CN202148348U - 一种旋转型靶材 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种旋转型靶材，包括管状的金属基材、镀膜材料层，管状的金属基材两端设有肩台，管状的金属基材外表面除两端肩台外镀有镍铝材料层，镍铝材料层外部再喷涂厚度均等的镀膜材料层；优选所述的管状的金属基材为管状不锈钢基材；所述的镀膜材料层为硅铝材料层；本实用新型镀膜材料层与管状金属基材外表面结合强度高，提高其在溅射镀膜工艺中使用的可靠性。
Description
技术领域
本实用新型涉及溅射镀膜技术领域，尤其是一种旋转型靶材。
背景技术
现今，基于物理气相沉积原理的溅射镀膜工艺，已广泛应用于液晶显示设备、太阳能电池、太阳能真空管、半导体芯片等技术领域；而旋转型靶材是溅射镀膜工艺中常用的一种镀膜耗材，旋转型靶材一般由管状金属基材和镀膜材料层构成，正常做法是在管状金属基材外表面进行表面清洗或者吹砂完后就直接喷涂镀膜材料层，这种产品存在的问题是，镀膜材料层与管状金属基材外表面结合强度较差，会影响旋转型靶材在溅射镀膜工艺中的正常使用。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种旋转型靶材，镀膜材料层与管状金属基材外表面结合强度高，提高其在溅射镀膜工艺中使用的可靠性。
为达到上述目的，本实用新型的技术方案是一种旋转型靶材，包括管状的金属基材、镀膜材料层，管状的金属基材两端设有肩台，管状的金属基材外表面除两端肩台外镀有镍铝材料层，镍铝材料层外部再喷涂厚度均等的镀膜材料层。
优选所述的管状的金属基材为管状不锈钢基材。
所述的镀膜材料层可为硅铝材料层。
本实用新型由于在管状的金属基材外表面除两端肩台外镀有镍铝材料层，把镍铝材料层作为打底层，然后在镍铝材料层基础上再喷涂厚度均等的镀膜材料层，由于热膨胀系数原因，这样能使进行打底完的管状金属基材外表面更好的与镀膜材料层迭代，增强两者结合强度，提高其在溅射镀膜工艺中使用的可靠性。
附图说明
图1是本实用新型左视图。
图2是图1的A-A剖视图。
具体实施方式
下面结合附图和具体的实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
图1、图2所示，一种旋转型靶材，包括管状的金属基材1、镀膜材料层2，管状的金属基材1两端设有肩台11，管状的金属基材1外表面除两端肩台11外镀有镍铝材料层3，镍铝材料层3外部再喷涂厚度均等的镀膜材料层2。
所述管状的金属基材1为管状不锈钢基材。
所述的镀膜材料层2为硅铝材料层。
以上仅是本实用新型一个较佳实施例，本领域的技术人员按权利要求作等同的改变都落入本案的保护范围。
Claims (3)
1.一种旋转型靶材，包括管状的金属基材、镀膜材料层，管状的金属基材两端设有肩台，其特征在于：管状的金属基材外表面除两端肩台外镀有镍铝材料层，镍铝材料层外部再喷涂厚度均等的镀膜材料层。
2.根据权利要求1所述的一种旋转型靶材，其特征在于：所述的管状的金属基材为管状不锈钢基材。
3.根据权利要求1或2所述的一种旋转型靶材，其特征在于：所述的镀膜材料层为硅铝材料层。
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| CN201120227518U CN202148348U (zh) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | 一种旋转型靶材 |
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| CN201120227518U CN202148348U (zh) | 2011-06-30 | 2011-06-30 | 一种旋转型靶材 |
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| CN202148348U true CN202148348U (zh) | 2012-02-22 |
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| CN (1) | CN202148348U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2016041361A1 (zh) * | 2014-09-15 | 2016-03-24 | 厦门映日新材料科技有限公司 | 一种低电阻率微硼掺杂旋转溅射硅靶材及其制备方法 |
| CN108707870A (zh) * | 2018-05-24 | 2018-10-26 | 宁波森利电子材料有限公司 | 高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法 |
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2011
- 2011-06-30 CN CN201120227518U patent/CN202148348U/zh not_active Expired - Fee Related
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Legal Events
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Granted publication date: 20120222 Termination date: 20150630 |
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