CN201071330Y - 酸化水解池 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种酸化水解池,主要由厌氧区、沉淀区组成,厌氧区和沉淀区设置为上、下两层,上层为沉淀区,下层为厌氧区,厌氧区和沉淀区之间为配水区,厌氧区为一环形推流池,池内采用隔板隔开,在池的底部设有推流器,本实用新型采用厌氧区和沉淀区一体设置,占地面积小,经济效益好,厌氧区采取环形推流池,通过推流器推流并以循环流动方式不断运行,能实进入污水与反应器污水的充分混合,提高了厌氧反应的效率。
Description
技术领域
本发明涉及一种废水处理设备,尤其是涉及一种酸化水解池,应用于纺织印染废水的处理。
背景技术
酸化水解池又称厌氧反应池,是纺织印染废水处理中非常重要的废水处理设备之一,主要针对其中难以降解的染料进行处理,由于纺织印染废水组分复杂,含有多种染料和各种处理剂,色度深,难降解,PH波动大,因此处理起来十分困难,现有的酸化水解池更适合浓度较低的废水,因此,对于难降解的纺织印染废水,存在着不耐冲击、处理效率低的缺陷。
实用新型内容
为解决现有技术的上述缺陷,本实用新型的目的在于提供一种高效、耐冲击的酸化水解池。
本实用新型采取的技术方案如下,一种酸化水解池,主要由厌氧区2、沉淀区3、组成,厌氧区2和沉淀区3设置为两层,上层为沉淀区3,下层为厌氧区2,厌氧区2和沉淀区3之间为配水区4,厌氧区2为一环形推流池,池内采用隔板11隔开,在池的底部设有推流器6,推动水流在池中循环流动,以使泥水充分混合,沉淀区3为三相分离区,设在环形推流池的上面,沉淀区3内设有吸泥机7、吸泥管10、集泥渠8、集泥槽5、集水槽9。
本实用新型采用厌氧区2和沉淀区3一体设置,占地面积小,经济效益好,厌氧区2采取环形推流池,通过推流器6推流并以循环流动方式不断运行,能实进入污水与反应器污水的充分混合,从而达到减小水质变化冲击的能力,提高了厌氧反应的效率,并在最大程度上简化了进水及出水的分布设计。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为图的A-A剖面图;
图3为图的B-B剖面图。
具体实施方式
如图1、图2、图3所示,本实用新型主要由厌氧区2、沉淀区3、组成,厌氧区2和沉淀区3设置为两层,上层为沉淀区3,下层为厌氧区2,厌氧区2和沉淀区3之间为配水区4,厌氧区2为一环形推流池,池内采用隔板11隔开,在池的底部设有推流器6,推动水流在池中循环流动,以使泥水充分混合,沉淀区3为三相分离区,设在环形推流池的上面,沉淀区3内设有吸泥机7、吸泥管10、集泥渠8、集泥槽5、集水槽9。
工作时,污水经进水区1直接进入到厌氧区2的环形推流池内,在环形推流池内,在推流器6的作用下,推动水流并使污泥搅动起来,形成水流循环,充分完成厌氧区2内的污泥与水的混合接触,这样,污水可直接从进水区1进入到水流循环进行厌氧反应,这样,进水及出水分布设计大大被简化,然后,污水经配水区4进入到沉淀区3中实现三相分离,废水经三相分离后,出水由集水槽9排出,污泥被吸泥机7吸出到集泥槽5中。
Claims (2)
1.一种酸化水解池,主要由厌氧区(2)、沉淀区(3)组成,其特征在于:厌氧区(2)和沉淀区(3)设置为上、下两层,上层为沉淀区(3),下层为厌氧区(2),厌氧区(2)和沉淀区(3)之间为配水区(4),厌氧区(2)为一环形推流池,池内采用隔板(11)隔开,在池的底部设有推流器(6),沉淀区(3)为三相分离区,设在环形推流池的上面。
2.根据权利要求1所述的一种酸化水解池,其特征在于:在沉淀区(3)内设有吸泥机(7)、吸泥管(10)、集泥渠(8)、集泥槽(5)、集水槽(9)。
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CNU200720111909XU CN201071330Y (zh) | 2007-07-13 | 2007-07-13 | 酸化水解池 |
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CNU200720111909XU CN201071330Y (zh) | 2007-07-13 | 2007-07-13 | 酸化水解池 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104045150A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司 | 一种用于污水预处理的厌氧酸化水解沉淀池 |
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2007
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN104045150A (zh) * | 2013-03-14 | 2014-09-17 | 上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司 | 一种用于污水预处理的厌氧酸化水解沉淀池 |
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GR01 | Patent grant | ||
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