CN1834744A - 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 - Google Patents
放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1834744A CN1834744A CNA2006100585523A CN200610058552A CN1834744A CN 1834744 A CN1834744 A CN 1834744A CN A2006100585523 A CNA2006100585523 A CN A2006100585523A CN 200610058552 A CN200610058552 A CN 200610058552A CN 1834744 A CN1834744 A CN 1834744A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- methyl
- separator
- projection
- skeleton
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/44—Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
- C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
- G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
- G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0755—Non-macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0757—Macromolecular compounds containing Si-O, Si-C or Si-N bonds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本发明的课题在于提供一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题,本发明提供一种用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物,其特征在于:包括,[A]将下述(a1)~(a3)共聚而得到的共聚物,其中(a1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐,(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物,(式中,R表示氢或甲基,n是2~1 0的整数)(a3)是上述(a1)~(a2)成分以外的其它不饱和化合物;[B]聚合性不饱和化合物;和[C]放射线敏感性聚合引发剂。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于同时形成垂直型液晶显示元件的突起和分隔物(spacer)的放射线敏感性树脂组合物、由该组合物制成的形成的突起和分隔物、以及包含该突起和分隔物的液晶显示元件。
背景技术
液晶显示面板目前广泛用于平板显示器。特别是,随着OA元件例如个人计算机和文字处理器等以及液晶电视等的推广,对TFT(薄膜晶体管)方式的液晶显示面板(TFT-LCD)的显示品质的要求变得越来越严格。
在TFT-LCD之中,现在TN(Twisted Nematic)型LCD是最受欢迎的。该LCD是通过下述方法制造的:在2块透明电极的外侧分别配置取向方向相差90度的起偏膜,并在2块透明电极内侧配置取向膜;同时在两取向膜之间配置向列型液晶,将液晶的取向方向以90度的角度从一个电极侧扭转向另一个电极侧。当非偏振光在该状态下入射时,已穿过一个起偏振片的直线偏振光穿过液晶,它的偏振方向改变了,因此它能穿过另一个起偏振片,形成光亮状态。然后,当向两个电极都施加电压而使液晶分子直立时,到达液晶的直线偏振光直接穿过,不会穿过另一个起偏振片,形成黑暗状态。此后,再次停止施加电压时,就恢复成光亮状态。
虽然,由于近年来的技术进步,在正面的对比度和色彩再现性等方面,这种TN型LCD变得与CRT相当或更优越。但是,TN型LCD仍有一个大问题需要解决,那就是视角狭窄。
作为解决这种问题的方法,开发出了STN(Super TwistedNematic)型LCD和MVA(Multi-domain Vertically Aligned)型LCD(垂直取向型液晶显示面板)。其中,STN型LCD是在TN型LCD的向列型液晶中混入作为光活性物质的手性试剂,将液晶分子的取向轴在2块电极间扭转180度或以上。另外,MVA型LCD是将具有负的介电常数各向异性的负型液晶和垂直方向的取向膜组合,并不使用TN型LCD的旋光模式,而是使用双折射模式的LCD;即使在不施加电压的状态下,在接近取向膜的位置上的液晶取向方向也可以大致保持垂直方向,因此,对比度、视角等优异,而且可以不进行使液晶取向的研磨处理等,在制造工序方面也是优异的(参照非专利文献1和专利文献1)。
在MVA型LCD中,为了使液晶在一个像素区域可以取多个取向方向,作为区域限制方法可以是使显示侧的电极为在1个像素区域内具有狭缝的电极,而且在光入射侧的电极上的同一像素区域内,将电极的狭缝和位置错开,形成具有斜面的突起(例如,三角锥形,半凸透镜形等)。
这种突起通常可以通过光刻法形成,光刻法具有可以微细加工、容易控制形状的优点。
另一方面,必须在液晶面板中设置规定的分隔物,从而将2块基板保持一定间隔。目前,作为这种分隔物使用具有一定粒径的玻璃珠、塑料珠等分隔物粒子。但是,这些分隔物粒子在玻璃基板上随机分布,所以在有效像素部内存在上述分隔物时,会受到分隔物的反射,入射光被散射,具有液晶面板的对比度降低的问题。为了解决这些问题,提出了使用放射线敏感性树脂组合物,通过光刻法在有效像素部以外形成分隔物的方法。
在使用利用放射线敏感性树脂的光刻法形成突起和形成分隔物时,可以使用同样的方法,但是下述各自要求的性能有所不同。
(1)突起和分隔物所要求的膜厚不同。
(2)所要求的形状不同,分别是突起为半凸透镜状,而分隔物为柱状或顺圆锥状。
另外,由于必须在突起上形成取向膜,所以在后续工序中形成取向膜时,为了不产生排斥,对取向膜材料要求有足够的涂布性。
另一方面,为了使液晶面板不会由于外部压力变形,分隔物还必须有很高的压缩强度。
此外,突起、分隔物还必须对之后的面板组装工序中施加的热量有足够的承受力。
在突起上形成取向膜时,如果突起相对基板的圆锥角过大,例如为30度或以上时,则在突起的上部,会产生取向膜的印刷不良,面板形成后,发生显示不佳的可能性变高。因此,相对突起的基板的圆锥角优选为30度或以下。
如上所述,由于突起和分隔物要求不同的形状、不同的化学性质,至今必须使用不同的放射线敏感性材料,使用不同的工序形成。另外,在专利文献2中还公开了使用负型感光材料,同时形成突起和分隔物的设想,但是在该公报中并未公开可以在这种用途中使用的放射线敏感性组合物的具体方案,还不知道用于同时形成突起和分隔物的放射线敏感性组合物,所以强烈需要提供这种材料。
【非专利文献1】武田有广,液晶,日本液晶学会,1999年4月25日,Vol.3,No.2,117
【专利文献1】特开平11-258605号公报
【专利文献2】特开2001-83517号公报
发明内容
本发明是根据以上的问题而提出的,其目的在于提供可以用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物,以及由该组合物形成的突起和分隔物,具有该突起和分隔物的液晶显示元件。
根据本发明,上述课题第一是通过一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物实现的,该放射线敏感性树脂组合物的特征在于:包括,
[A]将下述(a1)~(a3)共聚而得到的共聚物,其中(a 1)是不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐,(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和下式(1)所示的骨架的不饱和化合物,
(式中,R表示氢或甲基,n是2~10的整数。)
(a3)是上述(a1)~(a2)成份以外的其它不饱和化合物;
[B]聚合性不饱和化合物;和
[C]放射线敏感性聚合引发剂。
本发明第二点是通过由上述记载的放射线敏感性树脂组合物形成的突起和分隔物实现。
本发明的第三点是通过具有上述记载的突起和分隔物的液晶显示元件实现的。
此外,本发明的第四点是通过一种同时形成突起和分隔物的形成方法实现的,该方法的特征在于:至少含有下述顺序记载的下述工序;
(1)在基板上形成项1所记载的放射线敏感性组合物的涂膜的工序,
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序,
(3)显影工序,和
(4)加热工序。
附图说明
图1是例示分隔物的剖面形状的示意图。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细说明。
放射线敏感性树脂组合物
[A]共聚物:
本发明的放射线敏感性树脂组合物中使用的[A]共聚物是将(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐,(a2)含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和上述式(1)所示的骨架的不饱和化合物以及(a3)上述(a1)~(a2)成份以外的其它不饱和化合物共聚物得到的。
在构成[A]共聚物的各成份中,作为(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐(将它们总称为“(a1)不饱和羧酸类化合物”),例如可以列举出丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基六氢邻苯二甲酸等一元羧酸类;马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸等二元羧酸类;上述二元羧酸的酸酐类等。
在这些(a1)不饱和羧酸类化合物中,从共聚反应性、所得的[A]共聚物对碱性显影液的溶解性和容易获得方面出发,优选丙烯酸、甲基丙烯酸、2-丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-甲基丙烯酰氧基乙基琥珀酸等。
在[A]共聚物中,(a1)不饱和羧酸类化合物可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
在[A]共聚物中,来自(a1)不饱和羧酸类化合物的重复单元的含有率为5~60重量%,优选为10~50重量%,更优选为15~40重量%(其中,(a1)+(a2)+(a3)=100重量%,下同)。此时,来自(a1)不饱和羧酸类化合物的重复单元的含有率小于5重量%时,对碱性显影液的溶解性有降低的趋势;另一方面,如果超过60重量%,则该共聚物对碱性显影液的溶解性具有变得过大的危险。
化合物(a2)是含有至少一种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和上述式(1)所示的骨架,且具有自由基聚合性的不饱和化合物,例如,作为含有四氢呋喃骨架的不饱和化合物可以列举出四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、2-甲基丙烯酰氧基-丙酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸四氢呋喃-3-基酯等;作为含有呋喃骨架的不饱和化合物可以列举出2-甲基-5-(3-呋喃基)-1-戊烯-3-酮、糠基(甲基)丙烯酸酯、1-呋喃-2-丁-3-烯-2-酮、1-呋喃-2-丁基-3-甲氧基-3-烯-2-酮、6-(2-呋喃基)-2-甲基-1-己烯-3-酮、6-呋喃-2-基-己-1烯-3-酮、丙烯酸2-呋喃-2-基-1-甲基-乙基酯、6-(2-呋喃基)-6-甲基-1-庚烯-3-酮等;作为含有四氢吡喃骨架的不饱和化合物可以列举出(四氢吡喃-2-基)甲基-甲基丙烯酸酯、2,6-二甲基-8-(四氢吡喃-2-基氧)-辛-1-烯-3-酮、2-甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、1-(四氢吡喃-2-氧)-丁-3-烯-2-酮等;作为含有吡喃骨架的不饱和化合物可以列举出4-(1,4-二氧杂-5-氧代-6-庚烯基)-6-甲基-2-吡喃酮、4-(1,5-二氧杂-6-氧代-7-辛烯基)-6-甲基-2-吡喃酮等;
作为含有上述式(1)所示的骨架的不饱和化合物,可以列举出聚乙二醇(n=2~10)单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(n=2~10)单(甲基)丙烯酸酯等。
其中,从可以将相对突起的基板的圆锥角控制为30度或以下,而且扩大显影界限方面出发,优选使用四氢糠基(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇(n=2~10)单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸-四氢呋喃-3-基酯、1-(四氢吡喃-2-氧)-丁-3-烯-2-酮、糠基(甲基)丙烯酸酯等。它们可以单独使用也可以组合使用。
[A]共聚物中,(a2)可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
[A]共聚物中,来自(a2)的重复单元的含有率为1~60重量%,优选为3~50重量%,更优选为5~40重量%。此时,来自(a2)的重复单元的含有率小于1重量%时,相对显影液的溶解性有降低的趋势;另一方面,如果超过60重量%,则具有显影时产生膨胀和溶液粘度增加的趋势。
此外,作为(a3)其它不饱和化合物,首先可以列举出含有环氧基的不饱和化合物。
作为含有环氧基的不饱和化合物,可以列举出例如丙烯酸缩水甘油酯、丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、4-羟丁基丙烯酸酯缩水甘油醚、丙烯酸-3,4-环氧丁基酯、丙烯酸-6,7-环氧庚基酯、丙烯酸3,4-环氧环己基酯等丙烯酸环氧(环)烷基酯类;甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸-3,4-环氧丁基酯、甲基丙烯酸-6,7-环氧庚基酯、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基酯等甲基丙烯酸环氧(环)烷基酯类;α-乙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丙基丙烯酸缩水甘油酯、α-正丁基丙烯酸缩水甘油酯、α-乙基丙烯酸6,7-环氧庚基酯、α-乙基丙烯酸3,4-环氧环己基等其它的α-烷基丙烯酸环氧(环)烷基酯类;邻-乙烯基苄基缩水甘油醚、间-乙烯基苄基缩水甘油醚、对-乙烯基苄基缩水甘油醚等缩水甘油醚类等。
在这些含有环氧基的不饱和化合物中,从共聚反应性和分隔物以及突起的强度方面出发,优选甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、甲基丙烯酸6,7-环氧庚基酯、4-羟基丁基丙烯酸酯缩水甘油醚、邻-乙烯基苄基缩水甘油醚、间-乙烯基苄基缩水甘油醚、对-乙烯基苄基缩水甘油醚等。
在[A]共聚物中,(a3)含环氧基的不饱和化合物可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
另外,作为(a3)其它不饱和化合物,除了上述含环氧基的不饱和化合物以外,还可以列举出例如,丙烯酸甲酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯等丙烯酸烷基酯类;甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯等甲基丙烯酸烷基酯类;
丙烯酸环己基酯、丙烯酸2-甲基环己基酯、丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基酯、丙烯酸2-(三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基氧基)乙基酯、丙烯酸异佛尔酮酯等丙烯酸脂环酯类;甲基丙烯酸环己基酯、甲基丙烯酸2-甲基环己基酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基酯、甲基丙烯酸2-(三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基氧基)乙基酯、甲基丙烯酸异佛尔酮酯等甲基丙烯酸脂环酯类;
马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等不饱和二元羧酸二烷基酯类;
丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基酯等具有含氧五元杂环或含氧六元杂环的丙烯酸酯类;甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基酯、甲基丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基酯等具有含氧五元杂环或含氧六元杂环的甲基丙烯酸酯类;
苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间-甲基苯乙烯、对-甲基苯乙烯、对-甲氧基苯乙烯等乙烯基芳香族化合物;1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯等共轭二烯类化合物,以及丙烯腈、甲基丙烯腈、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、氯乙烯、偏氯乙烯、醋酸乙烯酯等。
在上述含有环氧基的不饱和化合物以外的(a3)其它不饱和化合物中,从共聚反应性和所得的[A]共聚物相对碱水溶液的溶解性方面出发,优选丙烯酸2-甲基环己基酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基酯、苯乙烯、对-甲氧基苯乙烯、甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基酯、1,3-丁二烯等。
在[A]共聚物中,含有环氧基的不饱和化合物以外的(a3)其它不饱和化合物可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
在[A]共聚物中,来自上述(a3)其它不饱和化合物的重复单元的含有率为10~70重量%,优选为20~50重量%,更优选为30~50重量%。此时,来自(a3)此外的不饱和化合物的重复单元的含有率小于10重量%时,保存稳定性有降低的趋势;另一方面,如果超过70重量%,则该共聚物相对碱性显影液的溶解性有降低的趋势。
另外,在[A]共聚物中,作为(a3)其它不饱和化合物优选为含有环氧基的不饱和化合物。在使用该合有环氧基的不饱和化合物时,(a 1)~(a3)中,来自含有环氧基的不饱和化合物的重复单元的含有率优选为10~70重量%,更优选为15~60重量%,特别优选为20~50重量%。此时,来自(a3)含有环氧基的不饱和化合物的重复单元的含有率小于10重量%时,所得的突起和分隔物的强度有降低的趋势;另一方面,如果超过70重量%,则保存稳定性有降低的趋势。
[A]共聚物,例如可以将(a1)不饱和羧酸类化合物,(a2)含有至少1种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和上述式(1)所示骨架的不饱和化合物,以及(a3)其它不饱和化合物,在适当溶剂中,在自由基聚合引发剂的存在下,聚合而制造。
作为上述聚合中使用的溶剂,例如可以列举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇等醇类;四氢呋喃、二噁烷等醚类;乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、乙二醇单正丙基醚、乙二醇单正丁基醚等乙二醇单烷基醚类;乙二醇单甲基醚乙酸酯、乙二醇单乙基醚乙酸酯、乙二醇单正丙基醚乙酸酯、乙二醇单正丁基醚乙酸酯等乙二醇单烷基醚乙酸酯类;
乙二醇单甲基醚丙酸酯、乙二醇单乙基醚丙酸酯、乙二醇单正丙基醚丙酸酯、乙二醇单正丁基醚丙酸酯等乙二醇单烷基醚丙酸酯类;二甘醇单甲基醚、二甘醇单乙基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇甲基乙基醚等二甘醇烷基醚类;
丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚、丙二醇单正丙基醚、丙二醇单正丁基醚等丙二醇单烷基醚类;二丙二醇单甲基醚、二丙二醇单乙基醚、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇二乙基醚、二丙二醇甲基乙基醚等二丙二醇单烷基醚类;
丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯、丙二醇单正丙基醚乙酸酯、丙二醇单正丁基醚乙酸酯等丙二醇单烷基醚乙酸酯类;丙二醇单甲基醚丙酸酯、丙二醇单乙基醚丙酸酯、丙二醇单正丙基醚丙酸酯、丙二醇单正丁基醚丙酸酯等丙二醇单烷基醚丙酸酯类;
甲苯、二甲苯等芳烃类;甲乙酮、2-戊酮、3-戊酮、环己酮、4-羟基-4-甲基-2-戊酮等酮类;
2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸正丙酯、2-甲氧基丙酸正丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸正丙酯、2-乙氧基丙酸正丁酯、2-正丙氧基丙酸甲酯、2-正丙氧基丙酸乙酯、2-正丙氧基丙酸正丙酯、2-正丙氧基丙酸正丁酯、2-正丁氧基丙酸甲酯、2-正丁氧基丙酸乙酯、2-正丁氧基丙酸正丙酯、2-正丁氧基丙酸正丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸正丙酯、3-甲氧基丙酸正丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸正丙酯、3-乙氧基丙酸正丁酯、3-正丙氧基丙酸甲酯、3-正丙氧基丙酸乙酯、3-正丙氧基丙酸正丙酯、3-正丙氧基丙酸正丁酯、3-正丁氧基丙酸甲酯、3-正丁氧基丙酸乙酯、3-正丁氧基丙酸正丙酯、3-正丁氧基丙酸正丁酯等烷氧基丙酸烷基酯类;
以及醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸正丙酯、醋酸正丁酯、羟基醋酸甲酯、羟基醋酸乙酯、羟基醋酸正丙酯、羟基醋酸正丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸正丁酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸正丙酯、3-羟基丙酸正丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基醋酸甲酯、甲氧基醋酸乙酯、甲氧基醋酸正丙酯、甲氧基醋酸正丁酯、乙氧基醋酸甲酯、乙氧基醋酸乙酯、乙氧基醋酸正丙酯、乙氧基醋酸正丁酯、正丙氧基醋酸甲酯、正丙氧基醋酸乙酯、正丙氧基醋酸正丙酯、正丙氧基醋酸正丁酯、正丁氧基醋酸甲酯、正丁氧基醋酸乙酯、正丁氧基醋酸正丙酯、正丁氧基醋酸正丁酯等其它酯类等。
在这些溶剂中,优选出二甘醇烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、烷氧基丙酸烷基酯类等。
上述溶剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
相对于(a1)~(a3)成份的总量100重量份,以上溶剂的用量为150~450重量份、优选为200~400重量份。
另外,作为上述自由基聚合引发剂没有特别的限定,例如可以列举出2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮二-(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮二-(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、4,4’-偶氮二(4-氰基戊酸)、二甲基-2,2’-偶氮二(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮二(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等偶氮化合物;苯甲酰基过氧化物、月桂酰基过氧化物、叔丁基过氧化新戊酸酯、1,1-二(叔丁基过氧化)环己烷等有机过氧化物;过氧化氢等。
另外,在使用过氧化物作为自由基聚合引发剂时,可以将其与还原剂一起作为氧化还原型引发剂使用。
这些自由基聚合引发剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
相对于(a1)~(a3)成份的总量100重量份,自由基聚合引发剂的用量为1~20重量份,优选为3~15重量份。
在自由基聚合时,除此以外,还可以和表面活性剂、链转移剂等一起使用。
另外,自由基聚合条件是温度为50~110℃、优选为60~100℃,聚合时间为180~480分钟,优选为240~420分钟左右。
[A]共聚物的凝胶渗透色谱法(GPC)的聚苯乙烯换算重均分子量(以下称作“Mw”)为2,000~100,000,优选为5,000~50,000。此时,在Mw小于2,000时,所得的涂膜的碱性显影性、残膜率等降低,或者图案形状、耐热性等受损;另一方面,如果超过100,000,则有清晰度降低,图案形状受损的危险。
[A]共聚物的分子量可以通过溶剂相对于共聚物(a1)~(a3)成份的总量的量、自由基聚合引发剂的量、聚合时间、聚合温度、使用的链转移剂调节。
[A]共聚物具有羧基和/或羧酸酐基,相对碱性显影液有适当的溶解性。另外,由于具有(a2)含至少1种选自四氢呋喃骨架、呋喃骨架、四氢吡喃骨架、吡喃骨架和上述式(1)所示的骨架的不饱和化合物,可以提高相对碱性显影液的溶解性,而不会降低保存稳定性。此外,在[A]共聚物具有羧基和/或羧酸酐基、环氧基和聚合性不饱和键时,可以不与特别的固化剂一起使用,通过加热容易地固化。因此,含有[A]共聚物的本发明的放射线敏感性树脂组合物不会在显影时出现不显影和膜损失,容易形成规定形状的突起和分隔物。
[B]聚合性不饱和化合物:
[B]聚合性不饱和化合物由在放射线敏感性聚合引发剂的存在下,通过放射线曝光聚合的不饱和化合物形成。
作为这种[B]聚合性不饱和化合物没有特别的限制,例如,优选单官能团、2官能团、3官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类,这是由于其共聚性良好,可以提高所得的突起和分隔物的强度。
作为上述单官能团(甲基)丙烯酸酯类,例如可以列举出2-羟基乙基丙烯酸酯、2-羟乙基甲基丙烯酸酯、二甘醇单乙基醚丙烯酸酯、二甘醇单乙基醚甲基丙烯酸酯、异佛尔酮丙烯酸酯、异佛尔酮甲基丙烯酸酯、3-甲氧基丁基丙烯酸酯、3-甲氧基丁基甲基丙烯酸酯、(2-丙烯酰氧基乙基)(2-羟基丙基)邻苯二甲酸酯等。另外,作为市售品,可以列举出例如アロニツクスM-101、アロニツクスM-111、アロニツクスM-114(以上,东亚合成株式会社制造);KAYARAD TC-110S、KAYARAD TC-120S(以上,日本化药株式会社制造);ビスコ一ト158、ビスコ一ト2311(以上,大阪有机化学工业株式会社制造)等商品。
另外,作为上述2官能团的(甲基)丙烯酸酯类,例如可以列举出乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、二甘醇二丙烯酸酯、二甘醇二甲基丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、四甘醇二甲基丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二甲基丙烯酸酯、1,9-壬二醇二丙烯酸酯、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯、二苯氧基乙醇芴二丙烯酸酯、二苯氧基乙醇芴二甲基丙烯酸酯、聚酯两末端(甲基)丙烯基改性、聚丙二醇两末端(甲基)丙烯基改性、聚丁二醇两末端(甲基)丙烯基改性。另外,作为市售品,例如可以列举出アロニツクスM-210、アロニツクスM-240、アロニツクスM6200(以上,东亚合成株式会社制造),KAYARAD HDDA、KAYARAD HX-220、KAYARAD R-604(以上,日本化药株式会社制造),ビスコ一ト260、ビスコ一ト312、ビスコ一ト335HP(以上,大阪有机化学工业株式会社制造),U-108A、U-200AX、UA-4100、UA-4400、UA340P、UA-2235PE、UA-160TM、UA-6100、U-2PPA200A(以上,新中村化学工业株式会社制造)等,UN-9000PEP、UN-9200A、UN-7600、UN-5200、UN-1003、UN-1255、UN-6060PTM、UN-6060P、SH-500B(以上,根上工业株式会社制造)等商品。
此外,作为上述3官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类,例如可以列举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、三(2-丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)磷酸酯;以及作为9官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类,可以列举出具有直链亚烷基和脂环结构且具有2个或更多个异氰酸酯基的化合物,和在分子内具有1个或更多个羟基且具有3个、4个或5个丙烯酰氧基和/或甲基丙烯酰氧基的化合物反应得到的多官能团尿烷丙烯酸酯类化合物等。
作为3官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类的市售品,例如可以列举出アロニツクスM-309、アロニツクスM-400、アロニツクスM-405、アロニツクスM-450、アロニツクスM-7100、アロニツクスM-8030、アロニツクスM-8060、アロニツクスTO-1450(以上,东亚合成株式会社制造),KAYARAD TMPTA、KAYARAD DPHA、KAYARAD DPCA-20、KAYARAD DPCA-30、KAYARAD DPCA-60、KAYARAD DPCA-120(以上,日本化药株式会社制造),ビスコ一ト295、ビスコ一ト300、ビスコ一ト360、ビスコ一トGPT、ビスコ一ト3PA、ビスコ一ト400(以上,大阪有机化学工业株式会社制造)的商品。作为含有多官能团尿烷丙烯酸酯类的市售品,可以列举出ニユ一フロンテイアR-1150(以上,第一工业制药株式会社制造),KAYARADDPHA-40H(以上,日本化药株式会社制造),U-4HA、U-6HA、U-6LPA、U-15HA、UA-32P、U-324A、U-4H、U-6H(以上,新中村化学工业株式会社制造),UN-9000H、UN-3320HA、UN-3320HB、UN-3320HC、UN-901T、UN-1200TPK(以上,根上工业株式会社制造)等商品。
在这些单官能团、2官能团或3官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类中,更优选为2官能团或更多官能团的(甲基)丙烯酸酯类,特别优选为聚酯两末端丙烯基改性、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯以及含有多官能团尿烷丙烯酸酯类化合物的市售商品等。
上述单官能团、2官能团、3官能团或以上的(甲基)丙烯酸酯类可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,相对于100重量份[A]共聚物,[B]聚合性不饱和化合物的用量优选为1~100重量份,更优选为3~80重量份。此时,在[B]聚合性不饱和化合物的用量小于1重量份时,在显影时可能会产生显影残缺;另一方面,如果超过100重量份,则所得的突起和分隔物的密合性有降低的趋势。
[C]放射线敏感性聚合引发剂:
[C]放射线敏感性聚合引发剂可以由如下成份形成:通过可视光线、紫外线、远紫外线、带电粒子线、X射线等放射线曝光,引发[B]聚合性不饱和化合物的聚合,产生活性种子的成份。
作为这种[C]放射线敏感性聚合引发剂,例如优选为9.H.-咔唑类的O-酰基肟型聚合引发剂(以下,称作“O-酰基肟型聚合引发剂(I)”)。
作为O-酰基肟型聚合引发剂(I),例如可以列举出1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-壬烷-1,2-壬烷-2-肟-O-苯甲酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-壬烷-1,2-壬烷-2-肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-戊烷-1,2-戊烷-2-肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-苯甲酰基-9.H.-咔唑-3-基]-辛烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯、1-[9-乙基-6-(1,3,5-三甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯、1-[9-丁基-6-(2-乙基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-苯甲酸酯等。
在这些O-酰基肟型聚合引发剂(I)中,特别优选为1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙烷-1-酮肟-O-乙酸酯。
上述O-酰基肟型聚合引发剂(I)可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
另外,在本发明中,作为[C]放射线敏感性型聚合引发剂还可以同时使用一种或更多种O-酰基肟型聚合引发剂(I)以外的O-酰基肟型光聚合引发剂(以下,称作“O-酰基肟型聚合引发剂(II)”)。
作为O-酰基肟型聚合引发剂(II),例如可以列举出1,2-辛二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(O-苯甲酰基肟)、1,2-丁二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(O-苯甲酰基肟)、1,2-丁二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(O-乙酰基肟)、1,2-辛二酮-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-(O-苯甲酰基肟)、1,2-辛二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(O-(4-甲基苯甲酰基肟)等。
在这些O-酰基肟型聚合引发剂(II)中,特别优选1,2-辛二酮-1-[4-(苯基硫代)苯基]-2-(O-苯甲酰基肟)。
在本发明中,通过使用O-酰基肟型聚合引发剂(I)或其与O-酰基肟型聚合引发剂(II)的混合物(以下,将它们简称为“O-酰基肟型聚合引发剂”),可以实现高灵敏度,而且可以得到具有良好的密合性的突起和分隔物。
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,O-酰基肟型聚合引发剂(I)的用量相对于100重量份[B]聚合性不饱和化合物,优选为5~30重量份,更优选为5~20重量份。此时,如果O-酰基肟型聚合引发剂(I)小于5重量份,则显影时的残膜率有降低的趋势;另一方面,如果超过30重量份,则显影时,未曝光部对碱性显影液的溶解性有降低的趋势。
另外,相对于O-酰基肟型聚合引发剂(I)和O-酰基肟型聚合引发剂(II)的总量100重量份,O-酰基肟型聚合引发剂(II)的使用比例优选为30重量份或以下,更优选为20重量份或以下。
此外,在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,还可以将1种或更多种的其它放射线敏感性聚合引发剂与O-酰基肟型聚合引发剂一起使用。
作为上述其它放射线敏感性聚合引发剂,例如可以列举出苯乙酮类化合物、二咪唑类化合物、安息香类化合物、二苯甲酮类化合物、α-二酮类化合物、多核苯醌类化合物、咕吨酮类化合物、膦类化合物、三嗪类化合物等,其中,优选苯乙酮类化合物、二咪唑类化合物等。
作为上述苯乙酮类化合物,例如可以列举出α-羟基酮类化合物,α-氨基酮类化合物等。
作为上述α-羟基酮类化合物,例如可以列举出1-苯基-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-(2-羟基-2-丙基)酮、1-羟基环己基苯基酮等。另外,作为上述α-氨基酮类化合物,例如可以列举出2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮、2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮等。这些化合物以外,例如还可以列举出2,2-二甲氧基苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮等。
在这些苯乙酮类化合物中,特别优选2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉基丙-1-酮、2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉基苯基)丁-1-酮。
在本发明中,通过同时使用苯乙酮类化合物,可以进一步改善灵敏度、突起和分隔物的形状和压缩强度。
另外,作为上述二咪唑类化合物,例如可以列举出2,2’-二(2-氯代苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2-溴代苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2-氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4-二氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4,6-三氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2-溴代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4-二溴代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4,6-三溴代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑等。
在这些二咪唑类化合物中,优选2,2’-二(2-氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4-二氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2,4,6-三氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑等,特别优选2,2’-二(2,4-二氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑、2,2’-二(2-氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑。
在本发明中,通过同时使用二咪唑类化合物,可以进一步改善灵敏度、分辨率和密合性。
另外,在同时使用二咪唑类化合物时,为了增加其灵敏度,可以添加具有二烷基氨基的脂肪族类和芳香族类化合物(以下,称作“氨基类增感剂”)。
作为氨基类增感剂,例如可以列举出N-甲基二乙醇胺、4,4’-二(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4’-二(二乙基氨基)二苯甲酮、对-二甲基氨基苯甲酸乙酯、对-二甲基氨基苯甲酸异戊酯等。
在这些氨基类增感剂中,特别优选为4,4’-二(二乙基氨基)二苯甲酮。
上述氨基类增感剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
此外,将二咪唑类化合物和氨基类增感剂一起使用时,可以添加硫醇类化合物作为供氢化合物。二咪唑类化合物由于上述氨基类增感剂增感而破裂,产生咪唑自由基,但是无法直接显现出高的聚合引发能,所得的分隔物大多为倒圆锥形状这样不希望的形状。但是,通过在二咪唑类化合物和氨基类增感剂共存的***中,通过添加硫醇类化合物,可以对咪唑自由基提供来自硫醇类化合物的氢自由基,结果是,咪唑自由基转变为中性的咪唑,同时产生具有高聚合引发能的硫自由基的成份,由此,分隔物的形成为更优选的顺圆锥状。
作为上述硫醇类化合物,例如可以列举出2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并咪唑、2-巯基-5-甲氧基苯并噻唑、2-巯基-5-甲氧基苯并咪唑等芳香族化合物;3-巯基丙酸、3-巯基丙酸甲酯、3-巯基丙酸乙酯、3-巯基丙酸辛酯等脂肪族单硫醇类;3,6-二氧杂-1,8-辛二硫醇、季戊四醇四(巯基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)等2官能团或更多官能团的脂肪族硫醇类。
在这些硫醇类化合物中,特别优选2-巯基苯并噻唑。
在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,其它放射线敏感性聚合引发剂的使用比例相对于全部的放射线敏感性聚合引发剂100重量份,优选为80重量份或以下,更优选为70重量份或以下,特别优选为60重量份或以下。此时,其它放射线敏感性聚合引发剂的使用比例如果超过80重量份,则可能会损害本发明所预期的效果。
另外,在将二咪唑类化合物和氨基类增感剂一起使用时,氨基类增感剂的添加量相对于100重量份二咪唑类化合物,优选为0.1~50重量份,更优选为1~20重量份。此时,如果氨基类增感剂的添加量小于0.1重量份,则灵敏度、分辨率和密合性的改善效果有降低的趋势;另一方面,如果超过50重量份,则可能会损害所得的突起和分隔物的形状。
另外,在将二咪唑类化合物和硫醇类化合物一起使用时,硫醇类化合物的添加量相对于100重量份二咪唑类化合物,优选为0.1~50重量份,更优选为1~20重量份。此时,如果硫醇类化合物的添加量小于0.1重量份,则突起和分隔物的形状的改善效果有降低的趋势,或者变得容易产生薄膜减少;另一方面,如果超过50重量份,则可能会损害所得的突起和分隔物的形状。
但是,在本发明中,也可以只是单独使用O-酰基肟型聚合引发剂(I)以外的[C]放射线敏感性聚合引发剂,或者将2种或更多种的O-酰基肟型聚合引发剂(I)以外的[C]放射线敏感性聚合引发剂混合后使用。
添加剂:
在不损害本发明所预期的效果的范围内,在本发明的放射线敏感性树脂组合物中,根据需要,除了添加上述成份以外,还可以添加表面活性剂、粘结助剂、保存稳定剂、耐热性提高剂等添加剂。
上述表面活性剂是具有改善涂布性的作用的成份,优选氟类表面活性剂和有机硅类表面活性剂。
作为上述氟类表面活性剂优选为在末端、主链和侧链的至少一个部位上具有氟代烷基或氟代亚烷基的化合物,作为其具体的例子,可以列举出1,1,2,2-四氯辛基(1,1,2,2-四氟代正丙基)醚、1,1,2,2-四氟代正辛基(正己基)醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟正丁基)醚、六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟正戊基)醚,八丙二醇二(1,1,2,2-四氟正丁基)醚、六丙二醇二(1,1,2,2,3,3-六氟正戊基)醚、1,1,2,2,3,3-六氟正癸烷、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟正十二烷、全氟正十二烷磺酸钠和、氟代烷基苯磺酸钠类、氟代烷基亚磷酸钠类、氟代烷基羧酸钠类、氟代烷基聚氧乙烯基醚类、二甘油四(氟代烷基聚氧乙烯基醚)类、氟代烷基铵碘化物类、氟代烷基甜莱碱类、氟代烷基聚氧乙烯基醚类、全氟烷基聚氧乙醇类、全氟烷基烷氧基酯类、氟系烷基酯类等。
作为氟系表面活性剂的市售商品,例如可举出商品名为BM-1000、BM-1100(以上,BM CHEMIE株式会社制造),メガフアツクF142D、メガフアツクF172、メガフアツクF173、メガフアツクF183、メガフアツクF 178、メガフアツクF191、メガフアツクF471、メガフアツクF476(以上,大日本油墨化学工业株式会社制造),フロラ一ドFC-170C、フロラ一ドFC-171、フロラ一ドFC-430、フロラ一ドFC-431(以上,住友スリ一エム株式会社制造),サ一フロンS-112、サ一フロンS-113、サ一フロンS-131、サ一フロンS-141、サ一フロンS-145、サ一フロンS-382、サ一フロンSC-101、サ一フロンSC-102、サ一フロンSC-103、サ一フロンSC-104、サ一フロンSC-105、サ一フロンSC-106(以上,旭硝子株式会社制造),エフトツブEF301、フトツブEF 303、フトツブEF 352(以上,新秋田化成株式会社制造)、フタ一ジエントFT-100、フタ一ジエントFT-110、フタ一ジエントFT-140A、フタ一ジエントFT-150、フタ一ジエントトFT-250、フタ一ジエントFT-251、フタ一ジエントFTX-251、フタ一ジエントFTX218、フタ一ジエントFT-300、フタ一ジエントFT-310、フタ一ジエントFT-400S(以上,ネオス株式会社制造)等。
作为上述有机硅系表面活性剂,作为市售商品例如可举出商品名为ト一レシリコ一ンDC3PA、ト一レシリコ一ンDC7PA、ト一レシリコ一ンSH 11PA、ト一レシリコ一ンSH21PA、ト一レシリコ一ンSH28PA、ト一レシリコ一ンSH29PA、ト一レシリコ一ンSH30PA、ト一レシリコ一ンSH-190、ト一レシリコ一ンSH-193、ト一レシリコ一ンSZ-6032、ト一レシリコ一ンSF-8428、ト一レシリコ一ンDC-57、ト一レシリコ一ンDC-190(以上、东レ·ダウコ一ニング·シリコ一ン株式会社制造),TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(以上,GE东芝シリコ一ン株式会社制造)等的商品。
另外,作为上述以外的表面活性剂,可举出聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂酰基醚、聚氧乙烯油烯基醚等的聚氧乙烯烷基醚类;聚氧乙烯正辛基苯基醚、聚氧乙烯正壬基苯基醚等的聚氧乙烯芳基醚类;聚氧乙烯二月桂酸酯、聚氧乙烯二硬脂酸酯等的聚氧乙烯二烷基酯等的非离子系表面活性剂;以及作为市售商品,例如可以列举出KP341(信越化学工业株式会社制造)、ポリフロ一No.57、ポリフロ一No.95(以上,共荣社化学株式会社制造)等。
上述表面活性剂可以单独使用,可以将2种或更多种混合使用。
表面活性剂的配合量相对于[A]共聚物100重量份优选的是5重量份或以下、进而优选的是2重量份或以下。此时,表面活性剂配合量超过5重量份时,有容易在涂布时生成膜斑的趋势。
上述粘结助剂是具有改善突起和分隔物与基体的密合性的作用的成份,优选为官能性硅烷偶联剂。
作为上述官能性硅烷偶联剂,例如可以列举出具有羧基、甲基丙烯酰基、乙烯基、异氰酸酯基、环氧基等的反应性官能基化合物。更具体地,可列举出三甲氧基甲硅烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷等。
这些粘结助剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合使用。
粘结助剂的混合量,相对于[A]共聚物100重量份优选的是20重量份或以下、更优选的是10重量份以下。此时,粘结助剂的混合量如果超过20重量份,则容易产生显影残缺。
作为上述保存稳定剂,例如可举出硫、醌类、氢醌类、聚氧化合物、胺类、硝基亚硝基化合物等,更具体地可举出4-甲氧基苯酚、N-亚硝基-N-苯基羟基胺铝等。
这些保存稳定剂可以单独使用,或混合2种或更多种使用。
保存稳定剂的配合量相对于[A]共聚物100重量份,优选的是3重量份或以下、更优选的是0.001~0.5重量份。此时,保存稳定剂的混合量超过3重量份时,可能灵敏度降低损害图形形状。
作为上述耐热性提高剂,例如可举出N-(烷氧基甲基)甘脲化合物、N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物、具有2个或更多个环氧基的化合物等。
作为上述N-(烷氧基甲基)甘脲化合物,例如可举出N,N,N,N-四(甲氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(乙氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(正丙氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(异丙氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(正丁氧基甲基)甘脲、N,N,N,N-四(叔丁氧基甲基)甘脲等。
这些N-(烷氧基甲基)甘脲化合物中,特别优选的是N,N,N,N-四(甲氧基甲基)甘脲。
作为上述N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物,例如可举出N,N,N,N,N,N-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(异丙氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、N,N,N,N,N,N-六(叔丁氧基甲基)三聚氰胺等。
这些N-(烷氧基甲基)三聚氰胺化合物中,特别优选的是N,N,N,N,N,N-六(甲氧基甲基)三聚氰胺,作为其市售品,例如可举出ニカラツクN一2702、ニカラツクMW-30M(以上,三和化学株式会社制造)的商品等。
另外,作为具有上述2个或更多个环氧基的化合物,例如可举出乙二醇二缩水甘油醚、二甘醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、三丙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、双酚A二缩水甘油醚、邻甲酚酚醛型环氧树脂。此外,作为市售品,例如可举出エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト3002、エポライト4000(以上,共荣社化学株式会社制造),EOCN102、EOCN103S、EOCN104S、EOCN1020、EOCN1025、EOCN1027(日本化药株式会社制造),エピコ一ト180S(ジヤバン·エポキシ·レジン株式会社制造)等。
这些耐热性提高剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合使用。
耐热性提高剂的混合量相对于[A]共聚物100重量份,优选的是30重量份或以下,更优选的是20重量份或以下。此时,耐热性提高剂的混合量如果超过30重量份,则放射线敏感性树脂组合物的保存稳定性有降低的趋势。
