CN1983150A - 整合数字器输入装置于显示器装置中的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种整合数字器的传感器阵列于平板显示器中的方法。上述传感器阵列形成显示器组件(例如液晶(LC)层或有机发光(OLED)层)的一侧,即显示器模块的像素控制开关(例如TFT)的所在处。或位于显示器组件的另一侧,即显示器模块的像素控制开关不存在处。特别应注意的是,传感器阵列可形成于(a)像素控制开关的平坦层的形成步骤之前,(b)像素控制开关的平坦层的形成步骤之后,(c)像素控制开关的形成步骤之前,及/或(d)形成于彩色滤光层的上或下侧,或形成于密封层的上或下侧。
Description
技术领域
本发明有关于平板显示器装置,且特别是有关于一种用于平板显示器装置的二维侦测位置数字器输入装置,更特别是有关于一种整合数字器输入装置于平板显示器装置中的方法。
背景技术
平板显示器例如液晶显示器(LCD)及有机发光显示器(OLED)已普遍使用于影像显示用途。液晶显示器(LCD)的型态之一提供二维位置侦测输入装置(例如数字器(digitizer))允许使用者执行输入动作,例如让使用者与显示的影像(例如选取图标(icon))互动、手写辨识、绘图、控制光标等。此型态的LCD一般称为触控式液晶显示器(touch panel LCD)。上述数位器(dgiitizer)的感测机制又可区分为电阻感测式、电容感测式、红外线感测式、声波感测式、力感测式、及电磁感测式等。
就电磁感测式触控式面板而言,其操作原理基于磁感应。磁感应输入装置包括三个主要构件,即二维传感器阵列,电磁笔,及控制器于操作上耦接该测器阵列与该电磁笔。电磁笔的作用为信号传送,而测器阵列的作用为信号接收,以及控制器决定电磁笔相对于测器阵列的二维坐标位置,此乃由于电磁笔会造成磁通量改变,进而使测器阵列产生磁感应电流变化,藉由侦测此电流变化即可决定电磁笔的坐标位置。因此,当电磁笔相对侦测器阵列的附近移动时,电磁笔相对显示器表面的二维坐标位置(例如X-Y坐标位置)可由控制器所决定。由于电磁数字器能提供相对精确的电磁笔位置,因而相较于其它触控感测机制,电磁数字器具较高的分辨率。
***板显示器。图1显示传统的平板显示器500具平板显示器模块502(例如LCD模块)及分离的电磁数字器板504,以堆叠型式组装。例如,数字器板504黏结于平板显示器模块502的平坦表面。控制器508于操作上耦接至该电磁数字器板504与对应的电磁笔506。数字器板504包括传感器阵列,其由传统的印刷电路技术形成。由于相较于半导体电路制造技术,由印刷电路技术所形成的传感器所占物理面积大且分辨率低。更明确地说,传感器阵列由金属导线形成,其由印刷电路技术所形成的维度为数百微米,相对由半导体电路制造技术,其维度为数微米。为了达到所欲的感测率,传感器阵列的面积必须非常大。更有甚者,由于传统电磁数字器板504为一独立且分离的装置,黏贴于显示器模块502上,因而增加整体平板显示器500的厚度及重量。
美国早期公开专利第US20060146033A1号揭露一种整合数字器输入装置于平板显示器中的方法,可有效地降低整体平板显示器的厚度及重量。本发明的美国共同申请案号第_______号揭露一种将数字器传感器阵列结构微缩化的方法,使其能够整合至平板显示器装置中。
有鉴于此,业界亟需一种整合数字器传感器阵列结构于平板显示器装置中的改良方法。
发明内容
本发明提供一种改良的整合数字器传感器阵列结构于平板显示器装置中的方法。上述传感器阵列包括新式的感测节段结构,由是于整合至显示器装置的显示模块中,(例如LCD装置的LCD模块中或OLED装置的OLED模块中)。
根据本发明的一方面,传感器阵列以单层或多层的型式形成,以藉由半导体工艺整合至显示器模块的不同层内,以有别于***板显示器模块外侧的方法。传感器阵列形成显示器组件(例如液晶(LC)层或有机发光(OLED)层)的一侧,即显示器模块的像素控制开关(例如薄膜晶体管(TFT))的所在处。或者位于显示器组件的另一侧,即显示器模块的像素控制开关不存在处。特别应注意的是,传感器阵列可形成于(a)像素控制开关的平坦层的形成步骤之前,(b)像素控制开关的平坦层的形成步骤之后,(c)像素控制开关的形成步骤之前(例如于形成电极层形成于基板步骤之前或之后,将传感器阵列形成基板上),及/或(d)形成于彩色滤光层的上或下侧(例如用于液晶显示器模块),或形成于密封层的上或下侧(例如用于有机发光显示器模块)。
