CN202189209U - 引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 - Google Patents
引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 Download PDFInfo
- Publication number
- CN202189209U CN202189209U CN2011203315965U CN201120331596U CN202189209U CN 202189209 U CN202189209 U CN 202189209U CN 2011203315965 U CN2011203315965 U CN 2011203315965U CN 201120331596 U CN201120331596 U CN 201120331596U CN 202189209 U CN202189209 U CN 202189209U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- lead
- gate insulator
- electrode
- via hole
- glass substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏,为解决现有技术中,在刻蚀形成过孔的过程中,因钻刻而造成栅极绝缘层的底部坡度角过大,使栅极层上的像素电极断裂,从而无法将显示信号加载到显示区上,降低了液晶显示屏的良品率的问题而设计。一种引线结构,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有引线电极;在该引线电极上设置有绝缘结构;在所述引线电极上方的绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和绝缘结构表面设置有连接电极,该连接电极紧密覆盖过孔中所露出的引线电极;所述绝缘结构设置有至少三层绝缘层,且最下层的绝缘层的致密性最大。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏,尤其涉及一种可有效避免钻刻的引线结构、液晶显示屏引线区结构和拥有该引线区结构的液晶显示屏。
背景技术
液晶显示屏因其重量轻,厚度薄和功耗低等特点,被广泛的应用于电子产品中。与液晶显示屏显示区相连接,还设置有引线区。在引线区的玻璃基板上设置有栅极层,栅极绝缘结构,源极绝缘层和像素电极;源极绝缘层形成后,需要对其进行刻蚀,以形成过孔;刻蚀后,沉积像素电极;该像素电极与下层的栅极层连接,使显示信号可以通过栅极传输到显示区的薄膜晶体管上。
在上述过程中,如图1所示,通过在刻蚀设备的腔体内吹入刻蚀气体对引线区进行刻蚀,在栅极绝缘层3底部,刻蚀气体沿栅极层5平行方向对栅极绝缘层3进行刻蚀。为提高刻蚀的均匀性,需要增加刻蚀时间,此时则会在栅极绝缘层3底部的过孔6中造成钻刻的情况,使栅极绝缘层3的底部坡度角增大。在像素电极沉积的过程中,像素电极沉积到过孔中,因所沉积的像素电极较薄,则在过孔处6像素电极1断裂,使像素电极1上的显示信号无法加载到栅极层5上,则显示信号无法传输到显示区的薄膜晶体管上,造成液晶显示器的线性不良,从而降低了液晶显示屏的良品率。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供了一种可有效避免钻刻的引线结构、液晶显示屏引线区结构和拥有该引线区结构的液晶显示屏。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一种引线结构,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有引线电极;在该引线电极上设置有绝缘结构;在所述引线电极上方的绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和绝缘结构表面设置有连接电极,该连接电极紧密覆盖过孔中所露出的引线电极;所述绝缘结构设置有至少三层绝缘层,且最下层的绝缘层的致密性最大。
一种液晶显示屏引线区结构,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有栅极层;在该栅极层上设置有栅极绝缘结构;在该栅极绝缘结构上设置有源极绝缘层;在所述栅极层上方的源极绝缘层和栅极绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和源极绝缘层表面设置有像素电极,该像素电极紧密覆盖过孔中所露出的栅极层;所述栅极绝缘结构设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
一种液晶显示屏,包括引线区;该引线区,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有栅极层;在该栅极层上设置有栅极绝缘结构;在该栅极绝缘结构上设置有源极绝缘层;在所述栅极层上方的源极绝缘层和栅极绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和源极绝缘层表面设置有像素电极,该像素电极紧密覆盖过孔中所露出的栅极层;所述栅极绝缘结构设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
本实用新型实施例提供的一种引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏,通过在引线电极上沉积至少三层绝缘层,且最下方的绝缘层的致密性最大,即下层的绝缘层难以刻蚀,在增加刻蚀时间保证刻蚀均匀性和过孔坡度角平滑的情况下,避免最下层的引线绝缘层钻刻的发生,提高了引线结构和使用该种引线结构的液晶显示屏生产的良品率。
附图说明
图1为背景技术中一种液晶显示屏引线区结构钻刻示意图;
图2为本实用新型一种引线结构的示意图;
图3为本实用新型一种液晶显示屏引线区的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型实施例一种引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏进行详细描述。
一种引线结构,如图2所示,包括玻璃基板4;在该玻璃基板4上设置有引线电极5;在该引线电极5上设置有绝缘结构3;在所述引线电极5上方的绝缘结构3上设置有过孔6;在该过孔6中和绝缘结构3表面设置有连接电极1,该连接电极1紧密覆盖过孔6中所露出的引线电极5;所述绝缘结构3设置有至少三层绝缘层,且最下层的绝缘层的致密性最大。
根据刻蚀的需要,可设置多层绝缘层结构3,所述绝缘结构3的整体厚度为固定值。
在成膜的过程中,首先将玻璃基板4移动到第一喷溅设备的腔体中,斜置于腔体,在该腔体另一侧,设置有靶材,通过该靶材形成引线电极5,所述引线电极5的材料为铝、钨、铬、钽或钼中的一种。向腔体中通入惰性气体,例如氩气。此时,在腔体中玻璃基板4和靶材外侧加载高电压,使腔体中形成电场,并在玻璃基板4外侧加载磁场。在腔体中所加载的高电压作用下,氩气形成等离子体,并在电场的作用下使氩气的等离子体轰击靶材,将靶材轰击出靶材原子,并在磁场的作用下沉积于玻璃基板4上,形成引线电极5。
将沉积引线电极5的玻璃基板4取出,并在该引线电极5上喷洒光刻胶;将玻璃基板4置入曝光设备中,进行曝光;曝光后,将该玻璃基板4放入显影液中进行显影,此时曝光部分的光刻胶在显影液的作用下溶解,在玻璃基板4上剩下光刻胶未曝光的部分。
将玻璃基板4从显影液中取出,放置于湿法刻蚀设备中,对引线电极5进行刻蚀。刻蚀完成后将玻璃基板4放入剥离液中,将残留的光刻胶剥离。
为形成绝缘结构3,所述绝缘结构3的材料为氮化硅,在完成光刻胶的剥离后,将玻璃基板4放入第二喷溅设备的腔体中,此时玻璃基板4放置于腔体下部;将反应气体通入腔体中,如SiH3或SiH4气体和NH3气体的混合气体,当腔体中的压强达到一定值时,在玻璃基板4下侧和腔体上部加载电压;在腔体内的两极管上加载高频电压,使反应气体进行辉光放电,产生反应气体的等离子体,在电场的作用下沉积在玻璃基板4和引线电极5上,并排除反应后的气体。在第二喷溅设备的腔体内,为形成至少三层绝缘层,会进行三次沉积,三次沉积中,两极管上所加的电压各不相同,从而使反应气体的放电功率不同,即最下层的第一绝缘层32沉积时,两极管上加载的电压最低,气体放电功率最小,沉积缓慢进行,使第一绝缘层32的致密性最大;在沉积中间的第二绝缘层31时,两极管上所加载的电压高于沉积第一绝缘层32的电压,气体放电功率增大,沉积速度加快,使第二绝缘层31的致密性低于第一绝缘层32;在沉积最上层的第三绝缘层30时,两极管上所加载的电压高于沉积第二绝缘层31的电压,气体放电功率再次增大,沉积速度再次加快,使第三绝缘层30的致密性低于第二绝缘层31。
此时,绝缘结构3上喷洒光刻胶7,并在曝光机中对光刻胶7进行曝光处理,在显影液中将光刻胶7的曝光部分溶解。
为形成过孔6将玻璃基板4及上方结构放入刻蚀设备内,向该设备中通入刻蚀气体,对绝缘结构3进行刻蚀。其中当刻蚀到绝缘结构3后,最上层的绝缘层30的致密性较低,刻蚀较容易,而最下层的绝缘层32的致密性较高,较难刻蚀,为使引线电极5完成露出,提高刻蚀的均匀性,会增加刻蚀时间。因为绝缘结构3设置有多层绝缘层,且最下层绝缘层的致密性最大,即在对绝缘结构3进行刻蚀时,上层的第三绝缘层30和第二绝缘层31较容易刻蚀,下方的绝缘层较难刻蚀,避免了所有绝缘层的致密性都比较高,从而提高了刻蚀的效率;另一方面,与引线电极5相接触的第一绝缘层32的致密性较大,在保证刻蚀的均匀性的前提下增加刻蚀时间时,避免因钻刻而使第一绝缘层32底部的坡度角过大,从而避免在沉积连接电极5时因绝缘层的坡度角过大而使连接电极5断裂。
过孔6形成后,将绝缘结构3上的光刻胶剥离,并沉积连接电极1,完成引线结构的形成。
所述连接电极1的材料为铟锡氧化物。
与所述一种引线结构相对应,本实用新型还提供了一种液晶显示屏引线区结构。
一种液晶显示屏引线区结构,如图3所示,包括玻璃基板4;在该玻璃基板4上设置有栅极层10;在该栅极层10上设置有栅极绝缘结构9;在该栅极绝缘结构9上设置有源极绝缘层8;在所述栅极层5上方的源极绝缘层8和栅极绝缘结构3上设置有过孔6;在该过孔6中和源极绝缘层8表面设置有像素电极7,该像素电极7紧密覆盖过孔6中所露出的栅极层5;所述栅极绝缘结构3设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
所述栅极层10与如图1所示的引线结构中的引线电极5作用相同;
所述栅极绝缘结构9与如图1所示的引线结构中的绝缘结构3作用相同;
所述像素电极7与如图1所示的引线结构中的连接电极1作用相同。
所述源极绝缘层8的材料为氮化硅,该源极绝缘层8的致密度小于栅极绝缘层的致密度。
在玻璃基板上已沉积栅极层10和栅极绝缘结构9后,将在所述包含三层栅极绝缘层的栅极绝缘结构9上方,沉积源极绝缘层8;在该源极绝缘层8沉积完成后,对源极绝缘层8和栅极绝缘结构9进行刻蚀,形成过孔6;将像素电极7沉积于源极绝缘层8表面和过孔6中,并使像素电极7紧密覆盖过孔6以及过孔6中的栅极层10上。
与上述一种液晶显示屏引线区结构相对应,本实用新型还提供了一种液晶显示屏。
一种液晶显示屏,包括引线区;该引线区,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有栅极层;在该栅极层上设置有栅极绝缘结构;在该栅极绝缘结构上设置有源极绝缘层;在所述栅极层上方的源极绝缘层和栅极绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和源极绝缘层表面设置有像素电极,该像素电极紧密覆盖过孔中所露出的栅极层;所述栅极绝缘结构设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