本发明的放射线敏感性树脂组合物,优选的是使用溶解在适当溶剂中的组合物溶液。
作为上述溶剂可以使用可均一地溶解构成本发明的放射线敏感性树脂组合物的各成份,而且不与各成份反应,具有适度的挥发性的溶剂,从各成份的溶解性,与各成份的反应性和容易形成涂膜的观点出发,优选为醇类、乙二醇单烷基醚乙酸酯类、二甘醇单烷基醚乙酸酯、二甘醇烷基醚类、丙二醇单烷基醚乙酸酯类、烷氧基丙酸烷基酯类等,特别优选的是苯甲醇、2-苯基乙醇、3-苯基-1-丙醇、乙二醇单正丁基醚乙酸酯、二甘醇单乙基醚乙酸酯、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、二甘醇乙基甲基醚、丙二醇单甲基醚乙酸酯、丙二醇单乙基醚乙酸酯等。
上述溶剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合后使用。
在本发明中,进一步的,还将高沸点溶剂和上述溶剂一起使用。
作为上述高沸点溶剂,例如可举出N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰苯胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、苄基乙基醚、二正己基醚、丙酮基丙酮、异佛尔酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苯甲醇、醋酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、马来酸二乙酯、γ-丁内酯、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯、乙二醇单苯基醚乙酸酯等。
这些高沸点溶剂可以单独使用,也可以将2种或更多种混合使用。
在所有溶剂中,高沸点溶剂的用量优选为50重量%或以下,更优选为30重量%或以下。
另外,以上溶剂的用量通常是使本发明的放射线敏感性树脂组合物的固态成份的浓度为15~45重量%、优选为20~40重量%左右的量。
另外,上述调制的组合物溶液也可用孔径0.5μm左右的微孔过滤器等过滤后使用。
本发明的放射性敏感性树脂组合物非常适合用于形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物。
突起和分隔物的形成方法
以下,对于使用本发明的放射线敏感性树脂组合物形成本发明的突起和分隔物的方法进行说明。
本发明的突起和分隔物的形成方法至少包括下述顺序记载的工序。
(i)在基板上形成本发明的放射线敏感性树脂组合物薄膜的工序,
(ii)将该薄膜的至少一部分曝光的工序,
(iii)显影曝光后的薄膜的工序,以及
(iv)加热显影后的薄膜的工序。
以下,对于这些各工序依次说明。
(i)工序
在透明基板的一面上形成透明导电膜,在该透明导电膜上涂覆放射线敏感性树脂组合物、优选为组合物溶液后,加热涂覆面(预烘干)形成薄膜。
作为用于形成分隔物的透明基板,例如可举出玻璃基板、树脂基板等。更具体地,可举出碱石灰玻璃、无碱玻璃等的玻璃基板;聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚醚砜、聚碳酸酯、聚酰亚胺等的塑料形成的树脂基板。
作为在透明基板的一面上设置的透明导电膜,可举出由氧化锡(SnO2)形成的NESA膜(美国PPG社的注册商标)、氧化铟-氧化锡(In2O3-SnO2)形成的ITO膜等。
作为形成本发明的感光性树脂组合物涂膜的方法,例如可以通过(1)涂布法、(2)干燥薄膜法进行。
作为组合物溶液的涂覆方法,例如可采用喷射法、辊涂法、旋转涂覆法、缝模涂覆法、刮条涂覆法、油墨喷射涂覆法等适宜的方法,特别优选旋转涂覆法、缝模涂覆法。
另外,在采用(2)干燥薄膜法形成本发明的感光性树脂组合物的涂膜时,该干燥薄膜是在基底薄膜、优选为柔韧性的基底薄膜上,层压由本发明的感光性树脂组合物形成的感光性层形成的(以下,称作“感光性干燥薄膜”)。
上述感光性干燥薄膜是在基底薄膜上涂布本发明的感光性树脂组合物、优选为液状组合物后,干燥,层压感光性层形成。作为感光性干燥薄膜的基底薄膜,例如可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、聚氯乙烯等合成树脂薄膜。基底薄膜的厚度合适的是15~125μm。所得的感光性层的厚度优选为1~30μm左右。
另外,感光性干燥薄膜在未使用时,可以在该感光性层上进一步层压保护膜进行保存。该保护膜在未使用时不剥离,在使用时可以容易地剥离,所以必须有适当的剥离性。作为满足这种条件的保护膜,例如可以列举出在PET薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜、聚氯乙烯薄膜等合成树脂的表面上,涂覆或烧结有机硅类脱膜剂形成的薄膜。保护膜的厚度通常为25μm左右。
另外,预烘干的条件,根据各成份的种类、混合比例等而异,通常在70~120℃下,为1-15分钟左右。
(ii)工序
接着,将形成的薄膜的至少一部分曝光。此时,在薄膜的一部分上曝光时,通过具有设定图形的光掩模曝光。此时,如果考虑生产性,优选对形成突起的区域和形成分隔物的区域,以基本上相同的曝光亮曝光。此时,在曝光间隙一定时,掩模的开口宽度越小,曝光照明度越低,所以交联度越低,结果是,后烘干时容易流动,产生高度差。
另外,在对分隔物和突起的控制更加严格地要求时,根据需要,也可以在不同的实际曝光量下曝光。此时,形成突起的区域的实际曝光量比分隔物部分的实际曝光量更少。以这种实际曝光量对各区域进行曝光,可以容易地使分隔物部分的膜厚比突起部的膜厚更大。作为通过不同的实际曝光量进行曝光的方法,可以采用适当的方法,例如,可以使用以下方法。
(1)通过具有放射线透过率大的部分和放射线透过率小的部分的图形掩模,进行曝光的方法。
(2)使用图形不同的2种图形掩模进行多次曝光的方法。
(3)进行从涂膜上表面曝光和从基板内表面曝光这两次曝光的方法。
作为所使用的放射线,可以使用可视光线、紫外线、远紫外线、电子束、X射线等,优选含有范围为190~450nm的波长的放射线,特别优选含有360nm的波长的放射线(紫外线)。
此时的实际曝光量是通过长度计(OAI model 356、OAIOptical Associates Inc.制)测定曝光的放射线的波长365nm的强度的值,对形成突起的区域,通常是100-4000J/m2、优选的是200-3000J/m2、特别优选的是400~2000J/m2。通过选取该范围的曝光量,可以将形成的突起的膜厚控制为0.1~3.0μm、优选为0.5~2.0μm、特别优选为1.0~1.5μm。
另外,形成分隔物的区域的曝光量,通常是500-10000J/m2、优选的是800-5000J/m2、特别优选的是1000~4000J/m2。通过选取该范围的曝光量,可以将索性的突起的膜厚控制为1~10μm、优选为2~8μm、特别优选为3~5μm。
另外,分隔部的膜厚优选比突起部的膜厚更厚。由此,分隔部具有足够的强度,另一方面,突起部可以通过后述的后烘干工序将其形状规则取向地成形为有效形状。
(iii)工序
接着,通过将曝光后的薄膜显影,除去不要的部分形成规定的图形。
作为用于显影的显影液,优选碱性显影液,作为其例子可以列举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、甲基硅酸钠、氨等无机碱类;乙胺、正丙胺等脂肪族伯胺类;二乙胺、二正丙胺等脂肪族仲胺类;三甲胺、甲基二乙胺、二甲基乙胺、三乙胺等的脂肪族叔胺类;吡咯、哌啶、N-甲基哌啶、N-甲基吡咯烷、1,8-二氮杂二环[5.4.0]-7-十一碳烯、1,5-二氮杂二环[4.3.0]-5-壬烯等的脂环族叔胺类;吡啶、三甲基吡啶、二甲基吡啶、喹啉等的芳香族叔胺类;二甲基乙醇胺,甲基二乙醇胺、三乙醇胺等链烷醇胺类;四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵等季铵盐等的碱性化合物的水溶液。
另外,在上述碱性化合物的水溶液中也可添加适当量的甲醇、乙醇等水溶性有机溶剂和/表面活性剂后使用。
作为显影方法,也可以是盛液法(液盛り法)、浸渍法、喷淋法等的任意一种方法,显影时间通常是10~180秒左右。
显影后,通常流水洗涤30~90秒后,例如通过压缩空气或压缩氮气风干形成所希望的图形。
(iv)工序
接着,将得到的图形例如通过热板、烘箱等加热装置加热(后烘干)到规定温度,例如150~250℃,规定时间,例如对于热板上是5~30分钟、对于烘箱中是30~180分钟,可得到规定的突起和分隔物。
本发明的放射线敏感性树脂组合物可以同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物,可以得到足够的图形形状,可以形成分隔物强度、耐研磨性、和透明基板的密合性、耐热性等都优异的垂直取向型液晶显示元件使用的突起和分隔物。
另外,本发明的垂直取向型液晶显示元件具有图形形状、分隔物强度、耐研磨性、与透明基板的密合性、耐热性等各种性能优异的突起和分隔物,经过很长时间也可以显示出高的可靠性。
实施例
以下,用实施例对本发明的实施方式进行更具体的说明。这里,份和%是重量基准。
合成例1
在具备冷却管、搅拌机的烧瓶中,加入5份2,2’-偶氮二异丁腈及250份二甘醇甲基乙基醚,接着,加入5份苯乙烯、20份甲基丙烯酸、25份甲基丙烯酸正丁酯、25份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基、25份四氢糠基甲基丙烯酸酯,氮气置换后,慢慢搅拌且将溶液的温度上升到90℃,在该温度下保持5小时进行聚合,得到固态分浓度为28.5%的[A]共聚物溶液。将其作为“(A-1)共聚物”。
所得的(A-1)共聚物使用GPC(凝胶渗透色谱法)HLC-8020(商品名,东ソ一株式会社制造)测定Mw,为15,000。
合成例2
在具备冷却管、搅拌机的烧瓶中,加入7份2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)及250份二甘醇甲基乙基醚,接着,加入20份甲基丙烯酸、25份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基、25份甲基丙烯酸正丁酯、25份甲基丙烯酸缩水甘油酯、25份四氢糠基甲基丙烯酸酯,氮气置换后,再加入5份1,3-丁二烯,慢慢搅拌且将溶液的温度上升到90℃,在该温度下保持5小时进行聚合,得到固态分浓度为28.2%的[A]共聚物溶液。将其作为“(A-2)共聚物”。
所得的(A-2)共聚物使用GPC测定Mw,为9,800。
合成例3
在具备冷却管、搅拌机的烧瓶中,加入7份2,2’-偶氮二(2,4-二甲基戊腈)及250份二甘醇甲基乙基醚,接着,加入5份苯乙烯、20份甲基丙烯酸、25份甲基丙烯酸2-甲基缩水甘油酯、25份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基、15份甲基丙烯酸苄酯、10份聚乙二醇(n=2~10)单甲基丙烯酸酯,氮气置换后,慢慢搅拌且将溶液的温度上升到70℃,在该温度下保持4小时进行聚合,得到固态分浓度为29.0%的[A]共聚物溶液。将其作为“(A-3)共聚物”。
所得的(A-3)共聚物使用GPC测定Mw,为15,000。
合成例4
在具备冷却管、搅拌机的烧瓶中,加入5份2,2’-偶氮二异丁腈及250份二甘醇甲基乙基醚,接着,加入5份苯乙烯,20份甲基丙烯酸、25份甲基丙烯酸缩水甘油酯、25份甲基丙烯酸正丁酯、25份甲基丙烯酸三环[5.2.1.02.6]癸烷-8-基,氮气置换后,慢慢搅拌且将溶液的温度上升到90℃,在该温度下保持5小时进行聚合,得到固态分浓度为28.7%的[A]共聚物溶液。将其作为“(A-4)共聚物”。
所得的(A-4)共聚物使用GPC测定Mw,为15,000。
实施例1
组合物溶液的配制
将100份作为[A]成份的由合成例1得到的[A]共聚物溶液作为共聚物(A-1),60份作为[B]成份的二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名KAYARAD DPHA、日本化药株式会社制造)、15份作为[C]成份的2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基氨基)-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮(商品名イルガキユア379,チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ株式会社制造),5份作为粘结助剂的γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、0.5份作为表面活性剂的FTX-218(商品名、ネオス株式会社制造)、0.5份作为保存稳定剂的4-甲氧基苯酚混合,溶解到丙二醇单甲基醚乙酸酯中,使其固态成份浓度成为30%,然后用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤,配制组合物溶液。
突起和分隔物的形成
在无碱玻璃基板上使用旋转喷射器涂覆上述组合物溶液后,在80℃的热板上预烘干3分钟形成膜厚4.0μm的薄膜。
接着,在得到的薄膜上通过残留5μm和15μm圆的图形的光掩模,以曝光狭缝200μm,365nm的强度为250W/m2的紫外曝光4秒钟。此时的实际曝光量相对于1000J/m2。然后,用0.05重量%的氢氧化钾水溶液在25℃下显影一定时间后,用纯水洗涤1分钟,再在220℃的烘箱中加热60分钟,一次曝光同时形成突起和分隔物。通过残留5μm的图形的光掩模形成突起材料,通过残留15μm的圆的图形的光掩模形成分隔物。
接着,根据下述要领,进行各种评价。评价结果如表2所示。
(1)显影时间的评价
除了以显影时间为变量以外与上述突起和分隔物的形成同样地形成突起和分隔物。此时,使显影时间分别为50、60、70、80、90、100秒钟的各显影时间时,通过光学显微镜观察未曝光部的残渣。
(2)剖面形状的评价
用扫描型电子显微镜观察(商品名S-4200日立制作所制造)所得的突起和分隔物的剖面形状,根据是否符合于图1所示的A~E的任何一个进行评价。对于突起的情况来说,剖面形状为图1(D)这样的半凸透镜状时是良好的;在为图1(E)这样的正三角形时,在取向膜的涂布性方面是不好的。另一方面,对于分隔物的情况来说,在形成图1(A)这样的柱状或者图1(B)这样的顺圆锥状时,剖面形状良好。相对于此,在为图1(C)所示的倒圆锥状(剖面形状是薄膜表面的边缘比基板侧的边缘更长的倒三角形)时,在后期研磨处理时由于图形极有可能剥落,所以剖面形状不好。
另外,通过扫描型电子显微镜,在3000倍的倍率下,从获得的突起图像,通过量角器测定突起相对基板面的圆锥角。
(3)分隔物强度的评价
对所得的分隔物,用微小压缩试验机(商品名,MCTM-200、(株)岛津制作所制造),用直径50μm的平面压子,以2.6mN/s的负荷速度,测定加入10mN的负荷时的变形量(测定温度为23℃)。该值在0.5μm或以下时,可以认为分隔物的强度良好。
(4)耐研磨性的评价
用液晶取向膜涂覆用印刷机将作为液晶取向剂的AL3046(商品名,JSR株式会社制造)涂覆在形成有分隔物的基板上后,在180℃下干燥1小时,形成膜厚0.05μm液晶取向剂的涂膜。
而后,在该涂膜上,使用具有卷绕聚酰胺制布的辊的研磨机进行研磨处理,辊的转速是500rpm、载物台的移动速度是1cm/s。此时评价图形有无被切削或者剥离。
(5)密合性的评价
除了不使用光掩模外,与上述分隔物的形成相同地实施,形成固化膜。而后,根据JIS K-5400(1900)8.5的粘着性试验中的8.5·2的棋盘格胶带法进行评价。此时100个的棋盘格中残留的棋盘格的数如表2所示。
(6)耐热性的评价
除了不使用光掩模外,与上述分隔物的形成相同地实施,形成固化膜,之后,在240℃的烘箱中加热60分钟,测定加热前后的膜厚,通过残膜率(加热后的膜厚×100/初期膜厚)评价。
实施例2~10、比较例1~2
除了在实施例1中,将表1的各成份改变为,将5份作为粘接助剂的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、0.5份作为表面活性剂的FTX-218、0.5份作为保存稳定性的4-甲氧基苯酚混合,溶解在丙二醇单甲基醚乙酸酯中,以使固态成份浓度为30%后,用孔径0.5μm的微孔过滤器过滤,制备组合物溶液。之后,与实施例1同样地,形成分隔物,与实施例1同样地评价。评价结果如表2所示。
在表1中,聚合物以外的各成份,如下所述。
[B]成份
B-1:二季戊四醇六丙烯酸酯(商品名KAYARAD DPHA)
B-2:含多官能团尿烷丙烯酸酯类化合物市售品(商品名KAYARAD DPHA-40H)
[C]成份
C-1:1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9.H.-咔唑-3-基]-乙-1-酮肟-O-乙酸酯(商品名CGI-242、チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ株式会社制造)
D-1:2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基)-2-吗啉基丙-1-酮(商品名イルガキユア907,チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ株式会社制造)
D-2:2-(4-甲基苯甲酰基)-2-(二甲基胺基)-1-(4-吗啉基苯基)-丁-1-酮(商品名イルガキユア379,チバ·スペシヤルテイ一·ケミカルズ株式会社制造)
E-1:2,2’-二(2,4-二氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑
E-2:2,2’-二(2-氯代苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑
E-3:4,4’-二(二乙基胺基)二苯甲酮
E-4:2-巯基苯并噻唑
表1
组合物种类 | A成份 | B成份 | C成份 | ||||||||
种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | 种类 | 重量份 | ||
实施例1 | (S-1) | 聚合物A-1 | 100 | B-1 | 60 | D-2 | 15 | - | - | - | - |
实施例2 | (S-2) | 聚合物A-1 | 100 | B-1 | 60 | D-1 | 20 | - | - | - | - |
实施例3 | (S-5) | 聚合物A-1 | 100 | B-1+B-2 | 40+20 | - | - | - | - | E-1+E-3+E-4 | 10+10+5 |
实施例4 | (S-3) | 聚合物A-2 | 100 | B-1 | 60 | D-2 | 15 | - | - | - | - |
实施例5 | (S-4) | 聚合物A-2 | 100 | B-1 | 60 | D-1 | 20 | - | - | - | - |
实施例6 | (S-5) | 聚合物A-2 | 100 | B-1+B-2 | 40+20 | - | - | - | - | E-2+E-3+E-4 | 10+10+5 |
实施例7 | (S-7) | 聚合物A-3 | 100 | B-1 | 60 | D-2 | 15 | - | - | - | - |
实施例8 | (S-8) | 聚合物A-3 | 100 | B-1 | 60 | D-1 | 20 | - | - | - | - |
实施例9 | (S-9) | 聚合物A-3 | 100 | B-1 | 60 | C-1 | 5 | - | - | - | - |
实施例10 | (S-10) | 聚合物A-3 | 100 | B-1+B-2 | 40+20 | - | - | D-1 | 10 | E-1+E-3+E-4 | 10+10+5 |
比较例1 | (s-1) | 聚合物A-1 | 100 | B-1 | 110 | D-2 | 15 | - | - | - | - |
比较例2 | (s-2) | 聚合物A-4 | 100 | B-1 | 60 | D-2 | 15 | - | - | - | - |
表2
组合物种类 | 显影时间(秒) | 剖面形状 | 分隔物强度(μm) | 耐研磨性实验有无剥离 | 密合性(/100) | 耐热性(%) | |||
突起形状 | 突起圆锥角 | 分隔物形状 | |||||||
实施例1 | (S-1) | 80 | D | 17 | A | 0.6 | 无 | 100 | 80 |
实施例2 | (S-2) | 80 | D | 18 | B | 0.6 | 无 | 100 | 78 |
实施例3 | (S-3) | 80 | D | 20 | B | 0.6 | 无 | 100 | 80 |
实施例4 | (S-4) | 70 | D | 22 | A | 0.8 | 无 | 100 | 94 |
实施例5 | (S-5) | 70 | D | 25 | B | 0.8 | 无 | 100 | 93 |
实施例6 | (S-6) | 70 | D | 25 | B | 0.8 | 无 | 100 | 92 |
实施例7 | (S-7) | 60 | D | 20 | B | 0.7 | 无 | 100 | 89 |
实施例8 | (S-8) | 60 | D | 20 | B | 0.7 | 无 | 100 | 89 |
实施例9 | (S-9) | 60 | D | 20 | B | 0.7 | 无 | 100 | 88 |
实施例10 | (S-10) | 60 | D | 20 | B | 0.7 | 无 | 100 | 88 |
比较例1 | (s-1) | 80 | E | 42 | C | 0.5 | 有 | 90 | 78 |
比较例2 | (s-2) | 90 | E | 45 | A | 0.7 | 无 | 100 | 83 |
Claims (4)
2.由权利要求1所记载的放射线敏感性树脂组合物形成的突起和分隔物。
3.具有权利要求2所记载的突起和分隔物的液晶显示元件。
4.一种同时形成突起和分隔物的形成方法,其特征在于:含有下述顺序记载的下述工序:
(1)在基板上形成权利要求1所记载的放射线敏感性组合物的涂膜的工序,
(2)对该涂膜的至少一部分照射放射线的工序,
(3)显影工序,和
(4)加热工序。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005079054A JP2006259472A (ja) | 2005-03-18 | 2005-03-18 | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 |
JP2005079054 | 2005-03-18 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1834744A true CN1834744A (zh) | 2006-09-20 |
Family
ID=37002555
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA2006100585523A Pending CN1834744A (zh) | 2005-03-18 | 2006-03-16 | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006259472A (zh) |
KR (1) | KR20060101339A (zh) |
CN (1) | CN1834744A (zh) |
TW (1) | TW200643615A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101226329B (zh) * | 2007-01-18 | 2012-09-05 | Jsr株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它们的制备方法 |
CN103293854A (zh) * | 2012-02-23 | 2013-09-11 | 住友化学株式会社 | 感光性树脂组合物 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007233132A (ja) * | 2006-03-02 | 2007-09-13 | Toppan Printing Co Ltd | 配向制御用突起付き基板及びそれを用いた液晶表示装置 |
JP4935349B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-05-23 | 住友化学株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2008170633A (ja) * | 2007-01-10 | 2008-07-24 | Brother Ind Ltd | 電気泳動表示パネルの隔壁の製造方法及び、電気泳動表示パネル |
JP6986830B2 (ja) * | 2016-06-29 | 2021-12-22 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、パターン、パターン形成方法及び表示素子 |
-
2005
- 2005-03-18 JP JP2005079054A patent/JP2006259472A/ja active Pending
-
2006
- 2006-03-16 CN CNA2006100585523A patent/CN1834744A/zh active Pending
- 2006-03-17 KR KR1020060024679A patent/KR20060101339A/ko not_active Application Discontinuation
- 2006-03-17 TW TW095109093A patent/TW200643615A/zh unknown
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101226329B (zh) * | 2007-01-18 | 2012-09-05 | Jsr株式会社 | 放射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜及微透镜以及它们的制备方法 |
CN103293854A (zh) * | 2012-02-23 | 2013-09-11 | 住友化学株式会社 | 感光性树脂组合物 |
CN103293854B (zh) * | 2012-02-23 | 2019-05-17 | 住友化学株式会社 | 感光性树脂组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200643615A (en) | 2006-12-16 |
JP2006259472A (ja) | 2006-09-28 |
KR20060101339A (ko) | 2006-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101059651A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 | |
CN1940724A (zh) | 光敏性树脂组合物、液晶显示面板的保护膜及分隔物、它们的形成方法及液晶显示面板 | |
CN1143143C (zh) | 喷墨滤色镜树脂组合物、滤色镜和滤色镜生产方法 | |
CN1216320C (zh) | 辐射敏感的折射率变化组合物以及变化折射率的方法 | |
CN1950751A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、间隔物及其形成方法 | |
CN1916761A (zh) | 感光性树脂组合物、显示面板用隔垫和显示面板 | |
CN101078879A (zh) | 感放射线性树脂组合物、间隔物及其形成方法 | |
CN1725086A (zh) | 感光性树脂组合物、显示板用隔离物和显示板 | |
TWI410750B (zh) | A radiation-sensitive resin composition, a spacer for a liquid crystal display panel, a method for forming a spacer for a liquid crystal display panel, and a liquid crystal display panel | |
CN1821877A (zh) | 隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法和液晶显示元件 | |
CN1645220A (zh) | 隔片形成用放射线敏感性树脂组合物、隔片及其形成方法以及液晶显示元件 | |
CN1834744A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 | |
CN1841196A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 | |
CN1655060A (zh) | 感放射线性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板 | |
CN1841192A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的凸起体和间隔体,以及包含其的液晶显示元件 | |
CN1841197A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 | |
CN1916762A (zh) | 感光性树脂组合物、显示面板用间隔物及显示面板 | |
CN1797196A (zh) | 感光性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板 | |
KR20070024423A (ko) | 중합체, 감방사선성 수지 조성물 및 액정 표시 소자용스페이서 | |
CN1841194A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由该组合物形成的突起和分隔物及其形成方法、及液晶显示元件 | |
CN1765948A (zh) | 侧链不饱和聚合物、辐射敏感性树脂组合物以及液晶显示元件用隔板 | |
CN101030036A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物及液晶显示元件用间隔体 | |
CN1898605A (zh) | 辐射敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的制备方法 | |
CN1841193A (zh) | 放射线敏感性树脂组合物、由其形成的凸起和间隔物、以及具有它们的液晶显示元件 | |
CN1766733A (zh) | 感光性树脂组合物、显示面板用间隔物及显示面板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |