CN201783434U - 涂抹台 - Google Patents

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CN201783434U CN200920007170.7U CN200920007170U CN201783434U CN 201783434 U CN201783434 U CN 201783434U CN 200920007170 U CN200920007170 U CN 200920007170U CN 201783434 U CN201783434 U CN 201783434U
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斯蒂芬·赖克
尤维·弗罗利克
彼得·斯塔弗
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Abstract

一种用于以至少一种流体乃至膏状涂敷介质对运行中的纸张、纸板或其它纤维材料幅材进行涂层的涂抹台,涂抹台包括在纤维材料幅材上方且与之间隔布置的帘式涂敷机构的涂敷头,涂敷头以帘的形式将至少一种涂敷介质供应到纤维材料幅材,其中,在涂敷机构之前接有用于对至少一种涂敷介质除气或排气的真空排气机,其中真空排气机有用于已除气的涂敷介质的排放管、真空发生装置和用于所分离出的空气或气体的排放管,且在真空排气机前接有包含混合器和/或存储容器的准备台。本实用新型建议,真空排气机含有附加工作空间,其方式使真空排气机的整个容积分为两个区域,其中上部区域用于涂敷介质的排气而下部区域形成用于存储已排气涂敷介质的附加工作空间。

Description

涂抹台 
技术领域
本实用新型涉及一种用于以至少一种流体乃至膏状的涂敷介质对运行中的纸张、纸板或其它纤维材料幅材进行涂层的涂抹台,所述涂抹台包括在纤维材料幅材上方且与纤维材料幅材间隔地布置的帘式涂敷机构的涂敷头,所述涂敷头将所述至少一种涂敷介质以帘的形式供应到纤维材料幅材上,其中,在涂敷机构之前接有用于对所述至少一种涂敷介质除气或排气的真空排气机,其中存在用于已除气的涂敷介质的排放管、真空发生装置和用于所分离出的空气或气体的排放管,且在真空排气机之前接有包含混合器和/或存储容器的准备台。 
背景技术
所有的涂抹台都需要一种这样的准备台。在涂敷介质中(即在涂抹颜料中)的高气体或空气含量与高的涂抹机器速度相联系通常会导致令人担心的“跳跃涂敷”,即在所涂敷的涂抹物内造成孔隙和凹坑,这显然给涂敷层的质量带来了不利影响。 
高的气体含量首先会由涂抹颜料配方、涂抹颜料准备和循环运行、已经提及的机器速度以及所使用或考虑的涂敷***和其他另外的影响因素造成。 
在常规的涂抹方法(如刀片涂抹或膜涂抹)中,涂抹颜料(一般地称为涂敷介质)以多倍过量涂敷并随后以刮板元件定量分配。 
在现代的帘式涂抹中取消了定量分配,因为不存在过量。即,在帘式涂抹中仅涂敷了最终应保留在基质上的量。因此,供给到帘式涂敷机构的颜料量必然很小。当然,帘式涂敷要求了对涂抹颜料进行几乎完全的排气,因为由涂敷机构产生且供应的帘很敏感。气体或空气在实际涂层之前的区域(Vorfeld)也已经在***内导致问题。 
因此,由本发明人的公司阐述了如下建议,即在待除气或待排气的介质上实现尽可能大的表面,以此可改进排气效果。此外,排气在真空的作用下进行。为此,参考DE A1 10 2005 060 848,其中描述了一种在真空排气机中的除气或 排气。为改进排气效果,在真空排气机前还提供了在回旋排气机中的排气。优选地为帘式涂抹方法提供了已排气的涂敷介质。 
在DE A1 103 52 807中也描述了一种用于帘式涂抹技术方案,其中提供了两个前后相继布置的真空排气机。 
从DE A1 10 2005 060 853中已知了一种带有嵌入式级联的真空排气机,且从DE A1 10 2007 000 705,DE A1 10 2007 000 706,DE A1 10 2007 000 707中已知了带有冲击设备的嵌入式旋转盘。 
另外,在帘式涂抹中需要保持***的清洁。首先,在更换涂敷介质时需要过分细致且昂贵的清洁。在所给出的已知技术方案中,清洁成本和设备成本以及此外的介质损失在更换(介质)种类时是很高的。 
发明内容
因此,本实用新型所要解决的技术问题是提供一种用于除气或排气的紧凑的涂抹台,其中不出现现有技术中的缺点。 
本实用新型公开了一种用于以至少一种流体乃至膏状的涂敷介质对运行中的纸张、纸板或其它纤维材料幅材进行涂层的涂抹台,所述涂抹台包括在所述纤维材料幅材上方且与所述纤维材料幅材间隔地布置的帘式涂敷机构的涂敷头,所述涂敷头将至少一种涂敷介质以帘的形式供应到所述纤维材料幅材上,其中,在所述涂敷机构之前接有用于对所述至少一个涂敷介质除气或排气的真空排气机,其中,所述真空排气机具有用于已除气的涂敷介质的排放管、真空发生装置和用于所分离出的空气或气体的排放管,且在所述真空排气机之前接有包含混合器和/或存储容器的涂敷介质准备台,其特征在于:所述真空排气机含有附加工作空间,其方式使得所述真空排气机的整个容积分为两个区域,其中上部区域用于所述涂敷介质的排气而下部区域形成用于存储所述已排气的涂敷介质的附加工作空间。本实用新型所要解决的技术问题通过这一技术方案得到了解决。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,所述真空排气机的所述上部区域设有用于除气或排气的级联式装入件。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,用于已除气的涂敷介质的排放管从所述真空排气机的下部区域分支出来,且所述真空发生装置通过一根用于所分 离出的空气或气体的排放管与所述真空排气机的上部区域连接,其中来自至少一个涂敷介质准备台的至少一个供给管和来自所述帘式涂敷机构的至少一个回流管分别直接通到所述真空排气机的所述上部区域内。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,所述附加工作空间具有约100至2000l、优选约200至1500l的涂敷介质工作容积。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,在用于所述已排气的涂敷介质的所述排放管内在所述真空排气机和所述帘式涂敷机构之间安装了过滤器。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,在用于所述已排气的涂敷介质的所述排放管内在所述真空排气机和所述帘式涂敷机构之间安装了至少一个膜除气设备。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,所述至少一个膜除气设备安装在所述过滤器之前或之后。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,在所述排放管内在所述真空排气机和所述帘式涂敷机构之间安装了测量装置,特别是用于气体或空气含量测量的测量装置。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,在至少一个从所述涂敷机构出来并通到所述真空排气机内的回流管内安装了过滤器。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,提供了商业上通用的管式过滤器或旋转过滤器作为过滤器。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,用于来自包含所述混合器和/或所述存储容器的所述准备台的新鲜涂敷介质的供给管通到所述过滤器内,并且,在所述过滤器内过滤后的涂敷介质可通过所述回流管且借助阀引入到所述真空排气机内。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,来自包含所述混合器和/或所述存储容器的所述准备台的新鲜涂敷介质仅能通过所述供给管引入到所述真空排气机内。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,在所述回流管内安装了包括收集元件和调节阀的空载保护件。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,为每个待排气的涂敷介质设有至少一个所述真空排气机。 
根据本实用新型的一种优选实施形式,所述真空排气机以及所述过滤器和测量装置安装在一个共同的框架上。 
根据本实用新型建议使本身已知的真空排气机包含一个附加的工作空间(无装入件)。 
根据本实用新型,完全取消了否则必需的(为实现较短的管程而)另外地靠近涂敷机构布置的工作容器,因为所需的工作容积集成在此处略微增大的排气容器内。 
通过将排气机的整个容积分为两个区域而实现了这一附加的工作空间。 
上部区域用于排气。所以,在此上部区域内待排气的介质由气相包围。 
下部区域、即附加的工作空间被用于存储已排气的介质,且在运行中通过液面调节器完全以涂敷介质填充直至希望的液面高度。随后的涂敷机构能以在此处存在的已排气的涂敷介质来工作。此空间作为容器含有几乎100%的涂敷介质。所需的涂敷介质根据需求通过介质泵取出。在此进行这样的调节,即根据该调节将相应的待排气的介质引入上部区域内且在该处使其排气。此已排气的介质然后再填满下部区域。 
此技术方案的优点是,在此进行的存储在排气压力下进行,由此可使涂敷介质、即涂抹颜料的排气实现稳定的良好质量。 
涂抹台的一种非常合适的构造是在排气容器的上部区域内布置例如已知的级联式装入件,所述装入件例如带有旋转盘、回流板等,它们实现了多重的或逐步的除气或排气。涂敷介质在此仅作为薄膜或颜料小滴存在。此上部区域的体积在此实施形式中仅填充有5%的流体涂敷介质和固体物质成分,且填充有大约95%的气相(空气和/或水蒸气)。 
在根据本实用新型的带有集成在排气机内的工作空间的技术方案中具有如下优点:
-总体上较小的位置需求, 
-较少的管路和容器开销, 
-缩短的清洁时间, 
-低的颜料损失以及小量的含有涂抹颜料的废水, 
-低成本, 
-更好的排气效果,因为涂敷介质在待机运行时也处于真空。 
可以合适地将根据本实用新型的涂抹台进一步设计为使来自至少一个涂敷介质准备台的至少一个供给管和来自帘式涂敷机构的至少一个回流管各自直接通到至少一个真空排气机内。 
然而,此处所使用“直接”回路一词意味着也可在此回路中接入过滤器、测量位置-如气体含量测量装置、阀、泵、脉动阻尼器、其他弯管等。在现有技术中存在的另外的工作容器(在现有技术中靠近涂敷机构布置且目前也接收来自排气机的回流)如所述完全取消。 
特别的优点是在涂敷机构和排气机之间仅可见短的回流。回流应理解为由幅材边缘闭塞并通过旁通管引回的介质部分,以及在涂层暂停时进一步由涂敷机构供应、捕获和引回的介质。 
因此,短的回流意味着回流的涂敷介质在被再次混合前可很快地被除气或排气。 
另外的优点是: 
-***内涂敷介质(例如涂抹颜料)较少, 
-在更换种类时可实现快速的涂敷介质更换时间, 
-所出现的介质损耗较小, 
-涂敷过程可更快速地启动, 
-清洁和设备(机器)成本较低。 
为能避免空气进入,在回流管内,即在引回的介质被再次供给至真空排气机之前,设有空载保护件或阻塞调节器。这包括接在收集元件之后的调节阀,例如小容积的收集容器。 
另外,在多个待涂敷的涂敷介质或涂抹颜料中,例如为通过多层帘式涂敷机构产生双层涂层,涂抹台包括多个混合器且可能包括多个所属的存储容器。 
因为每个混合器和所述存储容器可位于涂抹台外,甚至可位于包容涂抹台的壳体外,所以在根据本实用新型不再存在的单独分开的工作容器中,混合器以及存储容器至排气机的由此缩短的回路就是特别有意义的。 
每个待涂敷的介质可具有至少一个排气机。也可能的是多个排气机用于仅唯一一种涂敷介质。后一可能性在机器很宽的条件下是有意义的。 
根据本实用新型的涂抹台的另一种很有利的设计变型如下地获得,即,将涂抹台的各部件,如真空排气机、过滤器和测量装置安装在一个共同的框架上。 以此则可实现一种很紧凑的工作台。该工作台也可事后安装在或也可改装在现有的纸张生产机器内。维护成本、清洁成本和设备成本整体上比目前情况低廉。此外,改进了对各部件的可接近性,且也实现了一种靠近涂敷机构的布置。 
在多个涂敷介质时,也可以具有多个框架。 
考虑到驻留时间和排气效率,有利的是真空排气机的工作空间(下部区域)具有大约100至2000l,优选地200至1500l介质的工作容积。 
也有利的是在用于已排气的涂敷介质的排放管内和/或在回流管内在真空排气容器和涂敷机构之间安装过滤器。 
为此,例如提供了商业上通用的相对廉价且有效的管式过滤器或旋转过滤器。 
为了能够尽可能地排气,通常有利的是在回流管内在真空排气容器和涂敷机构之间安装至少一个膜除气设备。该设备可在现有的过滤器之前和/或之后安装。 
也有意义的是,在真空排气容器后安装流量和空气含量测量设备。基于声纳(Sonarbasis)工作的测量设备是合适的。例如,在市场上可购买到名称为“Sonartrac”的此类设备。 
应提及的是,可以以帘式涂敷机构在纸张、纸板或其它纤维材料幅材上实现单层和多层帘式涂敷。此外,可根据在纤维材料幅材上待涂敷的涂敷介质或涂抹颜料层的数量,为每个待排气的涂抹颜料提供相应数量的真空排气机以及混合器和/或存储容器。但这也意味着唯一一个排气容器,唯一一个混合器和存储容器也可用于涂敷机构的多个供给室。 
根据本实用新型的涂抹台的优点在于:一方面涂抹台很紧凑且仍要求小的位置成本、小的清洁成本和设备成本,且另一方面在种类更换时涂抹颜料的损耗比目前更小。 
附图说明
如下根据实施例更详细地解释本实用新型。各图为: 
图1示出了紧凑的涂抹台的第一变体; 
图2示出了紧凑的涂抹台的第二变体。 
具体实施方式
图1示出了一种紧凑的涂抹台1,所述涂抹台1用于以流体乃至至膏状的涂敷介质3对运行在方向L上的纸张、纸板或其他纤维材料幅材2进行涂层。 
涂抹台1包括帘式涂敷机构4,所述帘式涂敷机构4带有在纤维材料幅材2上方且与之具有距离地布置的帘式涂敷头5。涂敷头5按机器宽度设计,它将工作介质(即涂抹颜料)3以帘6的形式供应到纤维材料幅材2上。 
对于多层涂敷,涂敷头5对于每种待涂敷的涂敷介质3具有一个自己的涂敷室7a至7n,它们分别在供给缝隙8a至8n中以相应的出口喷嘴9a至9n突伸出。出口喷嘴通到例如设计为喷嘴组的涂敷头5的表面10上,其中在多层涂敷时,从出口喷嘴9a至9n排出的介质在表面10上相互叠置且产生了一种多层帘。流出的帘6随后根据在纤维材料幅材上的涂敷层的希望数量分别产生一个涂敷介质层11。 
涂敷机构4以及涂敷头5之前接有真空排气机12,真空排气机12之前又接有涂敷介质准备台13。此涂敷介质准备台13包括至少一个混合器13.1和至少一个存储容器13.2。混合器13.1含有强力搅拌装置且通常也具有多个来流。存储容器仅用于存储有关涂敷介质且仅含有用于循环的简单的管构件。混合器和存储容器能相对于涂敷机构在空间上相隔较远地放置。管路则设计得相应较长。 
通过供给管线14和泵15沿直接路径以这种在准备台13中准备的介质3填充排气容器12。 
涂敷介质的准备可连续进行,为此优选地无存储容器13.2也可。在此,涂敷介质直接由混合器13.1从排气机12供给。 
但涂敷介质的准备也可非连续地进行,这称为“批处理方式”。为此以存储容器13.2工作,涂敷介质则从存储容器13.2直接供给到排气机12。 
从图1中可见,真空排气机12在其上部区域16内设有用于对涂敷介质3多重除气或排气的级联式装入件17。此级联式装入件17设计为旋转盘17a且由共同的马达18通过垂直轴19驱动。在此达到了约1500转/分的转速。由于快速旋转,待排气的涂敷介质3从每个旋转盘17a或者说是每个级联向外抛到容器壁12a上,冲击该容器壁12a且然后从该处通过倾斜导向件17b向下到达下一个旋转盘,涂敷介质3由此以相同的方式继续排气。这一直进行,直至部 分除气的涂敷介质到达排气容器12的下部区域20为止。 
此区域20用作附加工作空间21。它具有平均大约1000l介质(每个排气机)的工作容积,该工作容积直接供涂敷机构使用。真空排气机12因此很靠近涂敷机构5布置,且也接收涂敷机构5的回流。从混合器/存储容器到排气机以及从涂敷机构到排气机的这些很短的回路在此是很有利的。 
几乎完全排气的涂敷介质通过排放管22向涂敷机构5以及帘式涂敷头供给,即通过出料泵23无吹风地供给。 
在图示的例子中,在真空排气机12和涂敷头5之间还安装了过滤器24,即商业上通用的管式过滤器,因此也几乎排除了在涂敷机构内的污染,从而在纤维材料幅材2上实现了高质量的且均匀地封闭地形成的涂敷层11。 
需要提及的是在图示的例子中在排放管22内直接在真空排气机12后方且在过滤器24前方安装了空气含量测量装置25。 
此外,在排气机12的头部上有真空发生装置27和用于所分离出的空气或气体的排放管28、以及空载保护件29,所述空载保护件29处于从涂敷机构4出来且通到真空排气机12的头部内的回流管26之内。空载保护件29包括带有收集元件29.1(例如,小容器)的阻塞调节器和接在该空载保护件之后的调节阀29.2或进料泵。 
真空排气机12和其它部件(例如过滤器24和测量位置26等)通常安装在一个共同的框架30上,从而形成一种紧密地并排放置的容易预安装的紧凑工作台。在此,介质的较短回路以及与之相联系的管路成本也是具有优点的。 
在例如三个待涂敷的介质中,也可以存在三个框架30。 
在图1中也示出了在排放管22内为已排气的涂敷介质在真空排气容器12和帘式涂敷机构4之间安装至少一个膜除气设备34。 
所述膜除气设备34可在过滤器24之前和/或之后安装。在图1中因此以虚线示出第二膜除气设备34的存在。如其名称已所述,此附加的除气设备以膜模块工作,膜模块包括用于从涂抹介质中分离气体、特别是所溶解的气体的单个膜或多个膜。膜优选地由疏水性材料制成。 
需要补充的是在所示出的图1中图示了带有单层涂敷介质3的涂敷的例子(见通过排放管22向中间涂敷室8的供给,和从此涂敷室返回到排气机12内的旁通管26)。但此涂敷也可以是多层的,例如两层、三层或n层,因此在此 情况中带有供给缝隙和出口喷嘴的涂敷介质室的数目以及排气机12、混合器13.1和存储容器13.2的数目也可相应地成倍增加。 
仅作为例子示出了仅一个用于涂敷介质3的真空排气容器12。 
在图2中示出了涂抹台1的另外的变体。该变体基本上对应于图1中的变体,因此附图标记也基本上对应于图1中的附图标记且在此不重复相应的解释。仅在从涂敷机构4到排气机12的回流管26内接入了另一过滤器31,该过滤器31同时用作收集容器。此容器31可以是任意的已知过滤器,例如旋转过滤器和管式过滤器。但也可以考虑另外的构造形式。 
在所述的旁通管26内在排气机12前安装了调节阀32,该调节阀用于涂敷介质的受控定量分配。调节阀32调节了过滤器31内的液面高度或管道内的液面高度。 
过滤器24反之仅作为所谓的流量限制阀(Polizeifilter)起作用,且具有较小的构造。 
在图2中此外绘出了以虚线示出的另一供给管33,该供给管33从排气机12内的供给管线14(实线)分支出来,且引导到过滤器31内。此供给管可选择地使用,以附加地将尚新鲜的涂敷介质或新鲜的涂敷介质从涂敷介质准备台13输送到过滤器31内。在过滤后,通过所述管26和调节阀32向真空排气机12供给已过滤的涂敷介质,而作为借助实线的供给管14的直接供给的替代。 
未绘出但选择地可使用的是在***中的至少一个位置上接入热交换模块和可温控的管道。 
对本实用新型的涂抹台进行了试验,其中涂敷介质例如是含有微胶囊的涂抹颜料,带有32%的固体含量和240mPas的粘度。在排气前,在涂抹颜料中的气体含量为2-25%,且在排气后气体含量小于0.2%。 
附图标记列表 
1    涂抹台 
2    纤维材料幅材 
3    涂敷介质 
4    帘式涂敷机构 
5    帘式涂敷头 
6     帘 
7a-7n 涂敷室 
8a-8n 供给缝隙 
9a-9n 出口喷嘴 
10    表面 
11    涂敷介质层 
12    真空排气机 
12a   容器内壁 
13    涂敷介质准备台 
13.1  混合器 
13.2  存储容器 
14    供给管线 
15    泵 
16    上部区域 
17    级联式装入件 
17a   旋转盘 
17b   倾斜导向件 
18    马达 
19    垂直轴 
20    下部区域 
21    附加工作空间 
22    排放管 
23    出料泵 
24    过滤器 
25    测量装置 
26    旁通管 
27    真空发生装置 
28    用于所分离出的空气或气体的排放管 
29    空载保护件 
29.1  收集元件 
29.2      调节阀 
30        框架 
31        过滤器 
32        调节阀 
33        供给管 
34        膜除气设备 
L         运行方向 。

Claims (17)

1.一种用于以至少一种流体乃至膏状的涂敷介质(3)对运行中的纸张、纸板或其它纤维材料幅材(2)进行涂层的涂抹台(1),所述涂抹台(1)包括在所述纤维材料幅材(2)上方且与所述纤维材料幅材间隔地布置的帘式涂敷机构(4)的涂敷头(5),所述涂敷头(5)将至少一种涂敷介质(3)以帘(6)的形式供应到所述纤维材料幅材(2)上,其中,在所述涂敷机构(4)之前接有用于对所述至少一个涂敷介质(3)除气或排气的真空排气机(12),其中,所述真空排气机(12)具有用于已除气的涂敷介质的排放管(22)、真空发生装置(27)和用于所分离出的空气或气体的排放管(28),且在所述真空排气机(12)之前接有包含混合器(13.1)和/或存储容器(13.2)的涂敷介质准备台(13),
其特征在于:所述真空排气机(12)含有附加工作空间(21),其方式使得所述真空排气机(12)的整个容积分为两个区域,其中上部区域(16)用于所述涂敷介质(3)的排气而下部区域(20)形成用于存储所述已排气的涂敷介质的附加工作空间(21)。
2.根据权利要求1所述的涂抹台(1),其特征在于:所述真空排气机(12)的所述上部区域(16)设有用于除气或排气的级联式装入件(17)。
3.根据权利要求1所述的涂抹台(1),其特征在于:用于已除气的涂敷介质的排放管(22)从所述真空排气机(12)的下部区域(20)分支出来,且所述真空发生装置(27)通过一根用于所分离出的空气或气体的排放管(28)与所述真空排气机(12)的上部区域(16)连接,其中来自至少一个涂敷介质准备台(13)的至少一个供给管(14)和来自所述帘式涂敷机构(4)的至少一个回流管(26)分别直接通到所述真空排气机(2)的所述上部区域(16)内。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的涂抹台(1),其特征在于:所述附加工作空间(21)具有大约100至2000l的涂敷介质工作容积。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的涂抹台(1),其特征在于:所述附加工作空间(21)具有大约200至1500l的涂敷介质工作容积。
6.根据权利要求1所述的涂抹台(1),其特征在于:在用于所述已排气的涂敷介质的所述排放管(22)内在所述真空排气机(12)和所述帘式涂敷机构(4)之间安装了过滤器(24)。 
7.根据权利要求6所述的涂抹台(1),其特征在于:在用于所述已排气的涂敷介质的所述排放管(22)内在所述真空排气机(12)和所述帘式涂敷机构(4)之间安装了至少一个膜除气设备(34)。
8.根据权利要求7所述的涂抹台(1),其特征在于:所述至少一个膜除气设备(34)安装在所述过滤器(24)之前或之后。
9.根据权利要求6所述的涂抹台(1),其特征在于:在所述排放管(22)内在所述真空排气机(12)和所述帘式涂敷机构(4)之间安装了测量装置(25)。
10.根据权利要求9所述的涂抹台(1),其特征在于:所述测量装置(25)是用于气体或空气含量测量的测量装置(25)。
11.根据权利要求1所述的涂抹台(1),其特征在于:在至少一个从所述涂敷机构(4)出来并通到所述真空排气机(12)内的回流管(26)内安装了过滤器(31)。
12.根据权利要求8或11所述的涂抹台(1),其特征在于:提供了商业上通用的管式过滤器或旋转过滤器作为过滤器(24,31)。
13.根据权利要求11所述的涂抹台(1),其特征在于:用于来自包含所述混合器(13.1)和/或所述存储容器(13.2)的所述准备台(13)的新鲜涂敷介质的供给管(33)通到所述过滤器(31)内,并且,在所述过滤器(31)内过滤后的涂敷介质可通过所述回流管(26)且借助阀(32)引入到所述真空排气机(12)内。
14.根据权利要求3所述的涂抹台(1),其特征在于:来自包含所述混合器(13.1)和/或所述存储容器(13.2)的所述准备台(13)的新鲜涂敷介质仅能通过所述供给管(14)引入到所述真空排气机(12)内。
15.根据权利要求3所述的涂抹台(1),其特征在于:在所述回流管(26)内安装了包括收集元件(29.1)和调节阀(29.2)的空载保护件(29)。
16.根据权利要求1所述的涂抹台(1),其特征在于:为每个待排气的涂敷介质(3)设有至少一个所述真空排气机(12)。
17.根据权利要求9所述的涂抹台(1),其特征在于:所述真空排气机(12)以及所述过滤器(24)和测量装置(25)安装在一个共同的框架(30)上。 
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