CN1743509A - 用于钼的化学蚀刻溶液 - Google Patents
用于钼的化学蚀刻溶液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1743509A CN1743509A CN 200510044853 CN200510044853A CN1743509A CN 1743509 A CN1743509 A CN 1743509A CN 200510044853 CN200510044853 CN 200510044853 CN 200510044853 A CN200510044853 A CN 200510044853A CN 1743509 A CN1743509 A CN 1743509A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- molybdenum
- solution
- chemical etching
- concentration
- etching solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
一种用于钼的化学蚀刻溶液,其特征在于由硫酸、硝酸和水所组成,它们的体积百分数范围为硫酸5%-35%、硝酸5%-25%、水40%-90%;所述的硫酸浓度为95%-98%、硝酸的浓度为65%-68%。它还可以含有一种添加剂乙二胺四乙酸二钠,该添加剂的浓度为0.01-1g/L。本发明的蚀刻溶液可在常温下使用,具有腐蚀速度快,侧蚀小,使用寿命长和加工成本低等优点,即使在静止溶液中也可实现钼的快速蚀刻。
Description
技术领域
本发明涉及一种化学蚀刻溶液,特别是涉及一种适用于钼的化学蚀刻溶液。
背景技术
化学蚀刻是通过化学反应利用化学溶液的腐蚀作用将不需要的金属快速溶解除掉的过程。化学蚀刻的基本流程是:将初始金属件进行常规的清洗和除油使表面清洁,进而在其表面涂覆光刻胶,并按照加工图样进行光刻胶的曝光,而后进行显影和坚膜处理,再利用化学蚀刻溶液腐蚀暴露的金属,待腐蚀过程结束后,再将表面的胶用强碱性溶液去掉,最后用水清洗干净得到蚀刻加工工件产品。
目前已有的化学蚀刻溶液主要是针对不锈钢、铜、镍等金属微细加工的化学蚀刻溶液,而对于钼的化学蚀刻溶液尚未见报道。由于金属钼具有高耐蚀性、耐高温性、高导电性和高耐磨性,其作为特种功能材料的使用极为广泛,但由于其高硬度难于机械加工微细结构,而目前涉及微细加工的要求正逐渐增多,为此用于钼的化学蚀刻溶液的需求也日益紧迫。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于钼的化学蚀刻溶液,它能满足现有技术的上述需求。
一种用于钼的化学蚀刻溶液,其特征在于由硫酸、硝酸和水所组成,它们的体积百分数范围为硫酸5%-35%、硝酸5%-25%、水40%-90%;所述的硫酸浓度为95%-98%、硝酸的浓度为65%-68%。
本发明的蚀刻溶液可在常温下使用,具有腐蚀速度快,侧蚀小,溶液使用寿命长和加工成本低等优点,即使在静止溶液中也可实现钼的快速蚀刻。
具体实施方式
实施例1:
将50毫升的硫酸(98%(重量百分数,下同)的溶液,密度1.84),150毫升的硝酸(67%的溶液,密度1.40)与800毫升的水混合在一起,将所得的蚀刻溶液按现有的蚀刻工艺对钼电极板(燃料电池的极板部件)进行化学蚀刻。蚀刻温度为30℃,操作时将0.1mm厚的钼电极板静止浸泡在该蚀刻溶液中,大约7分钟后腐蚀烂穿,其最小线径为0.12mm,孔径为0.18mm。该蚀刻溶液的使用寿命可以达到每升溶解60克铝。
实施例2:
将350毫升的硫酸(98%的溶液,密度1.84),200毫升的硝酸(67%的溶液,密度1.40)与450毫升的水混合在一起,将所得的蚀刻溶液按现有的蚀刻工艺对钼电极板(燃料电池的极板部件)进行化学蚀刻。蚀刻温度为20℃,操作时将0.8mm厚的钼电极板静止浸泡在该溶液中,大约50分钟后腐蚀烂穿,其最小线径为0.96mm,孔径为1.5mm。
实施例3:
将50毫升的硫酸(98%的溶液,密度1.84),150毫升的硝酸(67%的溶液,密度1.40),0.5g EDTA与800毫升的水混合在一起,将所得的蚀刻溶液按现有的蚀刻工艺对钼电极板(燃料电池的极板部件)进行化学蚀刻。蚀刻温度为25℃,操作时将0.1mm厚的钼电极板静止浸泡在该溶液中,大约7分钟后腐蚀烂穿,其最小线径为0.12mm,孔径为0.18mm。该溶液的使用寿命可以达到每升溶解98克钼。
本发明中所用的硫酸为市售的浓硫酸,其浓度为95%-98%;所用的硝酸为市售的浓硝酸,其浓度为65%-68%。
为了延长溶液的使用寿命可以加入少量络合剂乙二胺四乙酸二钠(EDTA),用量在0.01~1g/L范围内;本化学蚀刻溶液的使用温度范围为20~40℃,可以采用在静止的或流动的化学蚀刻溶液中两种加工方式,当在使用温度25℃的静止溶液中加工时,钼的化学蚀刻速度为8微米/分钟。
本蚀刻溶液可以广泛应用于电子工业、光学仪表工业、石化工业、制药设备工业、核工业、半导体加工业、燃料电池和军事装备等的重要元器件和结构件的化学蚀刻加工过程中。
Claims (2)
1一种用于钼的化学蚀刻溶液,其特征在于由硫酸、硝酸和水所组成,它们的体积百分数范围为硫酸5%-35%、硝酸5%-25%、水40%-90%;所述的硫酸浓度为95%-98%、硝酸的浓度为65%-68%。
2根据权利要求1所述的溶液,其特征在于它含有一种添加剂乙二胺四乙酸二钠,该添加剂的浓度为0.01-1g/L。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100448536A CN100376721C (zh) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 用于钼的化学蚀刻溶液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100448536A CN100376721C (zh) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 用于钼的化学蚀刻溶液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1743509A true CN1743509A (zh) | 2006-03-08 |
CN100376721C CN100376721C (zh) | 2008-03-26 |
Family
ID=36139027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2005100448536A Expired - Fee Related CN100376721C (zh) | 2005-09-21 | 2005-09-21 | 用于钼的化学蚀刻溶液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100376721C (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104060267A (zh) * | 2014-07-17 | 2014-09-24 | 深圳市卓力达电子有限公司 | 一种用于金属钼片的化学蚀刻方法 |
CN108754497A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-11-06 | 景瓷精密零部件(桐乡)有限公司 | 一种钼栅极产品的刻蚀液配方及生产方法 |
CN111876781A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-11-03 | 成都虹波实业股份有限公司 | 一种厚钼板的蚀刻液及其制备方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6444140B2 (en) * | 1999-03-17 | 2002-09-03 | Morton International Inc. | Micro-etch solution for producing metal surface topography |
JP2002208704A (ja) * | 2001-01-09 | 2002-07-26 | Hitachi Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法及びそのエッチング液 |
WO2003036707A1 (fr) * | 2001-10-22 | 2003-05-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Procede de gravure pour film lamine en aluminium-molybdene |
JP2004068068A (ja) * | 2002-08-05 | 2004-03-04 | Nippon Parkerizing Co Ltd | 複合材、その製造方法 |
KR100505328B1 (ko) * | 2002-12-12 | 2005-07-29 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 구리 몰리브덴막에서 몰리브덴 잔사를 제거할 수 있는식각용액 및 그 식각 방법 |
-
2005
- 2005-09-21 CN CNB2005100448536A patent/CN100376721C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104060267A (zh) * | 2014-07-17 | 2014-09-24 | 深圳市卓力达电子有限公司 | 一种用于金属钼片的化学蚀刻方法 |
CN108754497A (zh) * | 2018-07-02 | 2018-11-06 | 景瓷精密零部件(桐乡)有限公司 | 一种钼栅极产品的刻蚀液配方及生产方法 |
CN111876781A (zh) * | 2020-06-22 | 2020-11-03 | 成都虹波实业股份有限公司 | 一种厚钼板的蚀刻液及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100376721C (zh) | 2008-03-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100390322C (zh) | 用于钛及钛合金的化学蚀刻溶液 | |
CN109652804B (zh) | 一种pcb减铜蚀刻液以及制作工艺 | |
CN105839093B (zh) | 一种电镀铜用常温无铬钝化液及其钝化工艺 | |
CN103046052B (zh) | 环保型含钛膜层的退除液及其使用方法 | |
CN106894029A (zh) | 一种铝合金清洗剂及其制作方法以及铝合金清洗方法 | |
CN110042403A (zh) | 除灰剂及其制备方法、应用和硅铝合金的除灰方法 | |
CN100376721C (zh) | 用于钼的化学蚀刻溶液 | |
CN108193206B (zh) | 一种退镍剂、制备方法及使用方法 | |
CN100537848C (zh) | 一种金属清除剂组合物及其生产方法 | |
CN100360714C (zh) | 用于铝及铝合金的化学蚀刻溶液 | |
CN110195222A (zh) | 一种rtr减铜后处理用铜箔表面钝化剂及其使用和制备方法 | |
CN107201519A (zh) | 一种钛选择性双组份蚀刻液 | |
CN110982644A (zh) | 一种柠檬酸变色水垢清洗剂及其制备方法和应用 | |
CN100497751C (zh) | 电子元器件外引线的微蚀剂 | |
CN106517116A (zh) | 一种工业废硝酸的综合利用工艺 | |
CN108166002B (zh) | 一种适用于化学清洗的低温除油漂洗洗液及其使用工艺 | |
CN112342554A (zh) | 一种用于蒸发器的清洗剂及其清洗工艺 | |
CN118256925A (zh) | 一种用于防止印制板组件在碱性清洗过程中腐蚀变色的缓蚀保护剂及其制备方法 | |
CN1932078A (zh) | 非氧化性介质中耐蚀性能优异的不锈钢表面化学镀钯工艺 | |
CN104532270A (zh) | 一种incoloy 825镍基合金氧化物清洗剂 | |
CN114774937B (zh) | 一种线路板电镀用环保型无机酸性除油剂和除油方法 | |
CN104060267A (zh) | 一种用于金属钼片的化学蚀刻方法 | |
CN117405666A (zh) | 一种合金钢-高温合金双金属复合界面金相组织显示方法 | |
CN117888116A (zh) | 一种铝材专用新型脱脂剂及其制备方法 | |
CN116445087A (zh) | 一种2系铝合金的无烟化学抛光液及其抛光工艺 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |