CN202357535U - Pvc无缝镭射膜 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种PVC无缝镭射膜属于包装材料技术领域，尤其涉及一种PVC镭射膜的改进。本实用新型就是提供一种使用效率高、损耗小的PVC无缝镭射膜。本实用新型包括三层结构，依次为基膜层、镭射层和镀铝层；所述的基膜层为PVC（聚氯乙烯），厚度为35～50μm，所述的镭射层为硝基纤维素，厚度为1.0～1.2μm，所述的镀铝层为纯铝，厚度为0.04～0.05μm。本实用新型为无版缝产品，不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗，大大提高了生产效率，适于应用和推广。

Description

PVC无缝镭射膜

技术领域

本实用新型属于包装材料技术领域，尤其涉及一种PVC镭射膜的改进。

背景技术

镭射包装是包装行业中的一个细分行业，近年来取得了快速的发展，与包装行业内的其他产品相比，镭射包装材料不仅具有新颖、亮丽的外观效果，同时还具有高技术防伪功能，被称为世界包装印刷业中最前沿的技术产品。

镭射膜一般采用计算机点阵光刻技术、3D真彩色全息技术、多重与动态成像技术等，经模压把具有彩虹动态、三维立体效果的全息图像转移到PET、BOPP、PVC或带涂层的基材上，然后利用复合、烫印、转移等方式使商品包装表面获得某种激光镭射效果。目前镭射材料的应用领域已经非常广泛，在食品、药品、日化用品、烟酒、服装、礼品包装以及装饰材料等行业都得到较快的推广。

从产品成分构成上划分，镭射薄膜产品可以大致分为OPP镭射膜、PET镭射膜和PVC镭射膜三种。

目前，镭射膜的制作工艺比较复杂，它采用的是真空腔镀铝方式，即将蒸发舟加热至1400—1500℃，连续送到蒸发舟上的铝丝冷化成铝蒸汽，由于基膜具有静电吸附力，将铝分子吸附在薄膜表面，再经过冷却沉积，从而将铝均匀地喷镀在连续卷取的薄膜表面形成镀铝膜，再经过激光雕刻的镭射版包在辊筒上，在130℃的温度下模压后，形成镭射膜。由于镭射版包在辊筒上，不能够完全无缝结合，于是就在镭射膜上留下了0.5mm-2mm的版缝，后续的印刷或者包装过程中必须要避开版缝，这样会带来工艺上的缺陷和大量的损耗。 

实用新型内容

本实用新型就是针对现有技术存在的不足，而提供一种使用效率高、损耗小的PVC无缝镭射膜。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：本实用新型包括三层结构，依次为基膜层、镭射层和镀铝层；所述的基膜层为PVC（聚氯乙烯），厚度为35～50μm，所述的镭射层为硝基纤维素，厚度为1.0～1.2μm，所述的镀铝层为纯铝，厚度为0.04～0.05μm。

优选地，所述的PVC为软质或硬质基膜层。

有益效果：

本实用新型为无版缝产品，不会给后续的印刷或者包装生产带来大量的损耗，大大提高了生产效率，适于应用和推广。

附图说明

图1 是本实用新型的结构示意图。

1-基膜层；2-镭射层；3-镀铝层。

具体实施方式

以下结合附图，对本实用新型作进一步的说明：

如图1所示，PVC无缝镭射膜包括三层结构，依次为基膜层1、镭射层2和镀铝层3，基膜层1的材料是软质或者硬质PVC，厚度为35～50μm，所述的镭射层2为硝基纤维素，厚度为1.0～1.2μm，所述的镀铝层3为纯铝，厚度为0.04～0.05μm，加强镭射层2的反射效果。

实施例一：基膜层1为硬质PVC，厚度为35μm，镭射层2厚度为1.2μm，镀铝层3厚度为0.05μm。

实施例二：基膜层1为软质PVC，厚度为50μm，镭射层2厚度为1.0μm，镀铝层3厚度为0.04μm。

Claims (4)

1.一种PVC无缝镭射膜，包括三层结构，其特征在于：依次为基膜层、镭射层和镀铝层；所述的基膜层为PVC（聚氯乙烯），厚度为35～50μm，所述的镭射层为硝基纤维素，厚度为1.0～1.2μm，所述的镀铝层为纯铝，厚度为0.04～0.05μm。

2.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的PVC为软质或硬质基膜层。

3.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的基膜层为硬质PVC，厚度为35μm，镭射层厚度为1.2μm，镀铝层厚度为0.05μm。

4.根据权利要求1所述的PVC无缝镭射膜，其特征在于：所述的基膜层为软质PVC，厚度为50μm，镭射层厚度为1.0μm，镀铝层厚度为0.04μm。

Images