本实用新型实施例提供的一种引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏,通过在引线电极上沉积至少三层绝缘层,且最下方的绝缘层的致密性最大,即下层的绝缘层难以刻蚀,在增加刻蚀时间保证刻蚀均匀性和过孔坡度角平滑的情况下,避免最下层的引线绝缘层钻刻的发生,提高了引线结构和使用该种引线结构的液晶显示屏生产的良品率。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种引线结构,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有引线电极;在该引线电极上设置有绝缘结构;在所述引线电极上方的绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和绝缘结构表面设置有连接电极,该连接电极紧密覆盖过孔中所露出的引线电极,其特征在于,所述绝缘结构设置有至少三层绝缘层,且最下层的绝缘层的致密性最大。
2.根据权利要求1所述的引线结构,其特征在于,所述绝缘结构的整体厚度为固定值。
3.根据权利要求1所述的引线结构,其特征在于,所述引线电极的材料为铝、钨、铬、钽或钼中的一种。
4.根据权利要求1所述的引线结构,其特征在于,所述绝缘结构的材料为氮化硅。
5.根据权利要求1所述的引线结构,其特征在于,所述连接电极的材料为铟锡氧化物。
6.一种液晶显示屏引线区结构,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有栅极层;在该栅极层上设置有栅极绝缘结构;在该栅极绝缘结构上设置有源极绝缘层;在所述栅极层上方的源极绝缘层和栅极绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和源极绝缘层表面设置有像素电极,该像素电极紧密覆盖过孔中所露出的栅极层,其特征在于,所述栅极绝缘结构设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
7.根据权利要求6所述的液晶显示屏引线区结构,其特征在于,所述源极绝缘层的材料为氮化硅。
8.一种液晶显示屏,包括引线区;该引线区,包括玻璃基板;在该玻璃基板上设置有栅极层;在该栅极层上设置有栅极绝缘结构;在该栅极绝缘结构上设置有源极绝缘层;在所述栅极层上方的源极绝缘层和栅极绝缘结构上设置有过孔;在该过孔中和源极绝缘层表面设置有像素电极,该像素电极紧密覆盖过孔中所露出的栅极层,其特征在于,所述栅极绝缘结构设置有至少三层栅极绝缘层,且最下层的栅极绝缘层的致密性最大。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011203315965U CN202189209U (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2011203315965U CN202189209U (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN202189209U true CN202189209U (zh) | 2012-04-11 |
Family
ID=45920649
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2011203315965U Expired - Lifetime CN202189209U (zh) | 2011-09-05 | 2011-09-05 | 引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN202189209U (zh) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103231570A (zh) * | 2013-04-11 | 2013-08-07 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种薄膜层及其制作方法、显示用基板、液晶显示器 |
WO2016029612A1 (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及显示装置 |
WO2016112684A1 (zh) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
CN106444183A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-02-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种超窄边框端子区结构及制作方法、显示面板 |
CN110112212A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-08-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管和阵列基板 |
-
2011
- 2011-09-05 CN CN2011203315965U patent/CN202189209U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103231570A (zh) * | 2013-04-11 | 2013-08-07 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种薄膜层及其制作方法、显示用基板、液晶显示器 |
CN103231570B (zh) * | 2013-04-11 | 2016-03-30 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 一种薄膜层及其制作方法、显示用基板、液晶显示器 |
US9502571B2 (en) | 2013-04-11 | 2016-11-22 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Thin film layer and manufacturing method thereof, substrate for display and liquid crystal display |
WO2016029612A1 (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-03 | 京东方科技集团股份有限公司 | 薄膜晶体管及其制备方法、显示基板及显示装置 |
US9589991B2 (en) | 2014-08-28 | 2017-03-07 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Thin-film transistor, manufacturing method thereof, display substrate and display device |
WO2016112684A1 (zh) * | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及其制备方法、显示装置 |
US9825063B2 (en) | 2015-01-14 | 2017-11-21 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Display panel and method of fabricating the same, and display device |
CN106444183A (zh) * | 2016-12-09 | 2017-02-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种超窄边框端子区结构及制作方法、显示面板 |
CN106444183B (zh) * | 2016-12-09 | 2019-12-31 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种超窄边框端子区结构及制作方法、显示面板 |
CN110112212A (zh) * | 2019-04-25 | 2019-08-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 薄膜晶体管和阵列基板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN202189209U (zh) | 引线结构、液晶显示屏引线区结构和液晶显示屏 | |
CN105428387A (zh) | 有机发光显示装置及其制造方法 | |
CN104867942B (zh) | Tft基板的制作方法及其结构 | |
CN102237305B (zh) | 阵列基板及其制造方法和液晶显示器 | |
CN105161495B (zh) | 一种阵列基板及其制作方法、显示面板 | |
CN109638054A (zh) | 显示面板及制作方法 | |
CN102033370B (zh) | 液晶显示基板及其制造方法 | |
CN105118929B (zh) | 电极结构和有机发光单元及其制造方法 | |
CN102709327B (zh) | 氧化物薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示装置 | |
CN102830560A (zh) | 一种阵列基板及其制作方法 | |
CN103531593B (zh) | 像素结构、阵列基板、显示装置及像素结构的制造方法 | |
CN104656327B (zh) | 一种阵列基板及液晶显示面板 | |
CN201886251U (zh) | 薄膜晶体管阵列基板及已修复的薄膜晶体管阵列基板 | |
CN108220963B (zh) | 多层膜用蚀刻液组合物、蚀刻方法及阵列基板的制造方法 | |
CN103354206B (zh) | 过孔制作方法、显示面板制作方法及显示面板 | |
CN104966696A (zh) | Tft基板的制作方法及其结构 | |
WO2020187073A1 (zh) | 阵列基板及其制造方法和显示面板 | |
CN107132710A (zh) | 一种阵列基板及其制备方法、显示面板 | |
CN104752345B (zh) | 薄膜晶体管阵列基板及其制作方法 | |
CN105097845A (zh) | 一种阵列基板、其制作方法及显示装置 | |
CN103887245A (zh) | 一种阵列基板的制造方法 | |
CN101436601A (zh) | 薄膜晶体管阵列基板 | |
CN102945846A (zh) | 阵列基板及其制造方法、显示装置 | |
CN110854157A (zh) | 一种显示面板及其制作方法、显示装置 | |
US9899221B2 (en) | Method for preparing electrode |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20120411 |
|
CX01 | Expiry of patent term |