为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1显示传统的平板显示器具平板显示器模块(例如LCD模块)及分离的电磁数字器板,以堆叠型式组装;
图2显示根据本发明的实施例的平板显示器装置的示意图;
图3显示根据本发明实施例的LCD模块的剖面示意图,其显示数字器于LCD模块内的数种不同位置的示意;
图4显示根据本发明实施例的形成LTPS TFT组件的工艺步骤流程图;
图5A-5C显示根据本发明不同实施例的整合数字器于LTPS TFT阵列中的制造流程示意图;
图6显示根据本发明实施例的形成a-SiTFT组件的工艺步骤流程图;
图7A-7C显示根据本发明不同实施例的整合数字器于a-Si TFT阵列中的制造流程示意图;
图8A及8B显示分别显示根据本发明实施例的整合数字器的数种排列方式;
图9显示根据图3(不含数字器)中彩色滤光层的工艺步骤的流程图;
图10A-10C显示根据本发明不同实施例的整合数字器于彩色滤光层的制造流程示意图;
图11显示根据本发明实施例的OLED模块112的剖面示意图;
图12显示根据本实施例的形成AMOLED阵列于OLED模块基板上的制造流程示意图;
图13显示根据本实施例的整合数字器的感侧阵列与AMOLED模块的制造流程示意图;
图14显示根据本实施例的形成PMOLED阵列于OLED模块基板上的制造流程示意图;
图15显示根据本实施例的整合数字器的感侧阵列与PMOLED模块的制造流程示意图;以及
图16显示显示根据本发明实施例包含显示器组件的电子装置100的的方块示意图。
【主要组件符号说明】
习知部分(图1)
500~平板显示器;502~显示器模块;504~电磁数位器板;506~电磁笔;508~控制器。
本申请部分(第2~16图)
10~平板显示器装置;12~LCD模块;14~背光模块;16~液晶层;20、22与120、122~基板;18、18a-18h~数位器;24~触控笔;26~控制器;28~共同电极;29~透明电极;30~彩色滤光层;32~TFT阵列;34~平坦化层;36~接触孔;38~介电层;112~OLED模块;116~有机发光层(OLED)结构;117~电子传输层;118~发光层;119~空穴传输层;128~阴极;129~阳极;130~密封层;100~电子装置;102~显示统;103~输入/输出(I/O)控制器;106~接口控制器。
具体实施方式
本发明提供一种平板LCD或OLED显示器装置,其各别包括LCD模块及OLE模块做为显示器模块,且各别藉由LCD组件与OLED组件做为显示组件,可藉由控制器产生影像。再者,本发明以电磁式数字器做为实施例描述依据。由以下的实施例说明可知,本发明亦适用于其它型式的数字器,并可搭配其它型态的显示器装置,无论是否为平板式,其具有显示器模块包括显示组件,例如阴极射线管(CRT)组件、有机发光显示器(0LED)组件、场发射显示器(FED)组件、等离子发光显示器组件、荧光发光显示器组件、化学发光显示器组件、或其它型态的发光显示器组件。于以下说明书的平板显示器定义包括刚体型式、半刚体型式、可挠曲式及/或软垫式。
图2显示根据本发明的实施例的平板显示器装置10的示意图。请参阅图2,平板显示器装置10包括LCD模块12及背光模块14操作上耦接至LCD模块12。LCD模块12包括液晶层16夹置于两基板20与22之间。液晶层16可受电场控制以调节及/或过滤穿透光,并使其在像素化的单元上形成合成的影像。为使本发明的实施例结构更为清楚明确,图2中删除部分的次要组件。例如,典型的平板显示器装置亦包括多层结构,例如电极层,像素控制开关(例如薄膜晶体管(TFT)阵列)、罩幕层、LC配向层、彩色滤光层、LCD模块12内的反射层(上述部分的构件显示于图3中),以及其它功能层,例如扩散层、亮度加强层及保护层,皆设置于显示器组件10内相对于该LCD模块12,且为简明起见,皆由图2中略去。再者,背光模块14可包括光源(未图示),设置于平板的边角或侧边。于LCD模块12操作时,自背光模块14的光受到调节、调变、及/或过滤穿透液晶层16,以根据影像数据产生影像。控制器26控制LCD模块12的操作状态(例如藉电极或驱动器(未示出)有效地控制液晶层16转向)。控制器26可以是显示器装置10的一部分,及/或计算装置的一部分,该显示器装置10于运作上依附于该计算装置。
根据本发明的一实施例,电磁式数字器18具有新颖的感测节段结构,夹置于液晶层16与基板20之间,且于操作上耦接至控制器26。或者,电磁式数字器18可设置于LCD模块12内的其它位置,例如位于液晶层16与基板22之间,或位于LCD模块12的基板20及22间的另一中间位置,例如于图3所示的实施方式。应可理解的是,电磁式数字器18整合至显示器装置10的LCD模块12内,以有别于***板显示器模块外侧的方法(例如于图1所示的LCD模块的基板外侧)。为此,显示器装置10的整体厚度得以减低。
为使电磁式数字器18得以完整操作,本发明实施例仍提供触控笔24(例如外形像笔的构件)。触控笔24于操作上耦接至控制器26,皆可以有线或无线的型式耦接。触控笔24包括一或多个按键开关,可使触控笔24选择输入多个相关模式或功能(例如手写辨识模式、点取或按键模式等)。触控笔24包括磁性组件,包括永久磁铁或电磁铁。当触控笔24行动横越基板20时,其对位置坐标可由控制器26决定,此乃基于电磁式数字器内的传感器节段可侦测到磁通量的变化所致。此电磁式数字器的基本操作原理为任何所属技术领域中具有通常知识者所具备的基本电磁学知识,为求说明书简洁起见,于此不再赘述。
控制器26控制LCD模块12包括数字器及对应的触控笔,且与其协同一致地运作。因而,由LCD模块12显示的影像可藉由触控笔输入而控制,或与使用者互动(例如轻敲显示器模块以执行选取动作,或藉由移动触控笔于显示器模块以绘图或手写输入)。
于本发明的一实施例样态中,上述传感器阵列以单层或多层的型式形成,以藉由半导体工艺整合至显示器模块的不同层内,以有别于***板显示器模块外侧的方法。传感器阵列形成显示器组件(例如液晶(LC)层或有机发光(OLED)层)的一侧,即显示器模块的像素控制开关(例如薄膜晶体管(TFT))的所在处。或者位于显示器组件的另一侧,即显示器模块的像素控制开关不存在处。特别应注意的是,传感器阵列可形成于(a)像素控制开关的平坦层的形成步骤之前,(b)像素控制开关的平坦层的形成步骤之后,(c)像素控制开关的形成步骤之前(例如于形成电极层形成于基板步骤之前或之后,将传感器阵列形成基板上),及/或(d)形成于彩色滤光层的上或下侧(例如用于液晶显示器模块),或形成于密封层的上或下侧(例如用于有机发光显示器模块)。
图3显示根据本发明实施例的LCD模块12的剖面示意图,其显示数字器18于LCD模块12内的数种不同位置的示意。(为简化且为了参考作用的故,数字器的各种可能位置变化皆显示于图3中,然其并非意味着数字器可同时存在于LCD模块12内的所有位置,数字器可于以下不同位置择一设置18a、18b、18c、18d及18e)。于图3所示的实施例中,LCD模块12包括基板20与22,可为玻璃构成的基板。液晶(LC)层16夹置于基板20与22之间。电极28与29分别设置于靠近LC层16的位置,提供偏压于LC层16以调节且/或过滤穿透光,并使其在像素化的单元上形成合成的影像。彩色滤光层30设置于上基板20的下方,以及TFT阵列32设置于LC层16与下基板20之间。平坦化层34(或称为接触孔形成层)设置于TFT阵列32与LC层16之间,接触孔36接触栓可穿透平坦化层34形成,且电极29与TFT阵列32的电性连接可藉此形成。为了简明且避免混淆本发明的主要技术特征的故,TFT阵列32的详细叙述于此省略,且可以***板显示器的TFT阵列皆可应用于本发明实施例中。于本实施例中以TFT阵列32的基本结构揭露已足够,其包括多个TFT(各具有沟道及对应的栅极、漏极与源极)构成的阵列以及辅助的储存电容,其中TFT的位置定义于正交的数据线与扫描线的交错节点阵列上。TFT的栅极于操作上电性连接至扫描线。由此观之,LCD模块12的影像输出表面为上基板20表面。
为求简明,数字器18的传感器阵列的详细叙述于图3中略去。数字器18可包括一对传感器阵列(例如于该阵列中具有X-感测阵列与Y-感测阵列的感测节段,彼此之间正交),上述阵列整体表示成数字器18。于图3中,其显示五个不同的数字器18位置整合于LCD模块12之内。其中三个位置18a、18b与18c表示于液晶层16的一侧,即存在TFT阵列的一侧。另两个位置18d与18e表示于液晶层16的另一侧,即不存在TFT阵列的一侧。
TFT阵列可包括多个TFT组件,又可分为非晶质硅(a-Si)型及低温多晶硅(LTPS)型。上述两种型式的TFT组件的工艺步骤包括许多共同的步骤,然而LTPS TFT组件仍需许多独特的额外步骤。图4显示根据本发明实施例的形成LTPS TFT组件的工艺步骤流程图,以及图6显示根据本发明实施例的形成a-Si TFT组件的工艺步骤流程图。由于上述工艺步骤仅涉及传统半导体工艺的图案化及微影步骤,例如光掩模、曝光、掺杂、沉积、蚀刻等,已形成所欲的图案化结构与导电特性(包括数字器感侧阵列),其详细的描述于此省略。
请参阅图4,当TFT阵列32由LTPS TFT阵列所构成时,其形成步骤大体上包括以下步骤,形成掺杂的多晶硅信道区域、栅极及漏极与源极区域(例如N+且/或P+区域)。图案化数据线以藉由介电层38的接触孔耦接至TFT组件的栅极。并且,于图案化透明电极层(如图3的标号29;铟锡氧化物(ITO)层)的步骤之前,上述的结构覆以平坦化层(如图3的标号34)。然而,完成LCD模块12仍需许多额外中间步骤,为求说明书简明,在此仍略去其详细叙述。
请参阅图5A,形成数字器18a的步骤包括,于数据线的形成步骤与平坦化层34的形成步骤之间,将数字器18a内的感测阵列图案化。例如,如图5A中所示,数字器18a形成于数据线上方的介电层38上。其它完成LCD模块12的步骤并非完全图示于图5A中。请参阅图5B,形成数字器18b的步骤包括,于透明电极29的形成步骤与LC层16的形成步骤之间,将数字器18b内的感测阵列图案化。介电层(未示出)可于数字器18b的形成步骤之前,设置于透明电极29上。接着,再执行LC层16的形成步骤以及其它形成LCD模块12结构的形成步骤。或者,请参阅图5C,数字器18c可形成于下基板22上,然后再形成TFT阵列。数字器18c内的感测阵列可于基板上执行图案化,其间可包括或不包括缓冲层,接着再执行LTPS TFT的工艺步骤及其它形成LCD模块12结构的形成步骤。
应注意的是,在不脱离本发明的精神和范围内,类似的工艺步骤亦可应用于有源组件阵列液晶显示器(简称AMLCD),其包括像素控制开关例如PMOS TFT阵列。再者,LCD模块12另包括对应的穿透式、半反穿式、微反射式及反射式LCD模块,其结构与工艺步骤于此不再赘述。
请参阅图6,当TFT阵列32由a-Si TFT阵列所构成时,其形成步骤大体上包括以下步骤,形成栅极、图案化数据线及形成接触孔于介电层38(其包括平坦化层)中。接着,再图案化透明电极层(如图3的标号29;铟锡氧化物(ITO)层)。然而,完成LCD模块12仍需许多额外中间步骤,为求说明书简明,在此仍略去其详细叙述。
本实施例的形成数字器于含a-Si TFT阵列的LCD模块的步骤与先前实施例含LTPS TFT阵列的LCD模块的步骤相似。请参阅图7A,形成数位器的步骤类似图5A中形成数位器18c的步骤。数字器的感测阵列可形成于下基板22上,然后再形成a-Si TFT阵列。数字器18c内的感测阵列可于下基板22上执行图案化,其间可包括或不包括缓冲层,接着再执行a-Si TFT的工艺步骤。或者,请参阅图7B,形成数位器的步骤类似图5A中形成数位器18a的步骤。形成数字器18a的步骤包括,于数据线的形成步骤与接触孔的形成步骤之间,将数字器18a内的感测阵列图案化。请参阅图7C,形成数位器的步骤类似图5A中形成数位器18b的步骤。形成数字器18b的步骤包括,于透明电极层29的形成步骤与LC层16的形成步骤之间,将数字器18b内的感测阵列图案化。介电层(未示出)可于数字器18b的形成步骤之前,设置于透明电极层29上。
就被动阵列式液晶显示器(简称PMLCD,未图示)而言,图8A及8B显示整合数字器的数种排列方式。请参阅图8A,数位器内的感测阵列可形成于下基板22上,其间可包括或不包括缓冲层,类似上述图5C及7A实施例的工艺步骤,然后再形成LC层的电极。请参阅图8B,数位器内的感测阵列可形成于形成透明电极(例如图案化的ITO)的步骤之后。在形成透明电极的步骤之后,沉积介电层,接着再形成数字器内的感测阵列,如图8B所示。在个别地完成图8A及8B所示的工艺步骤之后,利用传统的工艺步骤即可完成PMLCD显示器,上述工艺步骤包括形成液晶层、上电极、彩色滤光层30及上基板20。若所欲将该数位器设置于LC层靠近上基板的一侧时,相较于图8A及8B所示的形成步骤,亦可使用类似的步骤形成上基板的结构。因此,图8A及8B所示的工艺步骤皆可应用于形成上基板及下基板结构,端视该数字器所在的位置而决定。
根据发明的另一实施例,数字器可整合至彩色滤光层30中。图9显示根据图3(不含数字器)中彩色滤光层的工艺步骤的流程图。请参阅图9,彩色滤光层30的形成步骤大体上包括以下步骤,清洗基板、旋转涂布光阻、前烘烤、光阻的曝光及显影、显影后光阻之后烘烤、形成缓冲层或介电层所构成的覆盖层,溅镀ITO层以做为LC层16的上共同电极28。上述步骤包括形成所有所欲的彩色滤光层30(例如红、绿及蓝三色彩色滤光层)。上述形成LCD模块的剩余步骤包括形成TFT阵列32、LC层16及其它显示器模块的构件(除了本发明的数字器的外)皆为习知的工艺技术于此不再赘述。然而,完成LCD模块12仍需许多额外中间步骤,为求说明书简明,在此仍略去其详细叙述。
请参阅图10A,形成如图3所示的数字器18d的步骤包括,于覆盖层的形成步骤与溅镀ITO电极28的形成步骤之间,将数字器18d内的感测阵列图案化。或者,请参阅图10B,ITO电极28可形成于该数位器与彩色滤光层30(未图示于图3)之间。于此实施例,为将数字器形成上电极28下,数字器的感测阵列形成于透明电极28形成上基板20的形成步骤之后。再者,请参阅图10C,数位器18e可形成于上基板20上,其间可包括或不包括缓冲层,之后再形成彩色滤光层30。接着,将具有彩色滤光层30、上电极28及数字器18的上基板20与具有TFT阵列32(其包括a-Si TFT或LTPS TFT组件)的下基板22对向组合,其间夹置液晶层,以完成如图3所示的LCD模块结构。
应注意的是,在不脱离本发明的精神和范围内,将数字器整合至彩色滤光层中的实施例亦可应用于PMLCD装置中。
图11显示根据本发明实施例的OLED模块112的剖面示意图。OLED模块112具有多个OLED显示组件,于此实施例中,为有源阵列式OLED(AMOLED)模块。其显示数字器18于OLED模块112内的数种不同位置的示意。(为简化且为了参考作用,数字器的各种可能位置变化皆显示于图11中,然其并非意味着数字器可同时存在于OLED模块112内的所有位置,数字器可于以下不同位置择一设置18f、18g及18h)。于图11所示的实施例中,OLED模块112包括基板120与122,可为玻璃构成的基板。于基板120与122之间分别设置有一有机发光层(OLED)结构116,通常具多个子层(sub-layer)包括电子传输层117、发光层118及空穴传输层119,以及有机发光层(OLED)结构116的电极128(阴极)与129(阳极),用以提供电场驱动有机发光层(OLED)结构116使其发光。密封层130设置上基板120下方(例如玻璃材质覆盖整体结构),以及TFT阵列132设置于有机发光层(OLED)结构116与下基板122之间。平坦化层134设置于TFT阵列132与有机发光层(OLED)结构116之间,接触孔136接触栓可穿透平坦化层134形成,且电极129与TFT阵列132的电性连接可藉此形成。
