CN1759014A - 标记方法和有标记的物体 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 30
- 238000002372 labelling Methods 0.000 claims description 4
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 208000037656 Respiratory Sounds Diseases 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 241000931526 Acer campestre Species 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 206010011376 Crepitations Diseases 0.000 description 1
- 229910000792 Monel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- 229910009372 YVO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/382—Contact thermal transfer or sublimation processes
- B41M5/38207—Contact thermal transfer or sublimation processes characterised by aspects not provided for in groups B41M5/385 - B41M5/395
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Abstract
公开了一种通过激光束标记物体的方法。所述方法包括以下步骤：在支撑体上应用施主薄膜，所述支撑体对激光束至少是部分透明的；将具有施主薄膜的支撑体放置在将被构图的表面附近，使施主薄膜面对将被标记的物体；激光束穿过支撑体照射施主薄膜，进而转录施主薄膜的图案到物体上；和从物体上移开具有施主薄膜的支撑体。施主薄膜的厚度至少为0.5微米。还公开了一种通过上述方法获得的有标记的物体，其中标记的厚度至少为0.5微米。
Description
本发明涉及一种通过激光束标记物体的方法，所述方法包括以下步骤：
-在支撑体上应用施主薄膜，所述支撑体对于激光束至少是部分透明的；
-把具有施主薄膜的支撑体放置在将被构图的表面附近，使施主薄膜面对将被标记的物体；
-激光束穿过支撑体照射施主薄膜，进而转录施主薄膜的图案到物体上；和
-从物体上移开具有施主薄膜的支撑体。
而且，本发明涉及可通过上述方法获得的有标记的物体。
上述方法也被称作LIFT(激光感应正向转移)方法。所述方法中，薄施主薄膜覆盖在支撑体上，该支撑体对于激光波长是透明的。所述薄膜放置在将被构图的表面附近。激光脉冲熔化并部分蒸发所述薄膜。蒸气压驱使熔化的薄膜进入目标。印刷的图案由再凝固的液滴和冷凝的蒸气组成。
上述方法适用于为物体(例如由玻璃，塑料等制成)标记字符、数值、标记、代码、图表或其他识别信息。所述物体，例如，可以包括液晶显示板，等离子体显示板或阴极射线管或它们的组合。
当使用激光感应正向转移来标记玻璃衬底时，存在毁坏玻璃的风险，例如，引入(微)裂纹。这些裂纹当然必须避免，特别是在标记CRT的情况，其玻璃的机械性质是非常重要的。
LIFT方法可以从EP-A-0 850 779获知，这里引用作为参考。根据所述专利申请，这一点是很重要的，即，在做标记过程中，施主薄膜和将被标记的物体表面之间需要维持一个空隙。该空隙不能太窄以防止支撑体和将被标记的物体熔化在一起。当空隙太窄时，被激光束加热的施主薄膜可能导致这种后果。根据EP-A-0 850 779，施主薄膜的厚度为100-330nm的范围。另一方面，空隙也不能太宽，否则会导致在将被标记物体表面上产生模糊的图案。
很明显需要精确控制施主薄膜和将被标记物体之间的距离是根据EP-A-0 850 779方法的一个缺点。
因此，本发明的一个目的是提供一种没有上述缺点的方法。而且，它的一个目标是提供这样一种方法，该方法把损坏将被标记物体的风险降低。
这样，本发明提供一种方法，根据前文，其特征在于，施主薄膜的厚度至少为0.5微米，优选地至少为1微米。
通过提供这样一种相对厚的施主薄膜，使得将被标记的物体被有效地从激光束中屏蔽，进而防止在将被标记的物体上形成裂纹，防止衬底和将被标记物体熔化在一体。这样就不再需要施主薄膜和物体之间空隙的精确控制。
在一个特殊实施例中，激光束的脉冲持续时间与施主薄膜的厚度匹配。
通过提供相对厚的施主薄膜并且与激光束的脉冲持续时间匹配，有可能在施主薄膜与将被标记表面之间没有提供空隙的情况下转录施主薄膜。甚至在没有这样一个空隙的情况下，还避免了两个表面熔化在一起的现象。本发明基于下面的观点，施主薄膜花费有限的时间-延迟时间-从衬底转录到将被标记的物体。当选择脉冲持续时间比延迟时间小时，施主薄膜在激光脉冲结束后转录。而且，如果施主层的层厚大于热穿透深度时，层的上部处于熔化温度，而相对部分仍处于室温。这样，就防止了熔化。
优选实施例中激光脉冲持续时间为20纳秒或更小。
如上所述，根据本发明的方法提供一个重要优势，即在衬底和将被标记物体之间不需要对空隙进行精确控制，具有施主薄膜的支撑体可以与将被标记物体基本相邻。根据本发明方法的另一个优势(没有必要制造空隙)在于，在标记弯曲表面时同样具有优越性。这种弯曲表面的一个例子是卤素灯。
本发明还涉及通过上述方法获得的有标记的物体。标记的厚度至少为0.5m微米，优选地至少为1微米。
尽管原理上讲，所述标记方法可以用于标记所有类型物体，但它特别适用于标记液晶显示板、等离子体显示板、阴极射线管或它们的组合。
本发明将参照实例和附图得以进一步的阐述，附图中：
图1a和b示意性地示出了LIFT方法的原理。
该图仅起纯示意作用，并没有按比例画出。为清楚起见，一些尺寸被放大。
图1示出了支撑体2，其上应用有施主薄膜3。本实例中，支撑板是厚度为1mm的玻璃板。然而，也有可能使用金属箔作为支撑体，例如薄的柔性金属箔(例如，Dupont的19微米聚酯薄膜箔)。施主薄膜3可以包括任何通过激光束照射加热而蒸发或升华的材料。它通常是通过薄膜成型技术(例如真空蒸发覆盖和溅射)使用的材料。为标记目的，材料优选地是不透明的。施主薄膜的典型例子是铬，铝，钽以及镍铜合金。本例中，支撑体2覆盖有1微米厚的铬层。尽管为清楚起见在图1中没有示出，但支撑体2与目标或将被标记物体4是接触的。
参考数字5代表激光束，其包括1064nm的脉冲Nd-YAG。其他类型的激光束也可使用，例如脉冲持续时间小于20ns、操作在第一(1064nm)、第二(532nm)、第三(355nm)和第四(266nm)谐波发射的二极管泵浦固态激光器(Nd-YVO4和Nd-YAG)。另一种可能是脉冲持续时间小于20ns、操作在351nm、308nm和248nm的受激准分子激光器。
如图1a所示，激光束穿过支撑体2照射施主薄膜3。根据本发明的方法，激光束的脉冲持续时间与施主薄膜的厚度匹配，此处为20nm或更小。通过使施主薄膜经受这种脉动的激光照射，激光脉冲使得所述施主薄膜熔化和部分蒸发。蒸气压驱使熔化的薄膜到达目标。印刷图案8由再凝固的液滴和冷凝的蒸气组成。图1b示出了熔化区域7以及印刷图案8。施主薄膜3的相对高的厚度防止了衬底2被熔接到目标4，并将目标4从激光束5中屏蔽，进而防止了裂缝的形成。换句话说，激光照射被施主薄膜3阻挡，结果是施主薄膜3用作目标4的屏蔽。
Claims (8)
1.一种通过激光束标记物体的方法，所述方法包括以下步骤：
-在支撑体(2)上应用施主薄膜(3)，所述支撑体(2)对激光束至少是部分透明的；
-将具有施主薄膜(3)的支撑体(2)放置在需要构图的表面附近，使施主薄膜面对将被标记的物体(4)；
-激光束(5)穿过支撑体(2)照射施主薄膜(3)，进而转录施主薄膜的图案(8)到物体(4)上；和
-从物体上移开具有施主薄膜的支撑体，
其特征在于，施主薄膜(3)的厚度至少为0.5微米。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，施主薄膜(3)的厚度至少为1微米。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，激光束(5)的脉冲持续时间与施主薄膜层的厚度相匹配。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，激光的脉冲持续时间是20纳秒或更小。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，具有施主薄膜(3)的支撑体(2)与将被标记的物体(4)基本相邻。
6.一种通过根据权利要求1-4中任何一个的方法获得的有标记的物体，其特征在于，标记的厚度至少为0.5微米。
7.根据权利要求6所述的标记物体，其特征在于，标记的厚度至少为1微米。
8.根据权利要求6或7的标记物体，其特征在于，它包括液晶显示板、等离子体显示板或阴极射线管或它们的组合。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP03100637 | 2003-03-13 | ||
| EP03100637.2 | 2003-03-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1759014A true CN1759014A (zh) | 2006-04-12 |
Family
ID=32981921
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNA2004800067063A Pending CN1759014A (zh) | 2003-03-13 | 2004-03-11 | 标记方法和有标记的物体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20060213886A1 (zh) |
| EP (1) | EP1606119A1 (zh) |
| JP (1) | JP2006523154A (zh) |
| CN (1) | CN1759014A (zh) |
| TW (1) | TW200510187A (zh) |
| WO (1) | WO2004080725A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101678502B (zh) * | 2007-04-17 | 2013-07-10 | 松下电工欧洲股份公司 | 把结构结合到透明工件表面的方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20060033554A (ko) * | 2004-10-15 | 2006-04-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 레이저 열전사 장치 및 이를 이용한 유기전계 발광 소자의제조 방법 |
| US20080179761A1 (en) * | 2007-01-26 | 2008-07-31 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor package having evaporated symbolization |
| DE202008014997U1 (de) | 2008-11-12 | 2009-02-12 | Nivatex Limited | Datenträger zum Ausbilden einer Schutzmarkierung an seiner Oberfläche |
| EP2731126A1 (en) | 2012-11-09 | 2014-05-14 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method for bonding bare chip dies |
| EP2886360B1 (en) * | 2013-12-17 | 2016-07-20 | Braun GmbH | Method of laser induced marking of an article |
| KR20180030609A (ko) * | 2015-07-09 | 2018-03-23 | 오르보테크 엘티디. | Lift 토출 각도의 제어 |
| CN110998278A (zh) * | 2017-08-17 | 2020-04-10 | 明确医疗有限公司 | 组织标记*** |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4515867A (en) * | 1982-09-20 | 1985-05-07 | Rca Corporation | Method for ablating a coded marking into a glass workpiece and product thereof |
| US4752455A (en) * | 1986-05-27 | 1988-06-21 | Kms Fusion, Inc. | Pulsed laser microfabrication |
| JPH02253988A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-10-12 | Asahi Chem Ind Co Ltd | レーザ記録用熱転写シートおよびそれを使用した画像記録法 |
| US5518861A (en) * | 1994-04-26 | 1996-05-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Element and process for laser-induced ablative transfer |
| US6207268B1 (en) * | 1996-11-12 | 2001-03-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Transfer sheet, and pattern-forming method |
| EP0850779B1 (en) | 1996-12-27 | 2001-05-02 | Omron Corporation | Method of marking an object with a laser beam |
| WO1998042474A1 (fr) * | 1997-03-21 | 1998-10-01 | Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki | Procede et materiel de marquage |
| AU7253898A (en) * | 1997-04-22 | 1998-11-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Half-tone imaging by laser-induced film transfer to textured receptor |
| KR100271487B1 (ko) * | 1997-05-23 | 2000-11-15 | 김순택 | 칼라필터용 도너필름 |
| US6159832A (en) * | 1998-03-18 | 2000-12-12 | Mayer; Frederick J. | Precision laser metallization |
| US6227394B1 (en) * | 1998-06-09 | 2001-05-08 | Asahi Glass Company Ltd. | Glass bulb for a cathode ray tube and a method for producing a cathode ray tube |
| JP4590663B2 (ja) * | 1999-10-29 | 2010-12-01 | セイコーエプソン株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| TW584979B (en) * | 2001-05-11 | 2004-04-21 | Du Pont | Donor element suitable for incorporation into a laserable assemblage and its uses |
| US6479208B1 (en) * | 2001-10-04 | 2002-11-12 | Infosight Corporation | Marking of hot glass using a carrier ribbon bearing a laser ablated coating pattern |
| SG122749A1 (en) * | 2001-10-16 | 2006-06-29 | Inst Data Storage | Method of laser marking and apparatus therefor |
-
2004
- 2004-03-11 CN CNA2004800067063A patent/CN1759014A/zh active Pending
- 2004-03-11 US US10/548,719 patent/US20060213886A1/en not_active Abandoned
- 2004-03-11 JP JP2006506691A patent/JP2006523154A/ja active Pending
- 2004-03-11 EP EP04719563A patent/EP1606119A1/en not_active Withdrawn
- 2004-03-11 WO PCT/IB2004/050230 patent/WO2004080725A1/en not_active Application Discontinuation
- 2004-03-12 TW TW093106686A patent/TW200510187A/zh unknown
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101678502B (zh) * | 2007-04-17 | 2013-07-10 | 松下电工欧洲股份公司 | 把结构结合到透明工件表面的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1606119A1 (en) | 2005-12-21 |
| US20060213886A1 (en) | 2006-09-28 |
| TW200510187A (en) | 2005-03-16 |
| WO2004080725A1 (en) | 2004-09-23 |
| JP2006523154A (ja) | 2006-10-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |