CN1967337A - 彩色滤光片以及半透射式液晶显示装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种彩色滤光片以及半透射式液晶显示装置的制造方法。彩色滤光片具有不同厚度，该半透射式液晶显示装置具有该滤光片。该液晶显示装置包含一下基底，其上具有一绝缘层；一下电极，位于绝缘层上，而下电极具有一反射区与一透射区；一上基底，其相对应于下基底的一表面上具有一彩色滤光片，其中彩色滤光片具有不同的厚度区；一平坦层，位于彩色滤光片上；一上电极，位于平坦层上；一液晶层，设置于上基底与下基底之间。

Description

彩色滤光片以及半透射式液晶显示装置的制造方法

本申请是申请日为2004年1月9日、题为“彩色滤光片的制造方法以及半透射式液晶显示装置”的第200410001489.0号发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明有关一种半透射式液晶显示器及其制备方法，且特别是有关于一种具有不同厚度的彩色滤光片的半透射式液晶显示器及其制备方法。

背景技术

反射式液晶显示器(reflective liquid crystal display，RLCD)可分为“全反射式”与“半透射式”两大类。全反射式LCD不用背光源，利用附在LCD面板上的反射板来反射外部光线，好处是极为省电，但是缺点是在较暗的环境看不到显示屏幕内容且对比度较差，因此一般会用前光源作为辅助光源。而半透射式LCD(transflective LCD)是当外部光线足够时就用外部光源，不足时可点亮背光源，是兼具省电以及具辅助光线的方式，因此是许多手机、个人数字助理(PDA)以及手提电脑等便携式液晶显示装置的优先选择。

请参阅图1，图1为显示现有半透射式LCD结构的一例的示意图。

现有半透射式LCD的结构，其结构包括有：

一下基底100，其上具有一绝缘层110；

一下电极120，位于该绝缘层110上，该下电极120具有一反射区122与一透射区124，其中该反射区122例如是铝层，而该透射区124例如是铟锡氧化物(ITO)层；

一上基底160，其内侧表面上具有一彩色滤光片150上；

一上电极140，位于该彩色滤光片150上；以及

一液晶层130，设置于该上基底160与该下基底100之间。

然而，上述现有半透射式LCD在反射模式(reflective mode)时，环境光(ambient light，即反射光)170透过彩色滤光片150的次数是两次。而在透射模式(transmissive mode)时，背光(backlight，即透射光)180透过彩色滤光片150的次数是一次。因此造成在反射模式与透射模式下的显示颜色无法相同，亦即有色彩浓度(色饱和度，color purity)相差很大的问题，而降低半透射式LCD的显示品质(display-quality)。

近来，业界提出一种具有不同厚度的彩色滤光片的半透射式LCD。以下利用图2A～2C来说明上述半透射式LCD的彩色滤光片制造流程。

首先，请参阅图2A，先在一基底200上形成图案化的一透明光致抗蚀剂层210，该透明光致抗蚀剂层210对应半透射式LCD的反射区(reflectiveregion)201。

接着，请参阅图2B，形成图案化的一红色光致抗蚀剂层220于部分基底200与部分透明光致抗蚀剂层210上。

接着，请参阅图2C，依序形成图案化的一绿色光致抗蚀剂层230与一蓝色光致抗蚀剂层240于部分基底200与部分透明光致抗蚀剂层210上。如此，现有的具有不同厚度的彩色滤光片250即完成。

然而，由于现有工艺中必须在基底200上先形成透明光致抗蚀剂层210，因而需要增加一道光掩模，而增加成本。并且，涂布在透明光致抗蚀剂层210上的该红色光致抗蚀剂层220、绿色光致抗蚀剂层230及蓝色光致抗蚀剂层240的表面并不平坦，亦即现有工艺不易控制该红色光致抗蚀剂层220、绿色光致抗蚀剂层230及蓝色光致抗蚀剂层240的膜厚，因而不易完全解决色彩浓度(色饱和度，color purity)相差的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明的一目的在于提供一种半透射式LCD，其特征在于其具有不同厚度的彩色滤光片。

本发明的另一目的，在于提供一种具有不同厚度的彩色滤光片，主要应用于半透射式LCD。

本发明的又另一目的，在于提供一种具有不同厚度的彩色滤光片的制备方法。

为达上述目的，本发明提供一种具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置，其中第一基底与第二基底对向设置，彩色滤光片位于第一基底上，且对应透射区的彩色滤光片具有第一厚度，对应反射区的彩色滤光片具有第二厚度，第一厚度大于第二厚度。此外，液晶层夹设于第二基底与彩色滤光片之间。

