CN201943304U - 艺术写真玻璃墙地砖 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种艺术写真玻璃墙地砖,包括透明玻璃基体,所述玻璃基体的一侧表面上由内到外依次设有透明粘合层、UV彩绘层和白色涂层。所述玻璃基体优选采用半强化、强化、不强化浮法玻璃基体;所述透明粘合层由可与UV油墨融合,并可与玻璃粘合的透明材料制成;所述白色涂层由防水、防尘,能与UV彩绘层复合且不反应的材料制成。本实用新型具有相当于或超过艺术写真的视觉效果,防水、防腐蚀性能好,且不易老化、褪色,与建筑物结合牢固,不易脱落,并可耐受-50℃~300℃的温度变化,所采用材料均不含有有害人体的重金属,安全环保,适于在各种室内外环境中广泛应用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃地砖,尤其涉及一种艺术写真玻璃墙地砖。
背景技术
随着社会的不断发展,人们对于生活品质提出了越来越高的要求,其中比较重要的一方面是给予了日常生活和工作的环境和氛围更多的关注,并由此发展出多种装修材料等对建筑外墙或室内空间进行装饰。玻璃砖即是其中一类非常重要的装修材料,但现有的玻璃砖通常具有如下不足,即:由于图案艺术玻璃的工艺原因导致视觉效果失真,图案容易褪色(不抗紫外线),易于从墙体或地面上松脱,且防水性能及酸碱耐受性差,附着力差、吸水性高,尤其是在具有较高湿度和温度变化比较明显的环境中容易老化等等,因此不宜在厨房、卫生间、浴室、水下及建筑物外立面等处使用,写真喷绘玻璃尤其不能使用。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种艺术写真玻璃墙地砖,其具有相当于或超过艺术写真的视觉效果,防水性能好,与建筑物结合牢固,不易脱落,不易老化,不褪色,适于在高温或低温、高湿以及具有较强腐蚀性的环境中应用,从而克服了现有技术中的不足。
为实现上述发明目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种艺术写真玻璃墙地砖,包括透明玻璃基体,其特征在于,所述玻璃基体的一侧表面上由内到外依次设有透明粘合层、UV彩绘层和白色涂层。
优选地,所述玻璃基体采用半强化、强化或不强化浮法玻璃基体。
优选地,前述透明粘合层由可与UV油墨融合,并可与玻璃粘合的透明材料制成。
优选地,前述白色涂层由防水、防尘,能与UV彩绘层复合且不反应的材料制成。
进一步优选的,前述透明粘合层和白色涂层均由不含六价铬等重金属的、且耐酸碱腐蚀的环保材料制成。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:具有优良视觉效果、防水、防脱落、耐酸碱腐蚀、防紫外、且不易褪色,可耐受-50℃~300℃的温度变化,安全环保,适于在各种室内外环境中应用。
附图说明
图1是本实用新型一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图及一较佳实施例对本实用新型的技术方案作详细说明。
参阅图1,该艺术写真玻璃墙地砖包括透明玻璃基体1,所述玻璃基体的一侧表面上由内到外依次设有透明粘合层2、UV彩绘层3和白色涂层4。
优选地,所述玻璃基体采用半强化、强化、不强化的浮法玻璃基体。
优选地,前述透明粘合层由可与UV油墨融合,并可与玻璃粘合的透明材料制成。
优选地,前述白色涂层由防水、防尘,能与UV彩绘层复合且不反应的材料制成。
进一步优选的,前述透明粘合层和白色涂层均由不含六价铬等重金属的、且耐酸碱腐蚀的环保材料制成。
以上较佳实施例仅供说明本实用新型之用,而非对本实用新型的限制,有关技术领域的技术人员,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,所作出各种变换或变型,均属于本实用新型的范畴。
Claims (2)
1.一种艺术写真玻璃墙地砖,包括透明玻璃基体,其特征在于,所述玻璃基体的一侧表面上由内到外依次设有透明粘合层、UV彩绘层和白色涂层。
2.根据权利要求1所述的艺术写真玻璃墙地砖,其特征在于,所述玻璃基体采用半强化浮法玻璃基体。
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CN2010206574134U CN201943304U (zh) | 2010-12-14 | 2010-12-14 | 艺术写真玻璃墙地砖 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104481108A (zh) * | 2014-11-12 | 2015-04-01 | 成都格瑞思文化传播有限公司 | 玻璃背景墙结构 |
CN107473601A (zh) * | 2017-09-12 | 2017-12-15 | 浙江新迪在龙涂料科技有限公司 | 一种装饰玻璃及其制备方法 |
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2010
- 2010-12-14 CN CN2010206574134U patent/CN201943304U/zh not_active Expired - Fee Related
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GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
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Granted publication date: 20110824 Termination date: 20121214 |