CN201180114Y - 一种新型上釉装置

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本实用新型公开了一种用在瓷砖凹版辊筒印花机的新型上釉装置。本实用新型包括上釉***及胶辊，上釉***固定在胶辊上方；所述的上釉***为两套。与现有技术相比，本实用新型装置的有益效果在于：本实用新型增加了一套上釉***，并增加胶辊表面与刮刀片之间釉料的填充次数，从而提高印花质量，减小色差。

一种新型上釉装置

技术领域

本实用新型涉及一种用在瓷砖凹版辊筒印花机的新型上釉装置。

背景技术

目前瓷砖凹版辊筒印花机的上釉装置采用单组***，其上釉过程为：带有用凹坑表征图案的胶辊旋转，在其上方固定有单组的上釉装置。上釉装置上的刮刀片将釉料填充到旋转的胶辊表面的凹坑内，在胶辊与瓷砖表面接触时，胶辊表面凹坑内的釉料转移到瓷砖的表面上。存在以下缺陷：

1.胶辊表面凹坑内一次填充的釉料量与二次(或多次)填充的釉料量相比，一次填充的釉料量明显较少，造成转移到瓷砖表面的釉料量不同，造成色差。

2.为了让填充到胶辊表面凹坑内的釉料量一致，只有在每印完一片瓷砖后，胶辊旋转二次(或多次)填充釉料。然后才能印下一片瓷砖，造成产量低。

发明内容

本实用新型装置的目的在于克服现有技术存在的不足之处，提供一种用于改进凹版胶辊印花机的新型上釉装置。本实用新型可改良生产大规格瓷砖与生产效率提高时出现色差的弊端。

为达到上述目的，本实用新型采取了如下的技术方案：

一种新型上釉装置，包括及上釉***及胶辊，上釉***固定在胶辊上方；所述的上釉***为两套。

上述技术方案中，所述的上釉***由施釉装置及上釉装置构成，上釉装置固定在胶辊上方，施釉装置则固定在上釉装置上。

作为上述技术方案的改进，在上釉装置上装有釉料。

作为上述技术方案的改进，在上釉装置的底端设有刮刀片。

与现有技术相比，本实用新型装置的有益效果在于：

本实用新型增加了一套上釉***，并增加胶辊表面与刮刀片之间釉料的填充次数，从而提高印花质量，减小色差。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

以下结合说明书附图来对本实用新型作进一步的描述，但本实用新型所要求保护的范围并不局限于实施方式所描述之范围。

如图1所示：

图中：施釉装置1，上釉装置2，胶辊3，施釉装置4，上釉装置5，釉料6，刮刀片7，瓷砖8，传动皮带9。

作为上述技术方案的改进，在上釉装置上装有釉料。

作为上述技术方案的改进，在上釉装置的底端设有刮刀片。

本实用新型的工作原理如下：

瓷砖8由传动皮带9输送到胶辊3的正下方，经胶辊3的转动与传动皮带9的走动同一线速度来实现印花。再经施釉装置1、施釉装置4分别将釉料施加到胶辊3与上釉装置2、上釉装置5之间，通过胶辊3的转动来实现多次填充，如此循环。

如图1所示：胶辊3上的弧CA刚同瓷砖8印花，胶辊3上的弧CA釉料已移印到瓷砖8的表面上，由胶辊3的旋转将弧CA经2次的施釉和上釉来实现多次填充，依次类推。

1.一种新型上釉装置，包括及上釉***及胶辊，上釉***固定在胶辊上方；其特征在于：所述的上釉***为两套。

2.根据权利要求1所述的一种新型上釉装置，其特征在于：所述的上釉***由施釉装置及上釉装置构成，上釉装置固定在胶辊上方，施釉装置则固定在上釉装置上。

3.根据权利要求2所述的一种新型上釉装置，其特征在于：在上釉装置上装有釉料。

4.根据权利要求3所述的一种新型上釉装置，其特征在于：在上釉装置的底端设有刮刀片。