上述的具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置中，第一基底为下基底，且包含薄膜晶体管阵列，第二基底为上基底。或者，第二基底为下基底，且包含一薄膜晶体管阵列，第一基底为上基底。

其中，具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，包括下列步骤：(a)提供一基底，该基底具有一第一区与一第二区；(b)形成一厚彩色光致抗蚀剂层于该基底上；以及(c)藉由光刻工序去除部分位在该第二区中的该厚彩色光致抗蚀剂层，而形成一薄彩色光致抗蚀剂层于位在该第二区中的该基底上。

其中，该第一区对应半透射式液晶显示器(transflective LCD)的透射区(transmissive region)，而该第二区对应半透射式液晶显示器(transflective LCD)的反射区(reflective region)。

还有，步骤(c)的去除部分位在该第二区中的该厚彩色光致抗蚀剂层的方法，是藉由利用光掩模进行曝光和显影而达成。其中，当该厚彩色光致抗蚀剂层由正型光致抗蚀剂所组成时，使用的光掩模包括对应于第一区的完全遮光图案以及对应于第二区的部分透光图案。当该厚彩色光致抗蚀剂层由负型光致抗蚀剂剂所组成时，使用的光掩模包括对应于第一区的完全透光图案以及对应于第二区的部分透光图案。

根据本发明，提供一种具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，包括：提供一下基底，其上具有一绝缘层；形成一包括一反射电极及一透射电极的下电极，其位于该绝缘层上且与该绝缘层直接接触，该下电极具有一反射区与一透射区，其中该反射电极设置于该下电极的该反射区，以及该透射电极设置于该下电极的透射区；提供一上基底，对向于该下基底；形成一彩色滤光片，该彩色滤光片位于该上基底的一表面，该彩色滤光片至少包含三个彩色光致抗蚀剂层，其中该些彩色光致抗蚀剂层具有一第一厚度区与一第二厚度区，其中该第一厚度区的厚度大于该第二厚度区，而且该第一厚度区对应该透射区，而第二厚度区对应该反射区，该些彩色光致抗蚀剂层的该第一厚度接触于相邻的该些彩色光致抗蚀剂层的第二厚度；形成一上电极，其位于该彩色滤光片上且对向于该下基底；以及设置一液晶层，夹于该上基底与该下基底之间。

根据本发明，提供一种具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，包括：提供一下基底，其上具有一绝缘层；形成一包括一反射电极及一透射电极的下电极，其位于该绝缘层上且与该绝缘层直接接触，该下电极具有一反射区与一透射区，其中该反射电极设置于该下电极的该反射区，以及该透射电极设置于该下电极的透射区；形成一彩色滤光片，该彩色滤光片位于该下电极上，该彩色滤光片至少包含三个彩色光致抗蚀剂层，其中该些彩色光致抗蚀剂层具有一第一厚度区与一第二厚度区，其中该第一厚度区的厚度大于该第二厚度区，而且该第一厚度区对应该透射区，而第二厚度区对应该反射区，该些彩色光致抗蚀剂层的该第一厚度接触于相邻的该些彩色光致抗蚀剂层的第二厚度；提供一上基底，对向于该下基底；形成一上电极，其位于该上基底上，且对向于该下基底；以及设置一液晶层，夹于该上电极与该彩色滤光片之间。

根据本发明，提供一种具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，包括下列步骤：(a)提供一基底，该基底具有一第一区与一第二区；(b)形成一厚彩色光致抗蚀剂层于该基底上，其中该厚彩色光致抗蚀剂层包含至少三个厚彩色光致抗蚀剂层；以及(c)利用一光掩模，对该厚彩色光致抗蚀剂层进行一光刻工序，用以去除部分位在该第二区中的该厚彩色光致抗蚀剂层，而形成一薄彩色光致抗蚀剂层于位在该第二区中的该基底上，且接触相邻的另一厚彩色光致抗蚀剂层，其中该光掩模包括：一第一图案，用以遮光，其对应该第一区；以及一第二图案，用以降低透光强度，其对应该第二区；以及(d)覆盖一平坦层于该厚彩色光致抗蚀剂层与该薄彩色光致抗蚀剂层上，用以平坦化该厚彩色光致抗蚀剂层与该薄彩色光致抗蚀剂层的表面。

