一种多晶硅生产用水处理***
技术领域
本实用新型属于水净化处理技术领域,具体的涉及一种多晶硅生产用水处理***。
背景技术
在多晶硅的生产过程中(如前期的生产,切片,清洗)需要大量的水,而且对所用水的要求要,但是现有的多晶硅生产用水含有少量的有机杂物、盐离子等有害杂质,严重影响了多晶硅生产效率,降低了产量和质量。例如,现有多晶硅生产用水中残留氯离子能够严重影响多晶硅反应速度,使其生产效率降低。
另外,现有多晶硅生产用水的处理过程中,对相关设备产生的浓水直接排放,这样不仅造成对环境的危害,而且浪费了水资源,增大了多晶硅的生产成本。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术之缺陷,提供一种操作简单,运行稳定,处理后的超纯水杂质少,水利用率高的多晶硅生产用水处理***。
为了实现上述实用新型目的,本实用新型的技术方案如下:
一种多晶硅生产用水处理***,包括依次连通的原水预处理装置、保安过滤器、反渗透装置、EDI装置、紫外线杀菌装置、精密过滤器和CDI装置。
优选地,上述反渗透装置包括依次连通的一级高压泵、一级反渗透装置、一级反渗透水箱、二级高压泵、二级反渗透装置和二级反渗透水箱,所述一级高压泵与所述保安过滤器连通,所述二级反渗透水箱与所述EDI装置连通。
进一步优选地,上述EDI装置的浓水出口与一级反渗透水箱的入水口连通。
进一步优选地,上述CDI装置的浓水出口与一级反渗透水箱的入水口连通。
进一步优选地,上述一级高压泵和/或二级高压泵的出水口还设置有电动慢开阀。
进一步优选地,上述多晶硅生产用水处理***还包括依次连通的原水箱和原水泵,所述原水泵与所述原水预处理装置连通。
更进一步优选地,上述二级反渗透装置的浓水出口与所述原水箱的入水口连通。
更进一步优选地,上述多晶硅生产用水处理***还包括第一换热器,所述第一换热器连通在所述原水预处理装置与保安过滤器之间。
具体地,上述原水预处理装置包括依次连通的多介质过滤器、活性碳过滤器,所述活性碳过滤器与所述第一换热器连通,所述多介质过滤器与所述原水泵连通。
优选地,上述多晶硅生产用水处理***还包括依次连通的第二换热器、TOC脱除装置、抛光混床和终端过滤器。
上述多晶硅生产用水处理***通过原水预处理装置、反渗透装置、紫外线杀菌装置、精密过滤器、EDI装置等依次连通,有效去除原水中的二氧化碳、剩余的微量离子、细菌等,获得符合多晶硅生产用水,出水率高,杂质少。该多晶硅生产用水处理***操作简单,运行稳定,浓水回流利用,提高了水利用率,节约了水资源,环保,降低了多晶硅生产用水的生产成本。
附图说明
图1是本实用新型实施例多晶硅生产用水处理***一种优选结构示意图;
图2是本实用新型实施例多晶硅生产用水处理***另一种优选结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
本实用新型实施例提供一种操作简单,运行稳定,处理后的超纯水杂质少,水利用率高的多晶硅生产用水处理***。如图1、图2所示,该多晶硅生产用水处理***包括依次连通的原水预处理装置3、保安过滤器5、反渗透装置6、EDI装置7、紫外线杀菌装置8、精密过滤器9和CDI装置10。这样,该多晶硅生产用水处理***通过原水预处理装置3、保安过滤器5、反渗透装置6、EDI装置7、紫外线杀菌装置8、精密过滤器9等装置依次连通,有效去除原水中的二氧化碳、剩余的微量离子、细菌等,获得符合多晶硅生产用水,出水率高,杂质少。该多晶硅生产用水处理***操作简单,运行稳定,浓水回流利用,水利用率高,节约了水资源,环保,降低了多晶硅生产用水的生产成本。其中,原水预处理装置3能初步的除去原水中所含有的悬浮物、颗粒杂质和色度,并保证了保安过滤器5的安全性;保安过滤器5对经初步处理的原水进一步净化处理,保证反渗透装置6的安全性和工作效率,保证***的稳定运行;反渗透装置3能有效脱除溶解在原水中盐份;紫外线杀菌装置8有效的杀死并除去原水中的微生物等杂质;EDI装置7和CDI装置10能有效的除去经反渗透装置3处理后原水中离子,经CDI装置10处理后的所得到的超纯水可以直接引入多晶硅生产车间中进行生产利用。
优选地,如图1所示,作为本实用新型的一实施例,上述反渗透装置6包括依次连通的一级高压泵61、一级反渗透装置62、一级反渗透水箱63、二级高压泵64、二级反渗透装置65和二级反渗透水箱66。其中,一级高压泵61与保安过滤器5连通,二级反渗透水箱66与EDI装置7连通,EDI装置7和CDI装置10的浓水出口分别与一级反渗透水箱62的入水口连通,经CDI装置10处理所产生的超纯水通过与CDI装置10的出水口依次连通的第一超纯水箱11、第一超纯水泵12送至多晶硅生产车间,如图1所示。该反渗透装置6采用二级反渗透***,能有效的脱除经保安过滤器5处理后的原水中盐分。一级反渗透装置62所产生的浓水可以引入浓水储存池或浓水箱,用于原水预处理装置3的反洗、绿化、冲厕等等。二级反渗透装置65所产生的浓水优选引入原水预处理装置3中进行回流利用,以提高该多晶硅生产用水处理***对原水的利用率,节约了水资源,环保。一级高压泵61和二级高压泵64分别为一级反渗透装置62、二级反渗透装置65提供所需的反渗透水压,提高反渗透效率。一级反渗透水箱63和二级反渗透水箱66能有效的调节水箱中的水位,保证一级高压泵61和二级高压泵64的正常工作。
进一步优选地,在上述优选实施例中,如图1所示,EDI装置7和CDI装置10的浓水出口分别与一级反渗透水箱63的入水口连通。这样,经EDI装置7和CDI装置10产生的浓水回流,并经二级反渗透装置65、EDI装置7等装置的脱盐,去离子的处理得以回收利用,提高了该多晶硅生产用水处理***对原水的利用率,节约了水资源,环保,降低了多晶硅生产用水的生产成本。当然,也可以根据实际生产情况将EDI装置7和CDI装置10中的任一装置的浓水出口分别与一级反渗透水箱63的入水口连通。
进一步优选地,在上述优选实施例中,如图1所示,上述多晶硅生产用水处理***还包括依次连通的原水箱1、原水泵2和第一换热器4,原水预处理装置3包括依次连通的多介质过滤器31、活性碳过滤器32。其中,原水泵2与原水预处理装置3中的多介质过滤器31连通,活性碳过滤器32依次与第一换热器4、保安过滤器5连通。该原水泵2为原水预处理装置3提供所需水压。此时,上述优选实施例中的二级反渗透装置65所产生的浓水回流至该原水箱1中与原水混合,再通过原水泵2送入原水预处理装置3中进行重新净化处理,从而进一步提高了该多晶硅生产用水处理***对水的利用率。该多介质过滤器31能初步净化原水,除去原水中的含有的悬浮物、颗粒杂质;活性碳过滤器32能进一步吸附并过滤原水中的杂质,使得经活性碳过滤器32过滤后的原水完全满足保安过滤器5的水质要求,降低保安过滤器5的负荷,保证保安过滤器5的工作效率。该第一换热器4能将废水的温度控制在一定的范围,有利于保安过滤器5和反渗透装置3的产水率(特别是环境气温较低的情况)。经活性碳过滤器32过滤后的原水通过保安过滤器5过滤,对水进一步净化处理,保证反渗透装置6的安全性和工作效率。
进一步优选地,在上述优选实施例中,如图1所示,一级高压泵61和/或二级高压泵64的出水口还设置有电动慢开阀(图中未显示)。该电动慢开阀能有效地减少高压泵启动后对一级反渗透装置62和二级反渗透装置65中反渗透膜的冲击,减少对反渗透膜的损坏,延长了该反渗透装置6的使用寿命,同时满足不同时期的需要。
优选地,如图2所示,作为本实用新型的另一实施例,上述多晶硅生产用水处理***除了含有上一实施例的全部装置之外,还包括依次连通的第二换热器15、TOC脱除装置16、抛光混床17和终端过滤器18。该第二换热器15能将经CDI装置10处理所得的超纯水的温度控制在一定的范围,有利于TOC脱除装置16和抛光混床17的产水率。TOC脱除装置16、抛光混床17和终端过滤器18进一步净化超纯水,提高超纯水水质,以满足多晶硅生产过程中对水质要求较高工序的需求,经终端过滤器18过滤处理的超纯水可以直接引至多晶硅生产车间。另外,在本实施例中,也可以在CDI装置10与第二换热器15之间依次连通第二超纯水箱13、第二超纯水泵14,该第二超纯水泵14为第二换热器15、TOC脱除装置16、抛光混床17和终端过滤器18提供所需水压。为了进一步提高该超纯水的水质,还可以将终端过滤器18的出水口与第二超纯水箱13的入水口连通,使得超纯水回流进一步净化处理。另外,在上述实施例中,可以在CDI装置10的出水口处和终端过滤器18的出水口处同时开设超纯水的用水接出口,其中,在CDI装置10的出水口处的开设超纯水的用水接出口依次与第一超纯水箱11、第一超纯水泵12,如图2所示。
在上述各实施例中,多晶硅生产用水处理***优选还配有自控***(图中未显示),该自控***包括远程控制与就地控制设置,整套自控***通过工控机远程集中控制,同时考虑到***运行的安全性,远程控制与就地控制设置了优先级控制,就地控制优先于远程控制,***设置超限以及故障报警,在***某项参数不能满足要求或者设备出现故障时会自动报警,以此通知纯水站维护人员及时对设备进行检修维护,及时使设备投入运行,对于***运行的数据进行完全的记录,为以后设备的检修提供有力的依据。
在上述各实施例中,EDI装置7、紫外线杀菌装置8、反渗透装置6中的一级反渗透装置62和二级反渗透装置65等装置的清洗均优选采用分段清洗的模式,避免了清洗过程中的二次污染,并且基本不影响产水量。反渗透装置6优选采用单独的快冲水泵自动冲洗的模式,不仅在运行过程中可以对膜组进行有效的自动低压大流量表面冲洗,并且在***启动前,对膜组进行自动排气,减少膜的损坏,在***停止运行时,对***自动进行浓水置换的操作模式,一级反渗透装置62和二级反渗透装置65的产水均安装了有效的***膜(图中未显示),同时采用双重过压保护,使用压力检测及电磁阀(图中未显示)配套的压力过高,自动卸压的装置,防止由于误操作导致的膜损坏(由于可串可并的要求引起)。在反渗透装置6及其相关的附属设备均采用单组对应的模式,高压泵、反渗透膜组及相关仪表单组配置齐全,便于***控制、自我监察和测试。
在上述各实施例中,原水泵2、第一超纯水泵11和第二超纯水泵14优选采用GRUNDFOS和LOWARA品牌水泵,一级高压泵61和二级高压泵64优选采用立式不锈钢多级水泵,一级反渗透装置62和二级反渗透装置65中的反渗透膜选用美国海德能PROC10和CPA3-LD反渗透膜,EDI装置7优选选用美国进口的IONPURE品牌,超纯水部分设备UV185,UV254选用世界最好的美国进口Aquafine品牌。保安过滤器5优选采用快开的制造模式,在设计及制造过程中采用快装的模式,使之可以更方便、更快的更换滤芯、节省了更换时间另外,上述第一超纯水箱11和第二超纯水箱13中均优选设置有氮封装置,能有效地隔离空气污染。各装置之间采用管道连接,连接各装置的管道优选根据受压不同而灵活选取,如EDI装置7至抛光混床17之间连通各装置的管道优选采用超纯水***的clean-pvc管材,连通反渗透装置6的管道优选采用不锈钢管材,管道材料的分级采用在满足工艺***要求的情况下,兼顾了多晶硅生产用水处理***的经济性、合理性,降低了该多晶硅生产用水处理***造价,节约了投资。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。