CN202323100U - 直拉八英寸硅单晶热场 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种直拉八英寸硅单晶热场,所述护盘压片设于下护盘压片之上,下护盘压片和护盘压片之间填充有石墨毡;主保温筒的底部与下保温筒卡接,下保温筒底部与下护盘压片卡接,下护盘压片底部与炉底支撑环卡接;所述外导流筒置于导流筒支撑环上,内导流筒卡在外导流筒上,且内导流筒和外导流筒之间的间隙填充有石墨毡;本热场结构紧凑、保温性能更好、等径平均拉速提高,降低了等径功耗,节约了生产成本,提高生产效率。

Description

直拉八英寸硅单晶热场
技术领域
本实用新型涉及一种直拉八英寸硅单晶热场,属于硅单晶热场技术领域。
背景技术
太阳能是未来最清洁、安全和可靠的能源,硅单晶太阳能电池是今后人类最重要的绿色能源之一。在现有工艺和条件下以及从电池性能上讲,硅单晶是制造太阳电池比较理想的材料,而优质参数的硅单晶是生产制作高效率太阳能电池的基本条件。
国际上直拉硅单晶主流产品是Φ200mm,逐渐向Φ300mm过渡,研制水平已经达到Φ400mm~450mm。在中国太阳能光伏领域,市场对八英寸硅片的需求增长非常大,尤其是近年来,八英寸硅单晶成为主流产品。
目前,国内生产八英寸硅单晶所使用的主要还是以20英寸热场为主,按照现有技术,拉制硅单晶所使用的常规20英寸热场存在功耗高、拉速低、石墨坩埚损耗大的问题。如附图1所示:现有20英寸的导流筒式热场中,热场部件包括石墨毡1-1、石墨压片1-2、排气口1-3、下石墨保温筒1-4、下石墨支撑环1-5、中轴加长轴1-6、主石墨保温筒1-7、加热器1-8、上支撑环1-9、中轴护套1-10、电极护套1-11、电极石英护套1-12、石墨中轴1-13、埚托1-14、石墨坩埚1-15、石英坩埚1-16、上部保温盖板1-17、熔硅1-18、顶部盖板1-21、外导流筒1-22、导流筒垫高环1-23、导流筒支撑环1-24、上石墨保温筒1-25、内导流筒1-26和定位环1-27。其具体结构为:在炉膛内径为850mm的单晶炉内安装以加热器1-8为核心的复合式热装置,籽晶1-20和硅单晶棒1-19置于石英坩埚1-16中,放入加热器1-8***安装主石墨保温筒1-7,主石墨保温筒1-7外面裹上石墨毡1-1。主石墨保温筒1-7位于下石墨支撑环1-5上的子口内,下石墨支撑环1-5位于下石墨保温筒1-4上,下石墨保温筒1-4的外面也包覆石墨毡1-1,下石墨保温筒1-4位于石墨压片1-2上的子口内,石墨压片1-2下垫上石墨毡1-1,主石墨保温筒1-7上沿盖有上支撑环1-9,上支撑环1-9下面的子口卡在主石墨保温筒1-7上,在上支撑环1-9上垫石墨毡1-1再在上面压上上部保温盖板1-17,上上石墨保温筒1-25放在上支撑环1-9的上并卡在子口内,在上上石墨保温筒1-25外包覆石墨毡1-1,导流筒支撑环1-24卡在上上石墨保温筒1-25上,导流筒支撑环1-24上垫导流筒垫高环1-23,外导流筒1-22上沿放在导流筒垫高环1-23上,定位环1-27紧贴导流筒垫高环1-23外沿放在导流筒支撑环1-24上,顶部盖板1-21下垫石墨毡1-1。石墨下轴1-13上放中轴加长轴1-6,中轴加长轴1-6支撑放埚托1-14。该导流筒式热场存在以下一些不足:
1、热场整体不够紧凑、保温效果差、能耗较高;
2、热场导流筒结构设计不合理导致氩气流动不畅、隔热效果不佳、外导流筒上沿外部易大量附着氧化硅挥发物、成晶不稳定;
3、单晶头部尾部的纵向温度梯度变化大,整体拉速较低; 
4、石墨坩埚结构不合理,使用寿命低。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:提供一种结构更加紧凑、保温性能更好、等径平均拉速提高、等径功耗得以降低的直拉八英寸硅单晶热场,从而能有效的解决上述现有技术中存在的问题。
本实用新型目的通过下述技术方案来实现:一种直拉八英寸硅单晶热场,包括石墨毡、炉底支撑环、电极护套、下护盘压片、石墨电极、下保温筒、埚托、石墨坩埚、加热器、主保温筒、上支撑环、上保温盖、电极螺栓、石墨中轴、中轴加长轴、上保温筒、外导流筒、导流筒支撑环、内导流筒、护盘压片和石英坩埚,主保温筒设于加热器***,加热器设于石墨电极上;加热器中间设石墨中轴,石墨中轴上设中轴加长轴,中轴加长轴支撑埚托;所述护盘压片设于下护盘压片之上,下护盘压片和护盘压片之间填充有石墨毡;主保温筒的底部与下保温筒卡接,下保温筒底部与下护盘压片卡接,下护盘压片底部与炉底支撑环卡接;所述外导流筒置于导流筒支撑环上,内导流筒卡在外导流筒上,且内导流筒和外导流筒之间的间隙填充有石墨毡;所述埚托支撑石墨坩埚,石英坩埚设于石墨坩埚内,且石英坩埚上沿高出石墨坩埚上沿。
作为优选,主保温筒上部与上支撑环卡接,上支撑环的上部与上保温筒下部卡接,上保温筒的上部与导流筒支撑环卡接。
作为进一步优选,所述主保温筒、下保温筒和上保温筒外均包覆有石墨毡。
作为进一步优选,导流筒支撑环上垫有石墨毡,石墨毡上方放上保温盖。
作为进一步优选,所述炉底支撑环内垫有石墨毡。
所述内、外导流筒之间的间隙加大,填充更多的石墨毡;石墨坩埚与石墨埚托之间的接触面积也增大。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果:本实用新型直拉八英寸硅单晶热场中,导流筒隔热效果好、大量减少了热量的散失,解决了外导流筒上沿外部大量附着氧化硅挥发物的现象;加强了热场保温、增大了晶体内部的纵向温度梯度、提高了整体拉速,更好的保证了成晶的稳定性,石墨坩埚的结构大幅延长了其使用寿命;因此,本实用新型直拉八英寸硅单晶热场整体结构更加紧凑、保温性能更好、等径平均拉速提高,降低了等径功耗,节约了生产成本,提高生产效率。
附图说明
图1是现有技术中热场的结构示意图。
图2是本实用新型中热场的结构示意图;
图3为图2中石墨坩埚的结构示意图;
图4为图2中导流筒的结构示意图。
现有技术图1中:1-1是石墨毡,1-2是石墨压片,1-3是排气口,1-4是下石墨保温筒,1-5是下石墨支撑环,1-6是中轴加长轴,1-7是主石墨保温筒,1-8是加热器,1-9是上支撑环,1-10是中轴护套,1-11是电极护套,1-12是电极石英护套,1-13是石墨中轴,1-14是埚托,1-15是石墨坩埚,1-16是石英坩埚,1-17是上部保温盖板,1-18是熔硅,1-19是硅单晶棒,1-20是籽晶,1-21是顶部盖板,1-22是外导流筒,1-23是导流筒垫高环,1-24是导流筒支撑环,1-25是上石墨保温筒,1-26是内导流筒,1-27是定位环。
本实用新型图2中:1是石墨毡,2是炉底支撑环,3是电极护套,4是下护盘压片,5是石墨电极,6是下保温筒,7是埚托,8是石墨坩埚,9是加热器,10是主保温筒,11是上支撑环,12是硅单晶棒,13是上保温盖,14是炉筒排气口,15是电极螺栓,16是石墨中轴,17是中轴加长轴,18是熔硅,19是上保温筒,20是外导流筒,21是导流筒支撑环,22是内导流筒,23是籽晶,24是护盘压片,25是石英坩埚。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了相互排斥的特质和/或步骤以外,均可以以任何方式组合,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换,即,除非特别叙述,每个特征之一系列等效或类似特征中的一个实施例而已。
实施例1
一种直拉八英寸硅单晶热场,如图2、图3、图4所示,热场包括石墨毡1、炉底支撑环2、电极护套3、下护盘压片4、石墨电极5、下保温筒6、埚托7、石墨坩埚8、加热器9、主保温筒10、上支撑环11、上保温盖13、电极螺栓15、石墨中轴16、中轴加长轴17、上保温筒19、外导流筒20、导流筒支撑环21、内导流筒22、护盘压片24和石英坩埚25,主保温筒10设于加热器9***,加热器9设于石墨电极5上;加热器9中间设石墨中轴16,石墨中轴16上设中轴加长轴17,中轴加长轴17支撑埚托7,所述护盘压片24设于下护盘压片4之上,下护盘压片4和护盘压片24之间填充有石墨毡1;主保温筒10的底部与下保温筒6卡接,下保温筒6底部与下护盘压片4卡接,下护盘压片4底部与炉底支撑环2卡接;所述外导流筒20置于导流筒支撑环21上,内导流筒22卡在外导流筒20上,且内导流筒22和外导流筒20之间填充有石墨毡1;所述埚托7支撑石墨坩埚8,石英坩埚25设于石墨坩埚8内,且石英坩埚25上沿高出石墨坩埚8上沿。
主保温筒10上部与上支撑环11卡接,上支撑环11的上部与上保温筒19下部卡接,上保温筒19的上部与导流筒支撑环21卡接;导流筒支撑环21上垫有石墨毡1,石墨毡1上设上保温盖13;所述主保温筒10、下保温筒6和上保温筒19外均包覆有石墨毡1;所述炉底支撑环2内垫有石墨毡1。
具体来说:本实用新型直拉八英寸硅单晶热场是在炉膛内径Φ=850mm单晶炉内安装以加热器9为核心的复合式热装置,加热器9***安装主保温筒10,主保温筒10外面裹上石墨毡1。主保温筒10座落在下保温筒6上的止口内,下保温筒6座落在下护盘压片4上的止口内,下护盘压片4下止口卡在炉底支撑环2上,炉底支撑环内垫上石墨毡1,主保温筒10上沿放上上支撑环11,上支撑环11下面的止口要卡在主保温筒10上,在上支撑环11上装上上保温筒19,上保温筒19卡在上支撑环11的上止口内,并在上保温筒19外裹上石墨毡1,导流筒支撑环21卡在上保温筒19上,外导流筒20下沿放在导流筒支撑环21上,内导流筒22卡在外导流筒20上,导流筒支撑环21上垫石墨毡1,石墨毡上盖上保温盖13。
石墨中轴16上放中轴加长轴17,中轴加长轴17支撑放埚托7,埚托7支撑石墨坩埚8,石英坩埚25座落在石墨坩埚8内,石英坩埚25上沿需高出石墨坩埚8上沿。
加热器9是坐在石墨电极5上的,石墨电极5通过螺纹紧固在通电金属电极上。
如图3所示:此石墨坩埚为三瓣坩埚本体配合而成,坩埚本体呈圆筒状,坩埚本体外表面内外圈具有间隔均匀且高度相同的小凸台。本实用新型热场中的石墨坩埚A处较原石墨坩埚厚3mm,石墨坩埚B处是易断裂处也加厚10-15mm,另外,增加了石墨坩埚C处,石墨坩埚D处直径缩小70-80mm,增加了石墨坩埚与埚托的接触面。
如图4所示:本实用新型热场中的导流筒是由内导流筒22与外导流筒20配合而成,所述外导流筒20的形状分为上、下两段,上段为垂直段、下端往内倾斜,内导流筒22的下法兰面平放在外导流筒20的上法兰面上,内导流筒22的下止口卡在外导流筒20的下止口上,内外导流筒配合好后内部留有一定空间,此处填充石墨毡1。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (5)

1.一种直拉八英寸硅单晶热场,包括石墨毡(1)、炉底支撑环(2)、电极护套(3)、下护盘压片(4)、石墨电极(5)、下保温筒(6)、埚托(7)、石墨坩埚(8)、加热器(9)、主保温筒(10)、上支撑环(11)、上保温盖(13)、电极螺栓(15)、石墨中轴(16)、中轴加长轴(17)、上保温筒(19)、外导流筒(20)、导流筒支撑环(21)、内导流筒(22)和石英坩埚(25),主保温筒(10)设于加热器(9)***,加热器(9)设于石墨电极(5)上;加热器(9)中间设石墨中轴(16),石墨中轴(16)上设中轴加长轴(17),中轴加长轴(17)支撑埚托(7);其特征在于:还包括护盘压片(24),所述护盘压片(24)设于下护盘压片(4)之上,下护盘压片(4)和护盘压片(24)之间填充有石墨毡(1);主保温筒(10)的底部与下保温筒(6)卡接,下保温筒(6)底部与下护盘压片(4)卡接,下护盘压片(4)底部与炉底支撑环(2)卡接;所述外导流筒(20)置于导流筒支撑环(21)上,内导流筒(22)卡在外导流筒(20)上,且内导流筒(22)和外导流筒(20)之间的间隙填充有石墨毡(1);所述埚托(7)支撑石墨坩埚(8),石英坩埚(25)设于石墨坩埚(8)内,且石英坩埚(25)上沿高出石墨坩埚(8)上沿。
2.根据权利要求1所述的直拉八英寸硅单晶热场,其特征在于:主保温筒(10)上部与上支撑环(11)卡接,上支撑环(11)的上部与上保温筒(13)下部卡接,上保温筒(13)的上部与导流筒支撑环(21)卡接。
3.根据权利要求2所述的直拉八英寸硅单晶热场,其特征在于:所述主保温筒(10)、下保温筒(6)和上保温筒(13)外均包覆有石墨毡(1)。
4.根据权利要求3所述的直拉八英寸硅单晶热场,其特征在于:导流筒支撑环(21)上垫有石墨毡(1),石墨毡(1)上方放上保温盖(13)。
5.根据权利要求1或4中任一权利要求所述的直拉八英寸硅单晶热场,其特征在于:所述炉底支撑环(2)内垫有石墨毡(1)。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104357896A (zh) * 2014-10-19 2015-02-18 镇江大成新能源有限公司 用于单晶硅制备的钼导流筒
CN105525346A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 镇江大成新能源有限公司 一种新型单晶炉
CN105887207A (zh) * 2014-10-21 2016-08-24 镇江大成新能源有限公司 一种低功耗的单晶炉
CN106319619A (zh) * 2016-11-02 2017-01-11 中国电子科技集团公司第四十六研究所 一种6英寸直拉重掺硅单晶无位错生长工艺及其热场***
CN115323479A (zh) * 2022-08-16 2022-11-11 晶澳太阳能有限公司 一种导流筒以及制备方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104357896A (zh) * 2014-10-19 2015-02-18 镇江大成新能源有限公司 用于单晶硅制备的钼导流筒
CN105525346A (zh) * 2014-10-21 2016-04-27 镇江大成新能源有限公司 一种新型单晶炉
CN105887207A (zh) * 2014-10-21 2016-08-24 镇江大成新能源有限公司 一种低功耗的单晶炉
CN106319619A (zh) * 2016-11-02 2017-01-11 中国电子科技集团公司第四十六研究所 一种6英寸直拉重掺硅单晶无位错生长工艺及其热场***
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