CN1769973A - 液晶显示器件及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种LCD器件及其制造方法,其中,各遮光图案具有均匀的厚度,以防止在滤色片图案中由遮光图案产生的阶梯覆盖,所述LCD器件包括基板;与基板的各像素区对应的透明材料层;与除透明材料层以外的其余部分对应的遮光层;以及在透明材料层上的滤色片层。
Description
本申请要求享有2004年11月4日在韩国递交的韩国专利申请No.P2004-89308的权益,在此将该文件结合进来作为参考。
技术领域
本发明涉及一种液晶显示(LCD)器件,尤其涉及一种LCD器件的滤色片基板。
背景技术
在包括厚度为几个厘米(cm)的显示屏的各种超薄平板型显示器件中,液晶显示(LCD)器件由于其具有在低驱动电压下的低功耗以及便携性等优点,引起了极大关注。在这方面,LCD器件可以广泛地用于笔记本电脑、监视器、航行器等。
LCD器件通常包括薄膜晶体管(TFT)基板、滤色片基板、以及液晶层。此时,TFT基板以预定间距设置在滤色片基板对面,液晶层形成在TFT基板和滤色片基板之间。在这种情形下,当施加电压时,液晶层的液晶分子排列改变,藉此根据对光透射率的控制来显示图像。
在TFT基板上,具有以固定间距沿第一方向排列的多条栅线、以固定间距沿与栅线垂直的第二方向排列的多条数据线、以及位于由栅线和数据线限定的呈矩阵型结构的各像素区中的多个像素电极、以及响应栅线上的信号可以开关的多个薄膜晶体管(TFT),其用于将数据线上的信号传输到像素电极。
滤色片基板包括具有遮光图案的遮光层,其用于遮蔽来自像素区以外区域的光,以及具有位于各遮光图案之间并与各像素区对应的红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)滤色片图案的滤色片层,其用于显示颜色。
根据LCD器件的工作模式,可另外在遮光层和滤色片层上形成公共电极或涂覆层。即,如果为TN(扭曲向列)模式LCD器件,则需要公共电极。同时,如果为IPS(共平面开关)模式LCD器件,则需要涂覆层。在IPS模式LCD器件中,公共电极形成在薄膜晶体管基板上。
此后,将参照附图描述现有技术的滤色片基板。
图1A到1E为示出根据现有技术滤色片基板的制造工序工序的横截面图。
首先,在玻璃基板10上通过光刻形成遮光图案12a(图1A到1C),在遮光图案12a之间通过光刻形成各R、G和B滤色片图案(图1D)。然后,在玻璃基板10的整个表面上形成公共电极或涂覆层18(图1E)。
以下将解释详细的工序工序。
如图1A所示,在玻璃基板10上涂布作为不透明感光遮光材料的遮光材料12。
参照图1B,当具有所需预定图案的掩模14设置在具有遮光材料12的玻璃基板10上方时,在其上照射光。
如图1C所示,显影并固化用光照射后的遮光材料,从而形成遮光图案12a。
如图1D所述,在遮光图案12a之间形成各R、G和B滤色片图案16。通过光刻形成滤色片图案16以及遮光图案12a。
参照图1E,在滤色片图案16上形成公共电极或涂覆层(如果为IPS模式LCD器件),从而完成根据现有技术的滤色片基板。
然而,根据现有技术的滤色片基板的制造方法具有如下缺点。
在根据现有技术的滤色片基板中,由于遮光图案在各滤色片图案的两侧产生阶梯覆盖(step coverage),从而导致图像质量退化。
在形成滤色片图案之前,由于遮光图案会形成阶梯覆盖。由此,在形成滤色片图案时,很难应用工序简单的非旋转式涂布法。采用工序复杂的光刻工序代替非旋转式涂布法来形成滤色片图案。
同时,遮光图案必须获得适于遮蔽光的预定厚度。如果进行使用不透明遮光材料的光刻工序,则如图1C所示,各遮光图案的整体厚度不均匀。即,各遮光图案的两端比各遮光图案的中心部分相对薄。因此,其不可能完全遮蔽光,从而亮度降低。
发明内容
因此,本发明在于提供一种LCD器件及其制造方法,其能够基本上避免由现有技术的限制和缺陷引起的一个或多个问题。
本发明的目的在于提供一种LCD器件及其制造方法,其中,各遮光图案具有均匀的厚度,以防止在滤色片图案中由遮光图案产生的阶梯覆盖。
本发明另外的特征和优点将在以下描述中加以阐述,其中部分特征和优点可以从描述中显而易见地看到,或者从本发明的实践中得知。通过在本发明的说明书、权利要求书以及附图中具体指明的结构,本发明的这些和其它优点会得到了解和实现。
为了实现这些目标和其它优点,并根据本发明的目的,如所具体和广泛描述地,一种LCD器件包括:基板;与基板的各像素区对应的透明材料层;与除透明材料层以外的其余部分对应的遮光层;以及在透明材料层上的滤色片层。
在此,透明材料层与遮光层具有相同的高度。
并且,滤色片层与邻近透明材料层的遮光层的预定部分重叠。
根据另一方面,一种LCD器件包括:第一基板;与第一基板的各像素区对应的透明材料层;在第一基板上与除透明材料层以外的其余部分对应的遮光层;在透明材料层上的滤色片层;以预定间距与第一基板相对并具有薄膜晶体管和像素电极的第二基板;以及形成在第一和第二基板之间的液晶层。
根据另一方面,一种LCD器件的制造方法包括:在具有像素区和遮光区的基板上形成透明材料层;从遮光区选择性地除去透明材料层;在除去透明材料层的遮光区的第一基板上形成遮光层;以及在透明材料层上形成滤色片层。
根据另一方面,一种LCD器件的制造方法包括:在具有像素区和遮光区的第一基板上形成透明材料层;从遮光区中选择性地除去透明材料;在除去透明材料层的遮光区的第一基板上形成遮光层;在透明材料层上形成滤色片层;在第二基板上形成包括薄膜晶体管和像素电极的薄膜晶体管阵列;以及在第一基板和第二基板之间形成液晶层。
应当理解的是,上面对本发明的概述和下面的详细解释都是示例性和解释性的,并意欲提供对要求保护的本发明的进一步解释。
附图说明
附图提供对本发明的进一步理解,其包含在说明书中并构成说明书的一部分,说明本发明的实施方式并且与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:
图1A到1E为示出根据现有技术的滤色片基板的制造工序的横截面图;
图2A到2G为示出根据本发明优选实施方式的滤色片基板的制造工序的横截面图;以及
图3为示出根据本发明优选实施方式的滤色片基板的横截面图。
具体实施方式
下面详细参考本发明的优选实施方式,其实施例在附图中示出。然而,如果有可能,在附图中将使用相同的参考标记来表示相同或者相似的部件。
以下,将参照附图描述根据本发明的LCD器件及其制造方法。
图2A到2G为示出用于制造根据本发明优选实施方式的滤色片基板的工序的横截面图。
如图2A所示,在基板100上涂覆透明材料层110。所述透明材料层110可以由透明感光树脂形成。优选使用丙烯酸树脂的透明感光树脂,例如,丙烯酸酯(methacrylate)、甲基丙烯酸酯、丙胺、丙烯腈(acrylonitrile)、丙酸或甲基丙烯酸。
参照图2B,当用于限定遮光区的掩模140设置在涂覆有透明材料层110的基板100上方时,在其上照射光。
如图2C所示,显影并固化用光照射后的透明材料层110,藉此从遮光区115除去透明材料层110,从而形成透明材料图案110。如果透明材料层110是由丙烯酸型树脂形成,则通过显影可以形成厚度均匀的透明材料图案。
在图中,示出了其中通过显影除去用光照射后的区域的正型。然而,可以应用负型,其中通过显影除去没有用光照射的区域。
参照图2D,在基板100的整个表面上涂覆遮光材料120。遮光材料120是由不透明树脂形成。然而,其并不限于不透明树脂。同时,不用光刻来形成遮光层,不必形成感光树脂的遮光层。即,不透明树脂适用于遮光层。
遮光材料120以旋转涂覆法或非旋转涂覆法涂覆在基板100的整个表面上。
如果用旋转涂覆法,则遮光材料120设置在基板100中心的上方,然后旋转基板100,藉此将遮光材料10涂覆在基板100的整个表面上。
在非旋转涂覆法中,遮光材料120一次印刷在基板100的整个表面上,其适用于小面积基板。在非旋转涂覆法的另一方式中,以从基板100的一端到另一端的扫描方式印刷遮光材料120,其适用于大面积基板。
如图2E所示,用挤压(squeeze)或具有诸如刮墨刀的刮刀的结构130除去涂覆在除遮光区115以外的其它部分上的遮光材料120。从而,将遮光材料120置于各透明材料图案110之间,由此形成遮光图案120a。从而,可以防止基板100的整个表面上不平整。
如果用具有刮刀的结构130机械地刮遮光材料120,则如图2E所示,不能够完全除去涂覆在除遮光区115之外的其它部分上的遮光材料120。
在这种情形下,如图2F所示,优选通过灰化除去残留在透明材料图案上的遮光材料,藉此各透明材料图案与各遮光图案120a具有相同的高度。灰化工序是采用氧等离子体或光照灯进行。
此后,如图2G所示,在遮光图案120a之间形成红色(R)、绿色(G)和蓝色(B)的各滤色片图案160,由此制成滤色片基板。在这种情形下,各滤色片图案160与遮光图案120a之间的透明材料图案110重叠,也与邻近透明材料图案110的遮光图案120的预定部分重叠。并且,在形成滤色片图案之前,基板没有阶梯覆盖(图2F)。从而,当形成遮光图案时优选采用非旋转涂覆法。
如图2G所示,在除滤色片图案160之间的部分之外的滤色片基板中没有产生阶梯覆盖。因此,不必提供用于消除阶梯覆盖的涂覆层。
以下将描述通过本发明方法制造的滤色片基板的结构。
图3为示出根据本发明优选实施方式的滤色片基板的横截面图。