为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举优选实施例，并配合附图，作详细说明如下。

附图说明

图1是显示现有半透射式LCD结构的一例的示意图；

图2A～2C是显示现有具有不同厚度的彩色滤光片的工艺剖面图；

图3A～3C是显示本发明的具有不同厚度的彩色滤光片的工艺剖面图；

图4是显示当彩色光致抗蚀剂为正型光致抗蚀剂时，本发明所采用的光掩模的上视示意图；

图5是显示当彩色光致抗蚀剂为负型光致抗蚀剂时，本发明所采用的光掩模的上视示意图；

图6是显示本发明的具有不同厚度的彩色滤光片，应用于一半透射式LCD装置的结构示意图；以及

图7是显示本发明的具有不同厚度的彩色滤光片，应用于另一型半透射式LCD装置的结构示意图。

附图标记说明

现有部分(图1、图2A～2C)

100～下基底；110～绝缘层；120～下电极；122～反射区；124～透射区；130～液晶层；140～上电极；150～彩色滤光片；160～上基底；170～外部光(即反射光)；180～背光(即透射光)；200～基底；201～反射区；210～透明光致抗蚀剂层；220～红色光致抗蚀剂层；230～绿色光致抗蚀剂层；240～蓝色光致抗蚀剂层；250～现有的具有不同厚度的彩色滤光片。

本发明部分(图3A～3C、图4、图5、图6、图7)

300～基底；301～透射区；302～反射区；310～厚彩色光致抗蚀剂层；320～薄彩色光致抗蚀剂层；330～透明的平坦层；410、510～光掩模；420、520～第一图案；430、530～第二图案；1050、1070～间隙(slit)；1060、1080～微图案；600、700～下基底；610、710～绝缘层；620、720～下电极；622、722～反射区；624、724～透射区；630、755～液晶层；640、750～上电极；645、740～平坦层；650、730～彩色滤光片；651、731～厚区；652、732～薄区；660、760～上基底；670、770～环境光(即反射光)；680、780～背光(即透射光)；690、790～半透射式LCD装置。

具体实施方式

请参阅图3A～3C，用以说明本发明的半透射式LCD中的具有不同厚度的彩色滤光片的工艺，其中，本发明所公开的液晶显示器所使用的其它元件与现有相同，不再此赘述。这里要特别说明的是，为了简单明了地显示本发明的特征，图3A～3C是显示对应任一像素(pixel)的彩色滤光片工艺剖面图。并且，每一像素之间的可以形成有黑色矩阵(black matrix)图案，但在此省略其图示。

首先，请参阅图3A，提供一基底300，该基底300具有一第一区301与一第二区302。其中，该基底300例如是玻璃基板。还有，第一区301对应半透射式LCD装置的透射区(transmissive region)，而第二区302对应半透射式LCD装置的反射区(reflective region)。

其次，仍请参阅图3A，涂布一厚彩色光致抗蚀剂(color resist)层310于基底300上。其中该厚彩色光致抗蚀剂层310的颜色例如是红色、绿色或蓝色。

其次，请参阅图3B，去除部分位在第二区302中的厚彩色光致抗蚀剂层310，而形成一薄彩色光致抗蚀剂层320于位在第二区302中的基底300上。在此，举2个例子说明形成图3B的方法，但并非限定本发明。

第1例

当厚彩色光致抗蚀剂层310由正型光致抗蚀剂(positive photoresist)所组成时，则去除部分位在第二区302中的厚彩色光致抗蚀剂层310的方法，如下述步骤。

请参阅图4，进行利用一曝光源(exposure light，未图示)与一光掩模(reticle or photomask)410的一光刻工序(photolithography procedure)，对厚彩色光致抗蚀剂层310进行光刻而去除部分位在第二区302中的厚彩色光致抗蚀剂层310，藉以在该第二区302中的该基底300上形成薄彩色光致抗蚀剂层320。其中，该光掩模410包括：对应第一区301的一第一图案420(即完全遮光图案)，以及对应第二区302的一第二图案430(即部分透光图案)。其中第一图案420用以遮蔽该第一区301，以避免曝光源照射至第一区301的厚彩色光致抗蚀剂层310。第二图案430用以降低穿透该第二区302的曝光强度，亦即该光掩模410的第二图案430可使曝光分辨率降低，最低可使分辨率降1/2左右。

由于第二图案430需具有降低曝光强度的效果，可利用一半调图案(half-tone pattern)加以达成。举一范例，此第二图案430可由以适当间隙(slit)1050相隔开的多个微图案1060所构成，微图案1060可为透光图案或不透光图案，但是当微图案1060为透光图案时，图中用以分隔各微图案1060的间隙1050就必须为非透光。反之，当微图案1060为非透光图案时，间隙1050就必须为透光，如图4所示。藉由控制上述微图案1060及/或间隙1050的尺寸，使光线被部分阻碍而无法完全透过，就能在进行光刻步骤时降低透光强度而令厚彩色光致抗蚀剂层310不会完全被显影掉，亦即于显影完后仍残留有一定厚度的彩色光致抗蚀剂层(即薄彩色光致抗蚀剂层320)。至于微图案1060的形状设计并未特别限定，可为任何形状，例如：矩形、圆形、方形、长方形、菱形或三角形等等，或是该微图案1060整体为一长条形。另外，薄彩色光致抗蚀剂层320的膜厚，则可藉由控制上述微图案1060及/或间隙1050的尺寸来进行调整。

第2例

当厚彩色光致抗蚀剂层310由负型光致抗蚀剂(negative photoresist)所组成时，则去除部分位在第二区302中的厚彩色光致抗蚀剂层310的方法，如下述步骤。

请参阅图5，进行利用一曝光源(未图示)与一光掩模510的一光刻工序，对厚彩色光致抗蚀剂层310进行光刻而去除部分位在第二区302中的厚彩色光致抗蚀剂层310，因而形成薄彩色光致抗蚀剂层320于位在该第二区302中的该基底300上。其中，该光掩模510包括：对应第一区301的一第一图案520(即透光图案)，以及对应第二区302的一第二图案530(即部分透光图案)。其中第一图案520用以使该第一区301的厚彩色光致抗蚀剂层310完全曝光。第二图案530用以降低穿透该第二区302的曝光强度，亦即该光掩模510的第二图案530可使曝光分辨率降低，最低可使分辨率降为1/2左右。

由于第二图案530需具有降低曝光强度的效果，可利用一半调图案(half-tone pattern)加以达成。举一范例，此第二图案530可由以适当间隙(slit)1070相隔开的多个微图案1080所构成，微图案1080可为透光图案或不透光图案，但是当微图案1080为透光图案时，图中用以分隔各微图案1080的间隙1070就必须为非透光，如图5所示。反之，当微图案1080为非透光图案时，间隙1070就必须为透光。藉由控制上述微图案1080及/或间隙1070的尺寸，使光线被部分阻碍而无法完全透过，就能在进行光刻步骤时降低透光强度而令厚彩色光致抗蚀剂层310不会完全被显影掉，亦即于显影完后仍残留有一定厚度的彩色光致抗蚀剂层(即薄彩色光致抗蚀剂层320)。至于微图案1080的形状设计并未特别限定，可为任何形状，例如：矩形、圆形、方形、长方形、菱形或三角形等等，或是该微图案1080整体为一长条形。另外，薄彩色光致抗蚀剂层320的膜厚，则可藉由控制上述微图案1080及/或间隙1070的尺寸来进行调整。

另外这里要说明的是，上述厚彩色光致抗蚀剂层310所使用的正型光致抗蚀剂或负型光致抗蚀剂，两者均属于感光性树脂或高分子材料。正型光致抗蚀剂是光致抗蚀剂本身难溶于显影剂，但经曝光后，会解离成一种溶于显影液的结构；负型光致抗蚀剂是光致抗蚀剂经曝光后会产生链接，使曝光后的光致抗蚀剂结构不溶于显影剂。只要是一般市售的彩色“正型光致抗蚀剂”或“负型光致抗蚀剂”皆适用于本发明工艺中而能达成本发明的功效。

之后，请参阅图3C，为了利于将来要进行后续工艺，可于该厚彩色光致抗蚀剂层310与该薄彩色光致抗蚀剂层320上形成一具有高透射率(或称高透明度)的平坦层(transparent planarization layer，或称overcoat)330。其中，该平坦层330由有机绝缘材料或无机绝缘材料所组成，有机绝缘材料例如是苯并环丁烯(BCB)、丙烯酸树脂(acryl resin)等等，而无机绝缘材料例如是SiO₂、SiN_x等等。如此，即完成了本发明的具有不同厚度的彩色滤光片。

这里要特别提醒的是，本发明仅使用一道光刻步骤以及一个光掩模(410/510)来形成具有不同厚度的彩色滤光片，因此可以降低制造成本。再者，由于本发明的彩色滤光片是形成于平坦的基底300上，因而可以容易地控制彩色滤光片的厚度。

再来，请参阅图6，用以说明本发明的具有不同厚度的彩色滤光片，应用于一半透射式LCD装置的结构示意图。在此为了不混淆本发明的特征，故不予详述半透射式LCD装置的工艺。

一种具有不同厚度的彩色滤光片的半透射式LCD装置690，包括下述组成：

一下基底600，其上具有一绝缘层610，且该下基底600可以包含有薄膜晶体管阵列(未图示)。

一下电极(或称反射电极，reflective electrode)620，位于该绝缘层610上，该下电极620具有反射区622与透射区624，其中该反射区622例如是铝层，而该透射区624例如是铟锡氧化物(ITO)层或铟锌氧化物(IZO)层。

一上基底660，其相对应于该下基底600的一表面上具有一彩色滤光片650，其中该彩色滤光片650具有第一厚度区651与第二厚度区652，其中，于本发明的一优选实施例中，该第一厚度区651为厚度较厚的区域且对应该透射区624，而第二厚度区652为厚度较薄的区域且对应该反射区622。

一平坦层(或称覆盖层，overcoat)645，位于该彩色滤光片650上而相对应于该上基底660，该平坦层645为一高透射率的材质所形成，其材质例如是SiO₂、SiN_x等等。

一上电极(或称公共电极，common electrode)640，位于该透明的平坦层645上而相对应于该彩色滤光片650，该上电极640例如是ITO或IZO层。

一液晶层630，夹于该上基底660与该下基底600之间。

因此，上述半透射式LCD装置690在反射模式(reflective mode)时，因为环境光(ambient light，即反射光)670透过彩色滤光片650的第二厚度区652的次数是两次。而在透射模式(transmissive mode)时，背光(backlight，即透射光)680透过彩色滤光片650的第一厚度区651的次数是一次。由于第一厚度区651比第二厚度区652的厚度厚，所以使得在反射模式与透射模式下的显示颜色相近，亦即解决现有色彩浓度(色饱和度，color purity)相差很大的问题，而能提升显示品质(display-quality)。

再请参阅图7，用以说明本发明的具有不同厚度的彩色滤光片，应用于另一型的半透射式LCD装置的结构示意图。图7所示的半透射式LCD装置采用COA(阵列上彩色滤光片，color filter on array)的技术，其能增进上下基板的对准度。在此为了不混淆本发明的特征，故不予详述上述半透射式LCD装置的工艺。

一种具有不同厚度的彩色滤光片的半透射式LCD装置790，包括下述组成：

一下基底700，其上具有一绝缘层710，且该下基底700可以包含有薄膜晶体管阵列(未图示)。

一下电极(或称反射电极，reflective electrode)720，位于该绝缘层710上，该下电极720具有反射区722与透射区724，其中该反射区722例如是铝层，而该透射区724例如是铟锡氧化物(ITO)层或铟锌氧化物(IZO)层。

经由本发明方法制造的具有不同厚度的一彩色滤光片730，形成于该下电极720上。其中该彩色滤光片730具有第一厚度区731与第二厚度区732，其中，该第一厚度区731为厚度较厚的区域且对应该透射区724，而第二厚度区732为厚度较薄的区域且对应该反射区722。

一平坦层(或称覆盖层，overcoat)740，位于该彩色滤光片730上，该平坦层740为一高透射率的材质所形成，其材质例如是SiO₂、SiN_x等等。

一上基底760，其相对应于该下基底700。

一上电极(或称公共电极，common electrode)750，位于该上基底760上，该上电极750例如是ITO或IZO层。

一液晶层755，夹于该上基底760与该下基底700之间。

因此，上述半透射式LCD装置790在反射模式时，因为环境光(即反射光)770透过彩色滤光片730的第二厚度区732的次数是两次。而在透射模式时，背光(即透射光)780透过彩色滤光片730的第一厚度区731的次数是一次。由于第一厚度区731比第二厚度区732的厚度厚，所以使得在反射模式与透射模式下的显示颜色相近，亦即解决现有色彩浓度(色饱和度)相差很大的问题，而能提升显示品质。

以上仅举一利用一具有半调图案的光掩模形成具有不同厚度的半透射式LCD装置的彩色滤光片为例，但是该具有不同厚度的彩色滤光片亦可利用一具有不同透射率的光掩模加以达成，例如于一光掩模中同时具有一透射区及一半透射区，使光致抗蚀剂的曝光程度不同，而使光致抗蚀剂形成不同的区域。

本发明的特征与优点

本发明的特征在于：利用光掩模上不同的分辨率或透射率，使相对应反射区的彩色滤光片部分移除，而形成一具有不同厚度的彩色滤光片，并将该彩色滤光片应用于半透射式LCD装置。

如此，经由本发明，使得具有不同厚度的彩色滤光片能够以一道光掩模来形成，不仅可以提升半透射式LCD装置的显示品质，亦能达成降低成本的目的。再者，与现有方法相比，由于本发明的彩色滤光片是形成于平坦的基底上，所以能够较容易地控制彩色滤光片中各区的膜厚，因而能解决现有的色彩浓度(色饱和度，color purity)相差的问题。

本发明虽以优选实施例公开如上，但是其并非用以限定本发明的范围，本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围的情况下，应当可做些许的更动与润饰，因此本发明的保护范围应当以所附权利要求所确定的为准。

Claims (9)

1.一种具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，包括：

提供一下基底，其上具有一绝缘层；

形成一包括一反射电极及一透射电极的下电极，其位于该绝缘层上且与该绝缘层直接接触，该下电极具有一反射区与一透射区，其中该反射电极设置于该下电极的该反射区，以及该透射电极设置于该下电极的透射区；

提供一上基底，对向于该下基底；

形成一彩色滤光片，该彩色滤光片位于该上基底的一表面，该彩色滤光片至少包含三个彩色光致抗蚀剂层，其中该些彩色光致抗蚀剂层具有一第一厚度区与一第二厚度区，其中该第一厚度区的厚度大于该第二厚度区，而且该第一厚度区对应该透射区，而第二厚度区对应该反射区，该些彩色光致抗蚀剂层的该第一厚度接触于相邻的该些彩色光致抗蚀剂层的第二厚度；

形成一上电极，其位于该彩色滤光片上且对向于该下基底；以及

设置一液晶层，夹于该上基底与该下基底之间。

2.如权利要求1所述的具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，还包括形成一平坦层于该彩色滤光片和该液晶层之间。

3.一种具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，包括：

提供一下基底，其上具有一绝缘层；

形成一包括一反射电极及一透射电极的下电极，其位于该绝缘层上且与该绝缘层直接接触，该下电极具有一反射区与一透射区，其中该反射电极设置于该下电极的该反射区，以及该透射电极设置于该下电极的透射区；

形成一彩色滤光片，该彩色滤光片位于该下电极上，该彩色滤光片至少包含三个彩色光致抗蚀剂层，其中该些彩色光致抗蚀剂层具有一第一厚度区与一第二厚度区，其中该第一厚度区的厚度大于该第二厚度区，而且该第一厚度区对应该透射区，而第二厚度区对应该反射区，该些彩色光致抗蚀剂层的该第一厚度接触于相邻的该些彩色光致抗蚀剂层的第二厚度；

提供一上基底，对向于该下基底；

形成一上电极，其位于该上基底上，且对向于该下基底；以及

设置一液晶层，夹于该上电极与该彩色滤光片之间。

4.如权利要求3所述的具有不同厚度彩色滤光片的半透射式液晶显示装置的制造方法，还包括形成一平坦层于该彩色滤光片和该液晶层之间。

5.一种具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，包括下列步骤：

(a)提供一基底，该基底具有一第一区与一第二区；

(b)形成一厚彩色光致抗蚀剂层于该基底上，其中该厚彩色光致抗蚀剂层包含至少三个厚彩色光致抗蚀剂层；以及

(c)利用一光掩模，对该厚彩色光致抗蚀剂层进行一光刻工序，用以去除部分位在该第二区中的该厚彩色光致抗蚀剂层，而形成一薄彩色光致抗蚀剂层于位在该第二区中的该基底上，且接触相邻的另一厚彩色光致抗蚀剂层；

其中，该光掩模包括：

一第一图案，用以遮光，其对应该第一区；以及

一第二图案，用以降低透光强度，其对应该第二区；以及

(d)覆盖一平坦层于该厚彩色光致抗蚀剂层与该薄彩色光致抗蚀剂层上，用以平坦化该厚彩色光致抗蚀剂层与该薄彩色光致抗蚀剂层的表面。

6.如权利要求5所述的具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，其中该第二图案为一半调图案。

7.如权利要求6所述的具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，其中该第二图案包含多个微图案。

8.如权利要求5所述的具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，其中该第一区对应一半透射式液晶显示器的透射区，而该第二区对应该半透射式液晶显示器的反射区。

9.如权利要求5所述的具有不同厚度彩色滤光片的制造方法，其中该厚彩色光致抗蚀剂层由正型光致抗蚀剂或负型光致抗蚀剂所组成。

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