高度差，故而研磨过程中清洗液沿玻璃流至工作台面，而不会自真空吸嘴进入真空吸附孔，真空平台取放玻璃时不会因真空吸附孔堵塞而宕机，稼动率和工作可靠性提高。

Description

磨边设备真空平台

技术领域

本实用新型涉及磨边设备技术领域，特别是涉及一种磨边设备真空平台。

背景技术

磨边设备是TFT-LCD、OLED等半导体行业中必备的生产设备。该设备在TFT-LCD、OLED行业中起到对产品的边缘锐角钝化及边缘应力的消除的主要作用。

磨边设备主要是利用磨轮对玻璃边缘研磨，为避免研磨产生的玻璃屑残留在玻璃表面，故在研磨过程中采用大量的水清洗玻璃边缘。研磨过程中为避免玻璃位移，多使用真空平台固定玻璃。即，通过可抽取空气形成真空的真空发生装置，产生真空负压，将玻璃吸附于平台上固定。当玻璃在磨边设备的平台上完成研磨后，平台上的玻璃需破除真空负压状态以便玻璃传送到下一个单元。此时出现一个问题即磨边过程使用的清洗水会沿着玻璃下表面与真空平台的缝隙渗进设备台面的真空吸附孔，造成真空吸附孔的堵塞；当下一片玻璃开始放上平台后造成真空吸附异常，甚至导致设备宕机，大大降低设备稼动率和工作可靠性。

实用新型内容

基于此，有必要针对真空吸附孔易堵塞，设备稼动率和工作可靠性的问题，提供一种磨边设备真空平台。

一种磨边设备真空平台，包括真空平台本体，所述真空平台本体一端面为工作台面，所述工作台面间隔设置有多个真空吸嘴，所述真空吸嘴顶部凸出于所述工作台面，所述真空吸嘴开设有真空吸附孔，所述真空吸附孔连通真空发生装置。

在其中一实施例中，每个所述真空吸嘴密集开设有多个真空吸附孔。

在其中一实施例中，所述真空吸嘴通过安装板安装于所述工作台面，所述安装板呈阵列间隔布置于所述工作台面，每一安装板安装有多个所述真空吸嘴。

在其中一实施例中，所述工作台面正对待加工工件边缘的位置开设有气流槽。

在其中一实施例中，所述气流槽沿工作台面周缘呈条状间隔设置。

在其中一实施例中，所述气流槽槽顶自内向工作台面边缘倾斜。

上述磨边设备真空平台，真空吸嘴顶部凸出于所述工作台面，所述真空吸嘴开设有真空吸附孔，所述真空吸附孔连通真空发生装置；由于真空吸嘴与工作台面间具有高度差，故而研磨过程中清洗液沿玻璃流至工作台面，而不会自真空吸嘴进入真空吸附孔，真空平台取放玻璃时不会因真空吸附孔进液堵塞而宕机，提高了设备稼动率和工作可靠性。

附图说明

图1为磨边设备真空平台的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳的实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

如图1所示，一种磨边设备真空平台，包括真空平台本体100，所述真空平台本体100一端面为工作台面120，所述工作台面120间隔设置有多个真空吸嘴140，所述真空吸嘴140顶部凸出于所述工作台面120，所述真空吸嘴140开设有真空吸附孔（图未示），所述真空吸附孔连通真空发生装置（图未示）。

工作过程中，研磨玻璃时，将待研磨玻璃置于所述真空平台本体100的工作台面120，真空发生装置启动，通过真空吸附孔抽离玻璃与真空吸嘴140贴合面的空气，从而将玻璃吸附于真空吸嘴140，以固定玻璃位置，开始研磨。研磨过程中，通过清洗液冲洗玻璃表面的研磨碎屑，清洗液沿玻璃边缘流至所述工作台面120，由于真空吸嘴140与工作台面120间具有高度差，故而清洗液不会自真空吸嘴140进入真空吸附孔，真空平台取放玻璃时不会因真空吸附孔进液堵塞而宕机，工作可靠性提高。

研磨完毕后，破除真空吸嘴140与玻璃间的真空吸附状态，即可移走玻璃而进行下一工作循环。

应当理解的是，上述工作过程仅以玻璃作为待加工工件进行研磨加工为示例，事实上，本磨边设备真空平台亦适用于如陶瓷、金属等其它板材的加工，只要工件具有平滑表面易于被真空吸附即可；且适用于如切割等其它加工工序。

还请参阅图1，在其中一实施例中，每个所述真空吸嘴140密集开设有多个真空吸附孔。如此，即便有微量清洗液沿工件表面渗入真空吸嘴140与工件的贴合面，亦不会造成真空吸嘴140全部堵塞，保证了所述真空吸嘴140的真空吸附能力，进一步提高了设备工作可靠性。

在其中一实施例中，所述真空吸嘴140通过安装板160安装于所述工作台面120，所述安装板160呈阵列间隔布置于所述工作台面120，每一安装板160安装有多个所述真空吸嘴140。如图1所示的一个实施例中，即是在一个案子板160上安装有三个真空吸嘴140，多个安装板160阵列布置于工作台面120，从而使所有真空吸嘴140整体呈阵列布置。通过所述安装板160，所述真空吸嘴140整体呈阵列分布于所述工作台面120，避免了真空吸嘴140与工作台面120间因具有高度差而导致的工件翘曲，进一步提高了工件加工良率。

请继续参与图1，在其中一实施例中，所述工作台面120正对待加工工件边缘的位置开设有气流槽180。所述的气流槽180与气体输送装置（图未示）连通。研磨过程中，气体输送装置通过所述气流槽180做出抽吸动作，以引导流至工件背面的清洗液落至工作台面120。而研磨结束后，破除真空状态时，还可通过所述气流槽180作出吹气动作，进一步将工件背面残留的清洗液吹走，从而避免微量清洗液渗入真空吸嘴140与工件的贴合面，进一步杜绝了清洗液侵入真空吸附孔，提高了设备稼动率和工作可靠性。

应当理解的是，所述气流槽180若仅具有吹气功能，或仅具有抽吸气体功能，亦或同时具有抽吸及吹气功能，均可实现使气流作用于工件表面而阻挡清洗液沿工件背面渗入真空吸嘴140与工件的贴合面。还应当理解的是，即使不开设所述气流槽180，亦不影响因设置真空吸嘴140与工作台面120间具有高度差而阻挡清洗液流入真空吸附孔的目的，故而所述气流槽180的设置并非必要的。

在其中一实施例中，所述气流槽180沿工作台面120周缘呈条状间隔设置。沿工作台面120的周缘的气流槽180与工件形状相匹配，以便全方位使气流作用于工件表面而阻挡清洗液沿工件背面渗入真空吸嘴140与工件的贴合面。气流槽180呈条状设置有利于约束气流流向。气流槽180间隔设置，可利用相邻两个气流槽180的气流重叠区对应间隔。应当理解的是，在其它实施例中，所述气流槽180亦可为沿工作台面120周缘呈孔状等其它方式布置。

在其中一实施例中，所述气流槽180槽顶自内向工作台面120边缘倾斜。如此，一方面可以使气流斜向作用于工件背面，从而更好地将清洗液驱离工件背面；另一方面，亦可对流至工作台面120的清洗液进行引流，便于清洗液的回收。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (6)

1.一种磨边设备真空平台，包括真空平台本体，所述真空平台本体一端面为工作台面，其特征在于，所述工作台面间隔设置有多个真空吸嘴，所述真空吸嘴顶部凸出于所述工作台面，所述真空吸嘴开设有真空吸附孔，所述真空吸附孔连通真空发生装置。

2.根据权利要求1所述的磨边设备真空平台，其特征在于，每个所述真空吸嘴密集开设有多个真空吸附孔。

3.根据权利要求1所述的磨边设备真空平台，其特征在于，所述真空吸嘴通过安装板安装于所述工作台面，所述安装板呈阵列间隔布置于所述工作台面，每一安装板安装有多个所述真空吸嘴。

4.根据权利要求1～3任意一项所述的磨边设备真空平台，其特征在于，所述工作台面正对待加工工件边缘的位置开设有气流槽。

5.根据权利要求4所述的磨边设备真空平台，其特征在于，所述气流槽沿工作台面周缘呈条状间隔设置。

6.根据权利要求5所述的磨边设备真空平台，其特征在于，所述气流槽槽顶自内向工作台面边缘倾斜。