本实施例的数字器18的位置相似于先前实施例的数字器的位置。于图11中,其显示三个不同的数字器18位置整合于OLED模块112之内。其中两个位置18f与18g表示于OLED层116的一侧,即存在TFT阵列132的一侧。另一个位置18h邻近于密封层130。
TFT阵列132可包括非晶质硅型TFT(a-Si TFT)阵列及/或低温多晶硅型TFT(LTPS TFT)阵列,类似前实施例所述的TFT阵列32相对于LCD模块12的关系。就其本身而论,形成数位器18f与18g的工艺步骤类似形成数位器18a与18c的工艺步骤,皆已接露于先前实施例的图5A及5C。
请参阅图12,AMOLED模块(不包括数字器)的形成步骤大体上包括以下步骤,清洗基板122、形成OLED的阳极电极129、形成绝缘层(空穴传输层)、形成OLED的有机发光层、形成阴极电极128以及形成密封层130。然而,完成OLED模块112仍需许多额外中间步骤,为求说明书简明,在此仍略去其详细叙述。
请参阅图13,形成数字器18h的步骤包括,于阴极电极128的形成步骤与密封层130的形成步骤之间,将数字器18h内的感测阵列图案化。介电层可设置于阴极电极128与数字器18h。接着,进行其它必要形成步骤以完成OLED模块112。
请参阅图14,PMOLED模块(未示出于图11中,其不包括数字器)的形成步骤大体上包括以下步骤,清洗基板122、形成OLED的阳极电极129、形成绝缘层(空穴传输层)、形成OLED的有机发光层、形成阴极电极128以及形成密封层130。然而,完成OLED模块112仍需许多额外中间步骤,为求说明书简明,在此仍略去其详细叙述。
请参阅图15,形成数字器的步骤包括,于阴极电极128的形成步骤与密封层130的形成步骤之间,将数字器内的感测阵列图案化,类似于先前图13所示的实施例。接着,进行其它必要形成步骤以完成OLED模块112。
图16显示显示根据本发明实施例包含显示器组件的电子装置100的方块示意图。电子装置100包括显示统102以显示影像以及输入/输出(I/O)控制器103以提供显示统102显示影像的影像数据,以及根据该影像数据显示影像。显示统102包括显示器装置10(例如LCD装置或OLED装置),以及接口控制器106,藉由I/O控制器103交换影像数据及使用者输入数据(其源自数字器18)。显示器组件包括显示器模块(例如LCD模块12与OLED模块112)与本发明的电磁式数字器18以及控制器26(例如驱动器)整合。电子装置100可包括例如手提电脑、手机(mobile phone)、数字相机、个人数字理(PDA)、笔记型计算机、桌上型计算机、电视、汽车内显示器,可携式DVD播放机或其它可携式电子装置。
本发明虽以优选实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明的范围,任何所属技术领域中的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可做些许的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视申请专利范围所界定者为准。
Claims (20)
1.一种形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,包括:
提供显示器模块,其具有显示器组件包括第一基板与第二基板其间相隔以距离且定义出空间以支持该显示器组件;以及
提供数字器于该第一基板与该第二基板所定义出的该空间中,且位于该显示器组件与该第一基板与该第二基板其一之间。
2.如权利要求1的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该数字器包括电磁数字器。
3.如权利要求1的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该数字器包括传感器阵列,其由半导体工艺形成。
4.如权利要求3的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该半导体工艺包括一光微影工艺。
5.如权利要求1的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,更包括形成像素控制开关阵列于该第一基板上;其中该数字器形成于该像素控制开关阵列与(a)该显示器组件及(b)该第一基板之一之间。
6.如权利要求5的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,更包括设置一偏光层于该像素控制开关阵列与该显示器组件之间;其中该数字器形成于该偏光层与(a)该显示器组件及(b)该像素控制开关阵列至少之一之间。
7如权利要求5的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该像素开关控制阵列包括薄膜晶体管阵列。
8.如权利要求7的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该薄膜晶体管包括低温多晶硅薄膜晶体管及非晶质硅薄膜晶体管的至少其中之一。
9.如权利要求1的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,更包括形成像素开关控制阵列于该第一基板上;其中该数字器形成于该显示器组件与该第二基板之间。
10.如权利要求9的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,更包括形成彩色滤光层于该第二基板与该显示器组件之间;其中该数字器形成于该彩色滤光层与(a)该显示器组件及(b)该第二基板至少之一之间。
11.如权利要求10的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该显示器组件包括液晶显示器组件。
12.如权利要求9的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,更包括形成密封层于该第二基板与该显示器组件之间;其中该数字器形成于该密封层与(a)该显示器组件及(b)该第二基板至少之一之间。
13.如权利要求12的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法,其中该显示器组件包括有机发光显示器组件。
14.一种形成显示器装置的方法,包括:
提供具有数字器的显示器模块,其由根据权利要求1的形成供使用者输入的数字器对应显示器模块的方法形成;以及
提供控制器,其操作上耦接至具有该数字器的该显示器模块,使该显示器组件与该数字器协同一致运作。
15.一种形成显示器统的方法,包括:
提供显示器装置,其由根据权利要求14的形成显示器装置的方法形成;以及
提供接口控制器耦接至该显示器装置,且藉电子装置的控制器提供由该数字器交换影像数据及使用者输入数据。
16.一种形成电子装置的方法,包括:
提供显示器统,其由根据权利要求15的形成显示器统的方法形成;以及
提供控制器,其操作上耦接至该显示器统的该接口控制器,以从该数字器交换影像数据及使用者输入数据。
17.一种整合数字器于具有显示器组件的显示器模块中的方法,包括:
提供第一基板;
设置第二基板其相隔该第一基板以距离且定义出空间以支持该显示器组件;以及
提供数字器于该第一基板与该第二基板所定义出的该空间中,且位于该显示器组件与该第一基板与该第二基板其一之间。
18.一种提供使用者输入至电子组件的方法,包括:
提供显示器模块,其具有显示器组件包括第一基板与第二基板其间相隔以距离且定义出空间以支持该显示器组件;以及
提供数字器于该第一基板与该第二基板所定义出的该空间中,且位于该显示器组件与该第一基板与该第二基板其一之间。
19.如权利要求18的提供使用者输入至电子组件的方法,其中该数字器包括电磁数字器。
20.如权利要求19的提供使用者输入至电子组件的方法,其中该数字器的操作与该显示器模块显示的影像协同一致,使得使用者输入该数字器以响应该影像。
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