如图3所示,根据本发明的滤色片基板包括玻璃基板100、具有透明材料图案110的透明材料层、具有遮光图案120a的遮光层、以及具有滤色片图案160的滤色片层。
在此,透明材料图案110为与玻璃基板100上的各像素区对应形成。并且,遮光图案120a形成在玻璃基板100上除透明材料图案以外的部分中。在这种情形下,各透明材料图案与各遮光图案的高度相同。然后,在透明材料图案110上形成R、G和B的各滤色片图案160,其中各滤色片图案160与邻近透明材料图案110的遮光图案120a的预定部分重叠。
优选地,各透明材料图案110与各遮光图案120a具有相同的高度,以防止阶梯覆盖。
以下将描述具有前述滤色片基板的LCD器件的制造方法。
LCD器件的制造方法通常主要分成三个步骤:形成滤色片基板;形成薄膜晶体管基板;以及在滤色片基板和薄膜晶体管基板之间形成液晶层。
参照图2A到2G来说明形成滤色片基板的工序。在这种情形下,可根据LCD器件的模式略微改变该工序。
即,如果为TN模式LCD器件,公共电极形成在如图2G所示包括滤色片图案160的基板整个表面上。然后,在公共电极上形成用于液晶的初始定向的定向层。可通过摩擦或光照来形成定向层。
如果为IPS模式LCD器件,涂覆层形成在如图2G所示包括滤色片图案160的基板整个表面上。然后,在涂覆层上形成用于液晶的初始定向的定向层。可通过摩擦或光照来形成定向层。
以下说明形成薄膜晶体管基板的工序。
首先,如果是TN模式LCD器件,在玻璃基板上沿一个方向形成具有栅极的栅线。然后,在玻璃基板的整个表面上形成栅绝缘层。此后,在栅极上方形成半导体层。在这种情况下,与栅线垂直形成数据线,其中源极和漏极设置在半导体层的两侧。如果栅线与数据线垂直形成,则可以限定各像素区。并且,在栅线和数据线的交叉处形成薄膜晶体管。
随后,在玻璃基板的整个表面上形成钝化层,在漏极中形成接触孔。并且,在各像素区的钝化层上形成与漏极连接的像素电极。
同时,如果是IPS模式LCD器件,在玻璃基板上沿一个方向形成具有栅极的栅线,并且在玻璃基板的整个表面上形成栅绝缘层。然后,在栅极上方形成半导体层。在这种情形下,数据线与栅线垂直形成,其中源极和漏极设置在半导体层的两侧。如果栅线与数据线垂直形成,则可以限定各像素区。并且,在栅线和数据线的交叉处形成薄膜晶体管。
随后,在玻璃基板的整个表面上形成钝化层,并且在漏极中形成接触孔。而且,在各像素区中形成像素电极和公共电极。在这种情形下,像素电极与各漏极连接,而公共电极设置在像素电极之间。
以下将描述在滤色片基板和薄膜晶体管基板之间形成液晶层的工序。
用于形成液晶层的方法分为液晶注入法和液晶分配法。如果是液晶注入法,则在将滤色片基板和薄膜晶体管基板彼此粘结在一起后,可在其中注入液晶。在液晶分配法中,在两个基板中的任一个基板上分配液晶后,可以使两个基板彼此粘结在一起。如果是大尺寸LCD器件,则由于液晶注入法需要较长的注入时间而引起产率降低,因此该法并不适合。因此,如果形成大尺寸LCD器件,优选采用液晶分配法。
以下将说明按照前述方法制造的LCD器件。
根据本发明的LCD器件包括滤色片基板、薄膜晶体管基板、以及在滤色片基板和薄膜晶体管之间的液晶层。
如图2A到2G和图3所示,将略去关于滤色片基板的解释。根据LCD器件的模式,在如图3所示包括滤色片图案的基板整个表面上(TN模式)可以另外形成公共电极,或者在如图3所示包括滤色片图案160的基板整个表面上(IPS模式)可以另外形成涂覆层。并且,在公共电极或涂覆层上可以另外形成定向层。
TN模式LCD器件包括彼此垂直设置以在玻璃基板上限定像素区的栅线和数据线、形成在栅线和数据线的交叉处的薄膜晶体管、以及在像素区中与薄膜晶体管连接的像素电极。
IPS模式LCD器件包括彼此垂直设置以在玻璃基板上限定像素区的栅线和数据线、形成在栅线和数据线的交叉处的薄膜晶体管、在像素区中与薄膜晶体管连接的像素电极、以及形成在像素区中各像素电极之间的公共电极。
此外,定向层可以形成在整个玻璃基板表面上。
并且,在两个基板之间可以形成衬垫料,以保持其间的盒间隙。
如上所述,LCD器件及其制造方法具有以下优点。
在根据本发明的LCD器件中,在基板上对透明材料构图,并且在基板上形成遮光区。在这种情形下,遮光材料与遮光区对应形成。因此,可以防止由遮光图案产生的阶梯覆盖。
在形成滤色片基板之前,基板不具有阶梯覆盖。因此,可以应用非旋转涂覆法。
并且,用透明材料构图工序控制遮光图案。因此,能够形成均匀的厚度的各遮光图案,从而获得较高的亮度。
显然在不脱离本发明的精神和范围的情况下,本领域的普通技术人员可以对本发明做出各种改进和变型。因此,本发明意图覆盖所有落入所附权利要求及其等效物的范围之内的改进和变型。
Claims (25)
1、一种液晶显示器件,包括:
第一基板;
与所述第一基板的各像素区对应的透明材料层;
与除透明材料层以外的其余部分对应的遮光层;以及
在透明材料层上的滤色片层。
2、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,所述透明材料层与遮光层的高度相同。
3、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,所述透明材料层是由丙烯酸树脂形成。
4、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,所述滤色片层与邻近透明材料层的遮光层的预定部分重叠。
5、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,进一步包括位于包括滤色片层的第一基板的整个表面上的公共电极。
6、根据权利要求5所述的液晶显示器件,其特征在于,进一步包括在公共电极上方的定向层。
7、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,进一步包括位于包括滤色片层的第一基板的整个表面上的涂覆层。
8、根据权利要求7所述的液晶显示器件,其特征在于,进一步包括位于涂覆层上的定向层。
9、根据权利要求1所述的液晶显示器件,其特征在于,还包括:
与所述第一基板以预定间距相对的第二基板,所述第二基板具有薄膜晶体管和像素电极;以及
在所述第一基板和第二基板之间形成的液晶层。
10、根据权利要求9所述的液晶显示器件,其特征在于,进一步包括与第二基板上各像素区中的像素电极平行的公共电极。
11、一种液晶显示器件的制造方法,包括:
在具有像素区和遮光区的基板上形成透明材料层;
选择性地从遮光区除去透明材料层;
在除去透明材料层的遮光区中形成遮光层;以及
在透明材料层上形成滤色片层。
12、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述形成遮光层的工序包括:
在包括透明材料层的基板的整个表面上涂覆遮光材料;以及
从除遮光区以外的部分除去涂覆的遮光材料。
13、根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述涂覆遮光材料的工序可以由旋转涂覆法或非旋转涂覆法来进行。
14、根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述从除遮光区以外的部分除去涂覆的遮光材料的工序是通过用具有刮刀的结构刮透明材料层上的遮光材料来执行的。
15、根据权利要求14所述的方法,其特征在于,包括灰化所述遮光材料。
16、根据权利要求15所述的方法,其特征在于,所述灰化工序是用氧等离子体或光照灯来进行。
17、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述形成滤色片层的工序是用非旋转涂覆法来进行。
18、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述遮光层与透明材料层的高度相同。
19、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述透明材料层是由丙烯酸树脂形成。
20、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述滤色片层与邻近透明材料层的遮光层的预定部分重叠。
21、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,还包括在包括滤色片层的基板的整个表面上形成公共电极。
22、根据权利要求11所述的方法,其特征在于,还包括在包括滤色片层的基板的整个表面上形成涂覆层。
23、一种液晶显示器件的制造方法,包括:
在具有像素区和遮光区的第一基板上形成透明材料层;
选择性地从遮光区中除去透明材料;
在除去透明材料层的遮光区的第一基板上形成遮光层;
在透明材料层上形成滤色片层;
在第二基板上形成包括薄膜晶体管和像素电极的薄膜晶体管阵列;以及
在第一基板和第二基板之间形成液晶层。
24、根据权利要求23所述的方法,其特征在于,所述形成液晶层的工序是通过在将第一基板和第二基板彼此粘接在一起后在第一和第二基板之间注入液晶的液晶注入法来进行。
25、根据权利要求23所述的方法,其特征在于,所述形成液晶层的工序是以通过在两个基板中的任一个基板上分配液晶后使两个基板彼此粘接在一起的液晶分配法来进行。
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