CN1734330A - 电光装置、电光装置的制造方法及电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种电光装置，通过设置光衬垫，即使在电光装置发生光学特性不良时，也不能从外部视觉辨认。该电光装置(1)，具有形成在基板(12a)上的电极(21)、形成在电极(21)上的液晶层(16)、切换外加给电极(21)的电压的开关元件(18)、限定液晶层(16)的层厚的光衬垫(22)、及设在光衬垫(22)和基板(12a)之间的衬垫遮光膜(19)。衬垫遮光膜(19)，由与构成开关元件(18)的多个要素中的至少1个要素相同的材料，例如钽、铬等形成。即使在光衬垫(22)的周边，发生取向不良，因有衬垫遮光膜(19)，也不能从外部视觉辨认该不良。

Description

电光装置、电光装置的制造方法及电子设备

技术领域

本发明涉及液晶显示装置等电光装置。此外本发明涉及该电光装置的制造方法。此外本发明涉及采用该电光装置构成的电子设备。

背景技术

在便携式电话机、便携式信息终端等电子设备中，广泛采用液晶显示装置等电光装置。例如，作为用于显示有关电子设备的各种信息的显示装置，采用电光装置。所谓电光装置，认为是通过输入电，控制光学输出状态的装置，例如液晶显示装置、EL(Electro Luminescence)装置、等离子体显示装置、其它装置。

例如，在液晶显示装置中，在一对基板上形成电极，用这些电极夹持液晶层，控制外加给这些电极的电压，通过该电压控制，控制液晶层内的液晶分子的取向，通过该取向控制调制供给液晶层的光。在该液晶显示装置中，以往，为了固定保持液晶层的层厚，在一对基板间设置多个衬垫。此外，已知有，采用光刻蚀处理形成如此的衬垫的技术(例如，参照专利文献1)。

专利文献1：特开平6-265912号公报(第3页，图1)

但是，关于通过光刻蚀处理形成的衬垫(以下，称为光衬垫)，在该光衬垫的周边，容易产生液晶分子的取向不良，因该取向不良，发生光泄漏，有时显著降低液晶显示装置的显示质量。即使在液晶显示装置以外的电光装置中，如果设置光衬垫，在其周边，电光物质的物性就容易产生紊乱，因此有电光装置的光学特性产生紊乱的可能。

发明内容

本发明是鉴于以上的事实而提出的，其目的在于，通过设置光衬垫，即使在电光装置发生光学特性不良时，也不能从外部视觉辨认。

本发明的电光装置，其特征在于：具有，基板、形成在该基板上的电极、连接在所述电极上的开关元件、位于该电极及所述开关元件上的电光物质的层、限定所述电光物质的层的层厚的光衬垫、设在该光衬垫和所述基板之间的衬垫遮光膜；所述衬垫遮光膜，由与构成开关元件的多个要素中的至少1个要素相同的材料形成。

在本说明书中，所谓“电光物质”，是根据电条件的变化而变化光学特性的物质，认为具体是液晶显示装置所用的液晶、EL装置所用的EL、等离子体显示装置所用的气体等。此外，作为“开关元件”，考虑称为TFD(Thin Film Diode)等2端子型的开关元件，或TFT(Thin Film Transistor)等3端子型的开关元件等。

根据上述的电光装置，因设置光衬垫，在该光衬垫的周围，有发生电光物质的物性紊乱，例如液晶分子的取向不良，与该紊乱对应地发生光学紊乱，例如漏光的可能。但是，根据本发明，由于在光衬垫和基板之间设置衬垫遮光膜，因此通过用衬垫遮光膜遮光，不能从外部视觉辨认如此的光学紊乱。因此，可很好地维持电光装置的光学特性，例如液晶显示装置的显示质量。

此外，由于衬垫遮光膜，由与形成构成开关元件的多个要素中的至少1个要素的材料相同的材料形成，因此在形成衬垫遮光膜时，不需要设置特别的材料及专用的工序，因而可将材料成本及制造成本双方抑制在低水平。

接着，本发明的电光装置，可具有显示单位的多个显示点区域、和设在这些显示点区域间的点遮光区域。而且，在此种情况下，优选所述光衬垫设在所述显示点区域内。

一般，为了在点间遮光区域提高显示的对比度，有时形成所谓的黑色掩模。该黑色掩模的宽度非常窄，其表面也不一定平坦。如果与如此的黑色掩模对向地设置光衬垫，由于黑色掩模细，不平坦，所以难利用光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚，例如形成在单元间隙内的液晶层的层厚。另外，显示点区域与点间遮光区域相比平坦。因而，只要将光衬垫设置在该显示点区域内，就可均匀地保持液晶层的层厚等电光物质的层的层厚。

接着，本发明的电光装置，可具备夹着所述电光物质地配置在所述基板的相反侧的第2基板，该第2基板可具有重叠配置在所述点区域及所述点间遮光区域上的多个不同色的着色要素。而且，在此种情况下，优选，所述点间遮光区域，通过重叠所述不同色的着色要素而形成。例如，在作为着色要素，形成红色、绿色、蓝色3原色的要素的情况下，只要重合它们其中的至少2个色，就可形成作为遮光区域的黑色掩模。

但是，如此，如果通过着色材料的重叠结构，形成点间遮光区域，该点间遮光区域的宽度就变细，形成凹凸多的表面形状。如果与如此的点间遮光区域对向地设置光衬垫，利用光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚的功能就会不足。对此，如上所述，如果避开点间遮光区域，在显示点区域内设置光衬垫，由于显示点区域内平坦，所以可充分发挥利用光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚的功能。

接着，在本发明的电光装置中，所述不同色的着色要素的颜色可规定为3原色即蓝色、绿色、红色。而且，在此种情况下，优选，所述光衬垫，与蓝色的显示点区域对应地设置。蓝色与红色及绿色相比，是漏光等光学不良不明显的色。因此，如果相对于该蓝色设定光衬垫，假设即使在因设置光衬垫发生光学不良的情况下，也可将该不良抑制在最不明显的状态。

接着，在本发明的电光装置中，所述显示点区域，可具有透射光的点内透射区域、和反射光的点内反射区域。而且，在此种情况下，优选，所述光衬垫，设在所述点内反射区域。该结构的电光装置，是所谓半透射反射型的电光装置，由通过点内透射区域的光，得到透射型的显示，另外，通过在点内反射区域反射的光，得到反射型的显示。

点内反射区域是设置用于反射光的反射膜的区域，是比较平坦的区域。另外，由于点内透射区域是未设置反射膜的区域，因此相对于点内反射区域，是凹陷的区域。因而，假设如果与点内透射区域对应地设置光衬垫，因上述凹部的影响，有不能充分发挥光衬垫的间隔维持功能的可能。对此，如果与点内反射区域对应地设置光衬垫，由于其反射区域平坦，所以可通过光衬垫均匀地维持间隔。

接着，本发明的电光装置，还可具有树脂层，该树脂层与所述点内透射区域对应的厚度薄，与所述点内反射区域对应的厚度厚，与所述点内反射区域对应的表面平坦。而且，通过在所述树脂层上形成所述电光物质的层，与所述点内透射区域对应的所述电光物质的层的层厚，大于与所述点内反射区域对应的电光物质的层的层厚。

该结构，称为所谓的多间隙结构。一般，在点内透射区域中，反射膜反射的光2次通过电光物质。另外，在点内透射区域，通过该区域的光只1次通过电光物质。因而，如果规定点内反射区域中的电光物质的层的层厚与点内透射区域中的电光物质的层的层厚相同，就出现在反射区域颜色浓，在透射区域颜色浅的非优选的显示状态。可消除该现象的方法之一是多间隙结构，具体是，通过加厚与透射区域对应的电光物质的层的层厚，减小透射区域和反射区域之间的光路差，在透射显示时和反射显示时之间，进行均匀的显示。

在如此的多间隙结构的电光装置中，在点内透射区域形成用于加厚电光物质的层的层厚的凹部。因而，如果与该透射区域对应地设置光衬垫，因上述凹部的影响，有不能充分发挥利用光衬垫的间隔维持功能的可能。对此，如果与点内反射区域对应地设置光衬垫，由于该反射区域平坦，所以可通过光衬垫均匀地维持间隔。

接着，在本发明的电光装置中，所述开关元件，可形成由多层构成的叠层结构。而且，在此种情况下，优选，所述衬垫遮光膜，通过叠层与构成所述开关元件的所述叠层结构的至少2层相同的材料而形成。

此外，在本发明的电光装置中，所述开关元件，可是从所述基板侧依次具有钽/绝缘膜/铬的叠层结构的薄膜二极管。该二极管，是所谓TFD。而且，在此种情况下，优选，所述衬垫遮光膜，由钽或铬的单质形成，或从基板侧依次由钽/铬的叠层结构形成。如此，由于在TFD元件的形成工序，可同时形成衬垫遮光膜，所以在材料成本及制造成本双方都有利。

接着，在本发明的电光装置中，可将与所述基板的所述液晶层的相反侧的面规定为观察侧的面，而且，在此种情况下，优选，在该基板的观察侧的面上，从该基板侧依次设置相位差板及偏振板。如此，如果相对于衬垫遮光膜，设置相位差板及偏振板，如图6所示，在对偏振板14入射自然光L0时，从该自然光选择直线偏振L1，在该直线偏振L1通过相位差板13时，成为圆偏振L2。

该圆偏振L2，被衬垫遮光膜19反射，成为偏振方向不同的圆偏振L3，该圆偏振L3，再次通过相位差板13。此时，圆偏振L3成为不同偏振轴的直线偏振L4，该直线偏振L4再次入射在偏振板14。此时，由于偏振板14的透射轴设定在不透射直线偏振L4的方向，所以偏振L4不透射偏振板14。如此，形成从偏振板14的外部，不能视觉辨认衬垫遮光膜19的反射光的状态。即，按照本发明，在将衬垫遮光膜19设在光衬垫22上的情况下，如果再设置相位差板13及偏振板14，由于衬垫遮光膜19反射的反射光不向外部放光，所以在从外部观察电光装置时，可防止看见衬垫遮光膜19发光。而且，由此，通过设置光衬垫22及衬垫遮光膜19，可防止显示质量降低。

接着，本发明的电光装置，是在一对基板间夹持电光物质而成的电光装置，其特征在于，具有：电极，配置在一方的所述基板上，对所述电光物质外加电压；光衬垫，配置在该电极上，限定所述电光物质的层的层厚；衬垫遮光膜，设在该光衬垫和所述基板之间。

接着，本发明的电光装置的制造方法，其特征在于：具有，在基板上形成开关元件的工序、在所述基板上形成衬垫遮光膜的工序、以导电连接于所述开关元件的方式在所述基板上形成电极的工序、在所述衬垫遮光膜上形成限定电光物质的层的层厚的光衬垫的工序、以与所述电极重叠的方式，在所述基板上设置所述电光物质的层的工序；形成所述衬垫遮光膜的工序，用与形成构成所述开关元件的多个构成要素中的至少1个要素的工序相同的工序，采用相同的材料进行。

根据上述的电光装置的制造方法，可确实制造上述本发明的电光装置。此外，在采用光衬垫的一般的电光装置中，因设置光衬垫，在该光衬垫的周围，有发生电光物质的物性紊乱，例如液晶分子的取向不良，与该紊乱对应地发生光学紊乱，例如漏光的可能。但是，根据本发明，由于在光衬垫和基板之间设置衬垫遮光膜，因此通过用衬垫遮光膜遮光，从外部不能视觉辨认如此的光学紊乱。因此，根据本发明方法制造的电光装置，可很好地维持其光学特性，例如液晶显示装置的显示质量。

此外，由于衬垫遮光膜，用与形成构成所述开关元件的要素中的至少1个要素的材料相同的材料形成，因此在形成衬垫遮光膜时，不需要设置特别的材料及专用的工序，因而在材料成本及制造成本双方都有利。

接着，本发明的电光装置的制造方法，还可具有以填埋显示单位的多个显示点区域的方式，形成点间遮光区域的工序。而且，在此种情况下，优选，所述光衬垫设在所述显示点区域内。

一般，为了在点间遮光区域提高显示的对比度，有时形成所谓的黑色掩模。该黑色掩模的宽度非常窄，其表面也不一定平坦。如果与如此的黑色掩模对向地设置光衬垫，由于黑色掩模细，不平坦，所以难通过光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚，例如形成在单元间隙内的液晶层的层厚。另外，显示点区域与点间遮光区域相比平坦。因而，只要将光衬垫设置在该显示点区域内，就可均匀地保持液晶层的层厚等电光物质的层的层厚。

接着，本发明的电光装置的制造方法，还可具有夹着所述电光物质地，在所述基板的相反侧，形成多个不同色的着色要素的工序。而且，在此种情况下，优选，在形成所述点间遮光区域的工序中，通过重叠所述不同色的着色要素，形成所述点间遮光区域。例如，在作为着色要素，形成红色、绿色、蓝色3原色的要素的情况下，只要重合它们其中的至少2个色，就可形成作为遮光区域的黑色掩模。

但是，如此，如果通过着色材料的重叠结构，形成点间遮光区域，该点间遮光区域的宽度就变细，形成凹凸多的表面形状。如果与如此的点间遮光区域对向地设置光衬垫，利用光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚的功能就会不足。对此，如上所述，如果避开点间遮光区域，在显示点区域内设置光衬垫，由于显示点区域内平坦，所以可充分发挥利用光衬垫均匀地维持电光物质的层的层厚的功能。

接着，在本发明的电光装置的制造方法中，形成开关元件的工序，可具有：在基板上形成第1金属的工序、在所述第1金属上形成绝缘膜的工序、在所述绝缘膜上形成第2金属的工序。而且，在此种情况下，优选，形成所述衬垫遮光膜的工序，与形成所述第1金属的工序或形成所述第2金属的工序同时，采用相同的材料进行。第1金属，例如可规定为钽。此外，第2金属，例如可规定为铬。如此，如果与开关元件的部分形成工序同时地形成衬垫遮光膜，由于可在开关元件的形状工序同时形成衬垫遮光膜，所以可将材料成本及制造成本双方抑制在低成本。

接着，本发明的电光装置的制造方法，是在一对基板间夹持电光物质而成的电光装置的制造方法，其特征在于，具有：在所述基板上形成衬垫遮光膜的工序；与所述衬垫遮光膜平面重叠地形成对所述电光物质外加电压的电极的工序；在所述衬垫遮光膜上形成限定电光物质的层的层厚的光衬垫的工序；以与所述电极重叠的方式，在所述基板上设置所述电光物质的层的工序。

接着，本发明的电子设备，其特征在于：具有以上所述构成的电光装置。作为如此的电子设备，可考虑便携式电话机、便携式信息终端等。根据本发明的电光装置，由于在光衬垫和基板之间设置衬垫遮光膜，因此可形成通过衬垫遮光膜的作用，不能从外部视觉辨认，因存在光衬垫而发生的紊乱的状态。因此，可很好地维持电光装置的光学特性，例如液晶显示装置的显示质量。因此，即使在采用该电光装置构成的本发明的电子设备中，也可使电光装置的光学特性维持良好的状态。

附图说明

图1是表示本发明的电光装置的一实施方式的立体图。

图2是图1的箭头P所示的像素部分的剖面图。

图3是根据图2的B-B线的平面图。

图4是表示一例TFD元件的立体图。

图5是表示图1所示的电光装置的等效电路的图示。

图6是说明衬垫遮光膜的光学特性的图示。

图7是表示本发明的电光装置的制造方法一实施方式的工序图。

图8是表示本发明的电光装置的另一实施方式的主要部位的剖面图。

图9是根据图8的C-C线的平面图。

图10是表示一例TFT元件的剖面图。

图11是表示图8所示的电光装置的等效电路的图示。

图12是表示本发明的电光装置的制造方法另一实施方式的工序图。

图13是表示本发明的电子设备的一实施方式的块图。

图14是表示本发明的电子设备的其它实施方式的立体图。

图中：1-液晶显示装置(电光装置)，2-液晶面板(电光面板)，3-驱动用IC，4-照明装置，6-FPC，7-LED，8-导光体，8a-光入射面，8b-光出射面，9a-元件基板，9b-滤色器基板，11-密封材，12a-第1透光性基板，12b-第2透光性基板，13a、13b-相位差板，14a、14b-偏振板，16-液晶层，17-行布线，17’-数据线，18-TFD(开关元件)，18a-第1TFD要素，18b-第2TFD要素，19-衬垫遮光膜，21-点电极，22-光衬垫，23a、23b-取向膜，26-第1金属，27-绝缘膜，28-第2金属，29-伸出部，31-树脂层，32-反射膜，33-着色要素，34-覆盖层，36-电极，36’-扫描线，37-凹部，41-液晶显示装置(电光装置)，51-栅电极，51’-栅电极线，51”-扫描线，52-栅绝缘膜，53-半导体层，54-源电极，54’-源电极线，54”-数据线，56-漏电极，58-TFT元件(开关元件)，80-便携式电话机(电子设备)，D-显示点区域，G-单元间隙，K-开口，P-像素部分，R-点内反射区域，T-点内透射区域，V-有效显示区域，S-点间遮光区域。

具体实施方式

(电光装置的第1实施方式)

以下，以一例液晶显示装置为例，说明本发明的电光装置。另外，本发明当然不局限于该实施方式。此外，在以下的说明中，参照附图说明，但是为了便于理解附图中的特征部分，在多个要素间，尺寸比与实际的尺寸比不同，需注意。

图1表示本发明的电光装置的一实施方式的液晶显示装置。该液晶显示装置，是作为开关元件，采用2端子型的非线形元件即TFD元件的有源矩阵方式的液晶显示装置。图2表示图1的箭头P所示的像素部分的剖面结构。此外，图3表示根据图2的B-B线的平面结构。

在图1中，作为电光装置的液晶显示装置1，具有作为电光面板的液晶面板2、组装在液晶面板2上的驱动用IC3、附设在该液晶面板2上的照明装置4、作为与该液晶面板2的边缘端连接的布线基板的FPC(FlexiblePrinted Circuit，柔性印刷电路)6。该液晶显示装置1，箭头A所示的侧是观察侧。照明装置4，具有作为光源的LED(Light Emitting Diode)7、向内部导入来自LED7的光并作为面状的光向液晶面板2出射的导光体8。照明装置4，从箭头A所示的观察方向看，配置在液晶面板2的背侧，具有作为背光照明的作用。

液晶面板2，通过利用正方形或长方形框状的密封材11，贴合元件基板9a和滤色器基板9b而形成。在元件基板9a和滤色器基板9b之间，如图2所示，形成间隙即单元间隙G，在该单元间隙G内封入液晶，形成液晶层16。作为液晶，可采用TN(Twisted Nematic，扭曲向列)液晶。

在图1中，元件基板9a，附带具有透光性的第1基板12a，在该第1基板12a的外侧的表面上，通过粘贴等安装相位差板13a，然后在其上面，通过粘贴等安装偏振板14a。另外，滤色器基板9b，附带具有透光性的第2基板12b，在该第2基板12b的外侧的表面上，通过粘贴等安装相位差板13b，然后在其上面，通过粘贴等安装偏振板14b。第1透光性基板12a及第2透光性基板12b，由玻璃、塑料等形成。

在第1透光性基板12a的内侧表面，即液晶侧表面上，如图2所示，形成具有作为数据线的功能的行布线17、作为开关元件的TFD(Thin FilmDiode)元件18、衬垫遮光膜19、点电极21、光衬垫22、取向膜23a。取向膜23a，例如由聚酰亚胺形成，对其表面实施研磨处理。通过该研磨处理，确定元件基板9a附近的液晶分子的初期取向。

行布线17，如图4所示，通过叠层第1层17a、第2层17b及第3层17c而形成。此外，TFD元件18，具有相互串联连接的第1 TFD要素18a及第2 TFD要素18b。上述TFD要素18a及18b，分别具有第1金属26、绝缘膜27及第2金属28。

TFD元件18的第1金属26及行布线17的第1层17a，例如由钽(Ta)形成。此外，TFD元件18的绝缘膜27及行布线17的第2层17b，例如是通过阳极氧化处理形成的氧化膜。此外，TFD元件18的第2金属28及行布线17的第3层17c，例如由铬(Cr)形成。

第1 TFD元件18a的第2金属28，由与行布线17的第3层17c相同的材料形成。此外，点电极21，以与第2 TFD元件18b的第2金属28导电连接的方式，形成在基板12a上。点电极21，例如由ITO(Indium TinOxide，氧化铟锡)等金属氧化物形成。

图2的衬垫遮光膜19，如图3所示，形成在形成点电极21的区域内。然后，在位于与该衬垫遮光膜19重叠的区域上的点电极21的上面，形成光衬垫22。光衬垫22，以单元间隙G的间隔，即液晶层16的层厚在液晶面板2的整面上固定的方式，发挥作用。衬垫遮光膜19及光衬垫22，都形成大致菱形的断面形状。此外，衬垫遮光膜19的面积，形成大于光衬垫22的底面的面积。光衬垫22，例如由负型的感光性树脂、例如负型的抗蚀剂材料形成。

此外，衬垫遮光膜19，通过构成图4的TFD元件18的要素即第1金属26或第2金属28中的任何一个，或第1金属26或第2金属28的叠层结构形成。例如，如果用钽形成第1金属，用铬形成第2金属，可由钽单质、铬单质、或钽/铬的叠层结构中的任何一种形成衬垫遮光膜19。

在图2中，在构成滤色器基板9b的第2透光性基板12b的内侧表面，即液晶侧表面上，形成树脂层31，在其上面形成反射膜32，在反射膜32上形成着色要素33，在其上面，形成树脂层即覆盖层34，在其上面形成多个带状电极36，然后在其上面形成取向膜23b。取向膜23b，例如由聚酰亚胺形成，对其表面实施研磨处理。通过该研磨处理，确定滤色器基板9b附近的液晶分子的初期取向。

多个带状电极36的每根，向图2的纸面垂直方向，即图3的纸面上下方向，即与行布线17成直角的方向延伸。此外，多个带状电极36，朝图2的左右方向，按一定的间隔，相互平行地排列。由此，多个带状电极36，从箭头A方向看形成条带状。如图3所示，平面重合条带状排列的带状电极36和点矩阵状排列的点电极21。该重合的多个区域D构成显示单位的显示点区域。而且，这些多个显示点区域D，在图1中，在由符号V所示的区域内，排列成点矩阵状。该区域V是液晶显示装置1的有效显示区域，在该有效显示区域V内，显示文字、数字、图形等图像。

在图2中，在树脂层31的表面上形成凹凸形状。因此，叠层在树脂层31上的反射膜32的表面也形成凹凸形状。反射膜32，例如由光反射性材料，例如铝(Al)形成，反射从箭头A方向入射的光。通过在反射膜32的表面设置凹凸形状，该反射膜32反射的光成为散光。

反射膜32，在各个显示点区域D内具有开口K。设置开口K的区域是点内透射区域T，设置反射膜32的区域是点内反射区域R。在反射区域R，用反射膜32反射从箭头A方向所示的观察侧入射的光L5，供给液晶层16。另外，在透射区域T，从照明装置4出射的光L6，通过开口K，供给液晶层16。

形成在反射膜32上的着色要素33，与各个显示点区域D对应地设置多个。而且，各个着色要素33，作为能使3原色即蓝色(B)、绿色(G)、红色(R)的3色中的任何一色的光通过的滤色器形成。通过这些各色的着色要素33的汇总，形成滤色器。作为不同色的多个着色要素33的平面的排列方法，以往提出了多种方法，但在本实施方式中，如图3所示，采用，在行布线17即数据线的延伸方向，排列B、G、R的同色，在带状电极36即扫描方向的延伸方向，按每个显示点区域D依次排列B、G、R的各色的排列，即条纹排列。条纹排列以外的排列，例如也可采用三角形排列、镶嵌排列等。

多个显示用点区域D间的区域为格子形状的区域S。该区域S，是为提高显示的对比度而成为遮光区域的区域。在本说明书中，将该遮光区域称为点间遮光区域。点间遮光区域S，如图2所示，通过重叠不同的3色的着色要素33而形成。在本实施方式中，规定在滤色器的形成时，按蓝色、绿色、红色的顺序，形成各着色要素33。因而，点间遮光区域S上的着色要素33的叠层结构，从第2基板12b看，是蓝色、绿色、红色的顺序。另外，点间遮光区域S内的叠层结构，不局限于3色重叠结构，也可以是蓝色、绿色、红色的3色中的任何2色组合。

形成在各色的着色要素33上的覆盖层34，用于将形成带状电极23b的面形成光滑的平面，防止在带状电极23b发生断线。在本实施方式中，关于该覆盖层34，与显示点区域D内的透射区域T对应地形成凹部37。因而，在单元间隙G，在透射区域T处，形成与凹部37对应的凹陷。因此，液晶层16的厚度，在透射区域T加厚，在反射区域R减薄。另外，在本实施方式中，在凹部37上，形成完全无覆盖层34的状态，但也可以在凹部37形成比反射区域R的部分薄的覆盖层34。在此种情况下，也可将液晶层16的层厚形成，在透射区域T加厚，在反射区域R减薄的状态。

由图2可以看出，反射区域R反射的光L5，2次通过液晶层16。另外，通过透射区域T的光L6只1次通过液晶层16。因而，假设如果在透射区域T和反射区域R之间，液晶层16的层厚相同，在这些区域间，色的外观出现不同，降低彩色显示质量。对此，如本实施方式，如果加厚透射区域T的液晶层厚度，减薄反射区域R的液晶层厚度，就可使两区域间的色的外观均等。有时将如此在透射区域T和反射区域R间，液晶层16的层厚具有厚度差的结构，称为多间隙结构。

设在元件基板9a上的多个光衬垫22，对于与各个衬垫遮光膜19对应的区域，概述为形成于各个点电极21上。这些光衬垫22，通过经由取向膜23a及23b，与对方侧的基板9b接触，具有固定维持单元间隙G的间隔的功能。这些光衬垫22，避开点间遮光区域S设置于显示点区域D内。另外，光衬垫22避开凹陷的透射区域T地设在反射区域R内。

点间遮光区域S是窄的、在其表面容易产生凹凸的区域。对此，显示点区域D，其表面平坦。因而，如果不是在点间遮光区域S而与显示点区域D对应地形成光衬垫22，就可利用光衬垫22良好地发挥相对于单元间隙G的间隔维持功能，从而可发挥相对于液晶层16的层厚度的厚度维持功能。

此外，如本实施方式，在采用多间隙结构的情况下，在各个显示点区域D内，在与透射区域T对应的部分产生凹陷。因此，假设，如果在与透射区域T对应的部分上形成光衬垫22，认为，因上述的凹陷的影响，难通过光衬垫将单元间隙G保持为固定。对此，如本实施方式，如果避开凹陷的透射区域T地在反射区域R内设置光衬垫22，由于反射区域R是平坦的，因此可通过光衬垫22，非常准确地将单元间隙G保持在固定的间隔。

另外，图3表示与蓝色(B)、绿色(G)、红色(R)的各色的显示点区域D对应地形成光衬垫22，但是也可代之，采用只与蓝色、绿色、红色3色中的蓝色对应地设置光衬垫22，在其它2色的地方不设置光衬垫22的构成。

图5表示图1的液晶显示装置1的电的等效电路。在图5中，以在行方向X延伸的方式形成多根扫描线36’，另外，以在列方向Y延伸的方式形成多根数据线17’。扫描线36’可通过图3的带状电极36实现，数据线17’可通过图3的线路配线17实现。显示用点区域D形成在扫描线36’和数据线17’的各交叉部分上。在各显示用点区域D中，串联连接液晶层16和TFD元件18。

在本实施方式中，液晶层16连接在扫描线36’侧，TFD元件18连接在数据线17’侧。各扫描线36’，由扫描线驱动电路3a驱动。另外，各数据线17’，由数据线驱动电路3b驱动。扫描线驱动电路3a及数据线驱动电路3b，由图1的驱动用IC3构成。驱动用IC3，也可以通过共用的IC提供两驱动电路3a及3b，或者，将两驱动电路3a及3b分配给个别的IC。

根据如上构成的液晶显示装置1，在图1中，在液晶显示装置1放置在明亮的室外或明亮的室内的时候，采用太阳光或室内光等外部光，进行反射型的显示。另外，在液晶显示装置1放置在暗的室外或暗的室内的时候，作为背光照明，采用照明装置4进行透射型的显示。

在进行反射型显示的时候，在图2中，从观察侧A的方向，通过元件基板9a，入射在液晶面板2内的外部光L5，在通过液晶层16，进入滤色器基板9b内后，在反射部R中用反射膜32反射，再次供给液晶层16。另外，在进行透射型显示的情况下，点亮图1的照明装置4的LED7，将其所发光从导光体8的光入射面8a导入导光体8，然后，从光出射面8b，作为面状的光出射。该出射光如图2中符号L6所示，在透射部T，通过开口部K供给液晶层16。

在如此向液晶层16供给光的期间，在元件基板9a侧的点电极21和滤色器基板9b侧的带状电极36之间，向由扫描信号及数据信号特定的显示用点区域D，外加规定的电压，由此，在TN结构和垂直取向之间，按每个显示用点区域D，控制液晶层16内的液晶分子的取向，结果，按每个显示用点区域D调制供给液晶层16的光。该调制的光，在通过元件基板9a侧的偏振板14a(参照图1)时，根据该偏振板14a的偏振特性，按每个显示用点区域D允许通过或阻止通过，由此在元件基板9a的表面，显示文字、数字、图形等图像，这可从箭头A方向视觉辨认。

在以上说明的液晶显示装置1中，因设置光衬垫22，有在该光衬垫22的周围发生液晶分子的取向不良的可能，与此对应，有向箭头A所示的观察侧发生漏光的可能。但是，根据本实施方式，由于在光衬垫22和第1透光性基板12a之间设置衬垫遮光膜19，因此如此的漏光被衬垫遮光膜19遮光，不能从外部视觉辨认。从而，可良好地维持液晶显示装置1的显示质量。

此外，衬垫遮光膜19，通过构成开关元件即TFD元件18的要素中的至少一个要素，具体是构成图4的TFD元件18的要素即第1金属26或第2金属28中的任何一种，或第1金属26和第2金属28的叠层结构而形成。因此在形成衬垫遮光膜19时，不需要设置特别的材料及专用的工序，因而可将材料成本及制造成本双方抑制在低成本。

在本实施方式中，为了在点间遮光区域S提高显示的对比度，形成重叠B、G、R3色的着色要素33而成的黑色掩模。该黑色掩模的宽度非常窄，其表面也不一定平坦。如果与如此的黑色掩模对向地设置光衬垫22，由于黑色掩模细，不平坦，所以难通过光衬垫22均匀地维持液晶层的层厚。对此，在本实施方式中，在显示点区域D内设置光衬垫22。由于该显示点区域D与点间遮光区域S相比平坦，因此光衬垫22可在液晶面板2的整面上均匀地保持液晶层16的层厚度。

如上所述，在本实施方式中，通过重叠不同的着色要素33，在点间遮光区域S内形成黑色掩模。如此，如果通过着色材料的重叠结构，形成点间遮光区域S，该点间遮光区域S的宽度就变细，形成凹凸多的表面形状。假设，如果与如此的点间遮光区域S对向地设置光衬垫22，就会有利用光衬垫22均匀地维持液晶层16的层厚的功能不足的可能。对此，如本实施方式，如果避开点间遮光区域S，在显示点区域D内设置光衬垫22，由于显示点区域D内平坦，所以可充分发挥利用光衬垫22均匀地维持液晶层16的层厚度的功能。

另外，在图3所示的实施方式中，与各个含有蓝色、绿色、红色3色的着色要素33的全部显示点区域D对应地，设置光衬垫22，但是也可代之，只与蓝色的显示点区域D对应地设置光衬垫22。蓝色，与红色及绿色相比，是漏光等光学不良不明显的色。因而，相对于该蓝色，只要设置光衬垫22，假设即使在通过设置光衬垫22，在液晶层16发生取向不良的情况下，也可将该不良抑制在最不明显的状态。

本实施方式的液晶显示装置1，是半透射反射型的液晶显示装置。即，显示点区域D，具有透射光的点内透射区域T、和反射光的点内反射区域R。在此条件下，光衬垫22设在点内反射区域R上。点内反射区域R是设置用于反射光的反射膜32的区域，是比较平坦的区域。另外，由于点内透射区域T是不设置反射膜32的区域，因此是相对于点内反射区域32凹下的区域。因而，假设如果与点内透射区域T对应地设置光衬垫22，因上述凹下的影响，有不能充分发挥光衬垫22的间隔维持功能的可能。对此，如果与点内反射区域R对应地设置光衬垫22，由于其反射区域R平坦，所以可通过光衬垫22均匀地维持间隔。

本实施方式的液晶显示装置1，是具有所谓多间隙结构的液晶显示装置。即，与点内透射区域T对应的液晶层16的层厚度，设定成大于与点内反射区域R对应的液晶层16的层厚度。在如此的多间隙结构的液晶显示装置1中，在点内透射区域T，形成用于加厚液晶层16的层厚度的凹部。因而，如果与该点内透射区域T对应地设置光衬垫22，因上述凹下的影响，有不能充分发挥光衬垫22的间隔维持功能的可能。对此，如果与点内反射区域R对应地设置光衬垫22，由于其反射区域R平坦，所以可通过光衬垫22均匀地维持液晶层16的层厚度，即可均匀维持单元间隙G的间隔。

在本实施方式中，与元件基板9a的液晶层16的相反侧的面是观察侧的面。在该观察侧的面上，如图1所示，设置相位差板13a及偏振板14a。如此，如果相对于衬垫遮光膜19(参照图2)，设置相位差板13a及偏振板14a，如参照图6的说明，由于衬垫遮光膜19的反射光，被偏振板14阻止其前进，因此形成不能从偏振板14的外侧视觉辨认该反射光的状态。即，在本实施方式中，在光衬垫22处设置衬垫遮光膜19的情况下，如果再设置相位差板13及偏振板14，由于衬垫遮光膜19反射的反射光不向外部放光，因此在从外部观察液晶显示装置1时，可防止看见衬垫遮光膜发光。由此，通过设置光衬垫22及衬垫遮光膜19，可防止液晶显示装置1的显示质量降低。

(电光装置的第2实施方式)

以下，说明本发明的电光装置的其它实施方式。另外，本发明当然不局限于该实施方式。此外，在以下的说明中，参照附图说明，但是为了便于理解附图中的特征部分，在多个要素间，尺寸比与实际的尺寸比不同，需注意。

现在说明的实施方式，是作为开关元件采用3端子型的有源元件即TFT元件的有源矩阵方式的液晶显示装置。该液晶显示装置的外观形状与图1所示的相同。但是，本实施方式的液晶显示装置，规定由符号41表示。图8是表示图1中箭头P所示像素部分的断面结构。图9表示根据图8的C-C线的平面结构。

在表示本实施方式的液晶显示装置41的主要部分的图8及图9中，对于与在前面的实施方式的说明中采用的图2及图3所示的要素相同的要素，采用相同的符号表示，并省略它们的说明。图8及图9所示的本实施方式与图2等所示的前述的实施方式的大的不同点在于，作为开关元件，代替TFD元件18(参照图2及图3)，设置TFT元件58。

本实施方式所用的TFT元件58是非晶硅TFT，该TFT元件58，如图10所示，具有栅电极51、栅绝缘膜52、由a-Si(非晶硅)等形成的半导体层53、源电极54及漏电极56。漏电极56，其一端连接在半导体层53上，其另一端连接在点电极21上。源电极54，作为向图10的纸面垂直方向延伸的源电极线54′的一部分形成。此外，栅电极51从栅电极线51′延伸，该栅电极线51′向与源电极线54′成直角的方向即图10的左右方向延伸。

在采用TFT元件58的本实施方式中，在图8中，形成在滤色器基板9b上的电极36，不是带状电极，是设在基板12b的整面上的共用电极。此外，在元件基板9a上，如图9所示，源电极线54′及栅电极线51′，以相互成直角地延伸的方式形成。而且，在这些电极线的各交叉部分，形成TFT元件58。

即使在本实施方式中，单元间隙G的间隔即液晶层16的层厚度，由光衬垫22保持。此外，在光衬垫22的根基部分和第1基板12a之间，形成衬垫遮光膜19。利用该衬垫遮光膜19的作用，防止有在光衬垫22的周边发生的可能的漏光。衬垫遮光膜19，由与构成TFT元件58的上述各要素中的任何一种或2种或以上相同的材料，用相同工序形成。由此，在设置衬垫遮光膜19时，可防止增加材料成本或制造成本。

图11表示图8的液晶显示装置41的电的等效电路。在图11中，以向行方向X延伸的方式形成多根扫描线51″。另外，以在列方向Y延伸的方式形成多根数据线54″。扫描线51″可通过图9的栅电极线51′实现，数据线54″可通过图9的源电极54′实现。显示用点区域D，形成在扫描线51″和数据线54″的各交叉部分。在各显示用点区域D中，串联连接TFD元件58和点电极21。各扫描线51″，由扫描线驱动电路3a驱动。另外，各数据线54″，由数据线驱动电路3b驱动。扫描线驱动电路3a及数据线驱动电路3b，由图1的驱动用IC3构成。驱动用IC3，也可以通过共用的IC提供两驱动电路3a及3b，或者，将两驱动电路3a及3b分配给个别的IC。

扫描信号传送给TFT元件58的栅极，数据信号传送给TFT元件58的源极。如果TFT元件58形成ON(导通)状态，就形成向对应的点电极21的通电，进行向对应的显示用点区域D内的液晶的写入。此外，然后，如果TFT元件58形成OFF(截止)状态，就保持写入的状态。通过该一连串的写入动作及保持动作，在TN结构和垂直取向之间控制液晶分子。

即使在根据本实施方式的液晶显示装置41中，如图8所示，通过在光衬垫22的根基部分设置衬垫遮光膜19，也可得到与图2所示的前面的实施方式时相同的效果。即，虽有在光衬垫22的周边，因液晶分子的取向不良发生漏光的可能，但通过衬垫遮光膜19的作用，可防止在外部视觉辨认如此的漏光。

此外，由于衬垫遮光膜19，通过构成开关元件即TFT元件58的要素中的至少1个要素形成，因此在形成衬垫遮光膜19时，不需要设置特别的材料及专用的工序，因而在材料成本及制造成本双方都有利。

(电光装置的制造方法的第1实施方式)

以下，以制造采用图1所示的TFD元件的液晶显示装置1时为例，说明本发明的电光装置的制造方法。图7表示该制造方法的一实施方式。图7的工序P1～工序P6的工序，是形成图1的元件基板9a的工序。工序P11～工序P17的工序，是形成图1的滤色器基板9b的工序。此外，工序P21～工序P28的工序，是贴合这些基板，形成制品即液晶显示装置的工序。

另外，在本实施方式中，不是逐个形成图1所示的元件基板9a及滤色器基板9b，关于元件基板9a，规定为在具有可形成多个元件基板9a的尺寸面积的元件基板用母透光性基板上，同时形成元件基板9a的多个量的膜要素等。此外，关于滤色器基板9b，规定为在具有可形成多个滤色器基板9b的尺寸面积的滤色器基板用母透光性基板上，同时形成滤色器基板9b的多个量的膜要素等。

首先，在图7的工序P1中，准备大面积的元件基板用母透光性基板。该母透光性基板，由具有透光性的玻璃、塑料等形成。在该母透光性基板的表面上，形成图4的TFD元件18及行布线17。具体是，在图4中，以钽作为材料，通过光刻蚀处理，将行布线17的第1层17a及TFD元件18的第1金属26，形成规定的形状。接着，通过阳极氧化处理，以分别覆盖第1层17a及第1金属26的方式，形成行布线17的第2层17b及TFD元件18的绝缘层27。接着，以铬作为材料，通过光刻蚀处理，以分别覆盖第2层17b及绝缘层27的方式，形成行布线17的第3层17c及TFD元件18的第2金属28。

此外，在该TFD元件的形成工序中，同时形成图2的衬垫遮光膜19。例如，与TFD元件18的第1金属26同样，由钽的单层，或与第2金属28相同的铬的单层，或钽和铬的叠层结构，形成衬垫遮光膜19。接着，在工序P2中，以重叠在图4的TFD元件18的第2TFD要素18b的第2金属28的方式，以ITO作为材料，通过光刻蚀处理，将点电极21形成规定的形状。

接着，在工序P3中，以感光性树脂，例如负抗蚀剂材作为材料，通过光刻蚀处理，按规定的形状，将图2的光衬垫22形成在规定的位置上。接着，在工序P4中，以聚酰亚胺等感光性树脂为材料，通过光刻蚀处理，形成图2的取向膜23a。然后，在工序P5中，对该取向膜23a实施研磨处理，付与取向性。接着，在工序P6中，以环氧系树脂作为材料，通过印刷等形成图1的密封材11。由此，在大面积的元件用母基板上形成元件基板9a的多个量的膜要素，形成元件基板9a侧的大面积的母元件基板。

另外，在图7的工序P11中，准备大面积的滤色器基板用母透光性基板。该母透光性基板，也由具有透光性的玻璃、塑料等形成。在该母透光性基板的表面上，形成图2的树脂层31。此外，在树脂层31的表面上形成凹凸形状。接着，在工序P12中，以Al或Al合金等为材料，通过光刻蚀处理，形成图2的反射膜32。此时，按每个显示用点区域D，形成开口K。

接着，在工序P13中，以按蓝色(B)、绿色(G)、红色(R)的顺序，成为规定的图形，例如条纹排列的方式，形成图2的着色要素33，制成滤色器。这些着色要素33，例如通过利用光刻蚀处理，图案形成在感光性树脂中分散各色颜料或染料而成的着色材料，而形成。另外，在制作滤色器时，通过在图2的点间遮光区域S重叠不同色的多个着色要素33，形成遮光材料，即黑色掩模。

然后，在工序P14中，在黑色掩模及着色要素33上，以丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂等感光性树脂作为材料，通过光刻蚀处理，形成覆盖层34。接着，在工序P15中，以ITO作为材料，通过光刻蚀处理，形成图2的带状电极36。然后，在工序P16中，以聚酰亚胺树脂等感光性树脂作为材料，通过光刻蚀处理，形成取向膜23b，另外，在工序P17中，对该取向膜23b，进行作为取向处理的研磨处理。由此，在大面积的滤色器基板用母透光性基板上，形成滤色器基板9b的多个量的膜要素等，形成滤色器基板9b侧的大面积的母滤色器。

由此，如果形成2个母基板，即母元件基板和母滤色器基板，然后，在图7的工序P21中，定位即位置对合上述双方的母基板，并贴合两者。接着，在工序P22中，通过加热或紫外线照射，硬化图1的密封材11，粘接两母基板。由此，形成包含多个图1的液晶面板2即未封装液晶的状态的液晶面板2的状态的大面积的面板结构体。

接着，在工序P23中，对上述大面积的面板结构体，进行第1次切断，即进行1次断开，形成多个以1列排列的状态含有多个图1的液晶面板2的中型面积的面板结构体，即长方状的面板结构体。在密封材11上，预先在其适当处形成开口，如果通过上述1次断开，形成长方状的面板结构体，该密封材11的开口就向外部露出。接着，在工序P24中，通过上述密封材11的开口，向各液晶面板部分的内部注入液晶，在本实施方式时注入TN液晶。在该注入结束后，用树脂封堵密封材的开口。

接着，在工序P25中，进行第2次切断，即进行2次断开，从长方状的面板结构体，切出图1所示的各个液晶面板2。接着，在工序P26中，将图1的驱动用IC3安装在元件基板9a的伸出部29上。接着，在工序P27中，在元件基板9a和滤色器基板9b的外侧的表面上，粘贴相位差板13a、13b及偏振板14a、14b。接着，在工序P28中，在液晶面板2上安装照明装置4。由此，完成TFD型的液晶显示装置1。

根据以上说明的液晶显示装置的制造方法，如图2所示，确实可制造具有光衬垫22及衬垫遮光膜19的液晶显示装置1。此外，由于衬垫遮光膜19，用与构成TFD元件18的构成要素相同的工序，由相同的材料形成，因而可将材料成本及制造成本双方抑制在低成本。

(电光装置的制造方法的第2实施方式)

以下，以制造采用图1所示的TFT元件的液晶显示装置41时为例，说明本发明的电光装置的制造方法的其它实施方式。图12表示该制造方法的一实施方式。图12的工序P31～工序P36的工序，是形成图1的元件基板9a的工序。此外，工序P41～工序P47的工序，是形成图1的滤色器基板9b的工序。此外，工序P51～工序P58的工序，是贴合这些基板，形成制品即液晶显示装置的工序。

另外，在本实施方式中，不是逐个形成图1所示的元件基板9a及滤色器基板9b，关于元件基板9a，规定为在具有可形成多个元件基板9a的尺寸面积的元件基板用母透光性基板上，同时形成元件基板9a的多个量的膜要素等。此外，关于滤色器基板9b，规定为在具有可形成多个滤色器基板9b的尺寸面积的滤色器基板用母透光性基板上，同时形成滤色器基板9b的多个量的膜要素等。

首先，在图12的工序P31中，准备大面积的元件基板用母透光性基板。该母透光性基板，由具有透光性的玻璃、塑料等形成。在该母透光性基板的表面上，采用光刻蚀处理等，以规定的叠层结构，形成图10的TFT元件58。此外，同时，形成图9的栅电极线51′及源电极线54′。此外，在该TFT元件的形成工序中，同时形成图8的衬垫遮光膜19。例如，通过源电极54及漏电极56的任何一种或几个组合，形成衬垫遮光膜19。

接着，在工序P32中，以重叠在图10的TFT元件58的漏电极56的方式，以ITO作为材料，通过光刻蚀处理，将点电极21形成规定的形状。接着，在工序P33中，以感光性树脂，例如负抗蚀剂材作为材料，通过光刻蚀处理，按规定的形状，将图10的光衬垫22形成在规定的位置上。接着，在工序P34中，以聚酰亚胺等感光性树脂为材料，通过光刻蚀处理，形成图10的取向膜23a。然后，在工序P35中，对该取向膜23a实施研磨处理，付与取向性。接着，在工序P36中，以环氧系树脂作为材料，通过印刷等形成图1的密封材11。由此，在大面积的元件基板用透光性母基板上形成元件基板9a的多个量的膜要素，形成元件基板9a侧的大面积的母元件基板。

另外，在图12的工序P14中，准备大面积的滤色器基板用母透光性基板。该母透光性基板，也由具有透光性的玻璃、塑料等形成。在该母透光性基板的表面上，形成图8的树脂层31。此外，在树脂层31的表面上形成凹凸形状。接着，在工序P12中，以Al或Al合金等为材料，通过光刻蚀处理，形成图2的反射膜32。此时，按每个显示用点区域D，形成开口K。

接着，在工序P43中，以按蓝色(B)、绿色(G)、红色(R)的顺序，成为规定的图形，例如条纹排列的方式，形成图8的着色要素33，制成滤色器。这些着色要素33，例如可通过利用光刻蚀处理，图案形成在感光性树脂中分散各色颜料或染料而成的着色材料，而形成。另外，在制作滤色器时，通过在图8的点间遮光区域S重叠不同色的多个着色要素33，形成遮光材料，即黑色掩模。

然后，在工序P44中，在黑色掩模及着色要素33上，以丙烯酸类树脂、聚酰亚胺树脂等感光性树脂作为材料，通过光刻蚀处理，形成覆盖层34。接着，在工序P45中，以ITO作为材料，通过光刻蚀处理，形成图8的共用电极36。然后，在工序P46中，以聚酰亚胺树脂等感光性树脂作为材料，通过光刻蚀处理，形成取向膜23b，另外，在工序P47中，对该取向膜23b，进行作为取向处理的研磨处理。由此，在大面积的滤色器基板用母透光性基板上形成滤色器基板9b的多个量的膜要素等，形成滤色器基板9b侧的大面积的母滤色器基板。

由此，如果形成2个母基板，即母元件基板和母滤色器基板，然后，在图12的工序P51中，定位即位置对合上述双方的母基板，并贴合两者。接着，在工序P52中，通过加热或紫外线照射，硬化图1的密封材11，粘接两母基板。由此，形成包含多个图1的液晶面板2即未封装液晶的状态的液晶面板2的状态的大面积的面板结构体。

接着，在工序P53中，对上述大面积的面板结构体，进行第1次切断，即进行1次断开，形成多个以1列排列的状态含有多个图1的液晶面板2的中型面积的面板结构体，即长方状的面板结构体。在密封材11上，预先在其适当处形成开口，如果通过上述1次断开，形成长方状的面板结构体，该密封材11的开口就向外部露出。接着，在工序P54中，通过上述密封材11的开口，向各液晶面板部分的内部注入液晶，在本实施方式时注入TN液晶。在该注入结束后，用树脂封堵密封材的开口。

接着，在工序P55中，进行第2次切断，即进行2次断开，从长方状的面板结构体，切出图1所示的各个液晶面板2。接着，在工序P56中，将图1的驱动用IC3安装在元件基板9a的伸出部29上。接着，在工序P57中，在元件基板9a和滤色器基板9b的外侧的表面上，粘贴相位差板13a、13b及偏振板14a、14b。接着，在工序P58中，在液晶面板2上安装照明装置4。由此，完成TFT型的液晶显示装置41。

根据以上说明的液晶显示装置的制造方法，如图8所示，确实可制造具有光衬垫22及衬垫遮光膜19的液晶显示装置41。此外，由于衬垫遮光膜19，用与构成TFT元件58的构成要素相同的工序，由相同的材料形成，因而可将材料成本及制造成本双方抑制在低成本。

(电光装置及其制造方法的其它实施方式)

以上，以优选的实施方式为例，说明了本发明的电光装置及其制造方法，但本发明并不局限于该实施方式，在技术方案范围所述的发明的范围内，可进行多种变更。

例如，在上述的实施方式中采用TN液晶，但是本发明，也可用于采用STN(Super Twisted Nematic)型的液晶。此外，本发明，也可用于采用BTN(Bi-stable Twisted Nematic)型、强介电型等具有存储性的双稳定型的液晶、或高分子分散型的液晶的液晶显示装置。此外，本发明，也可用于，采用在一定的分子排列的液晶(即，主)中，溶解在分子的长轴方向和短轴方向可视光的吸收具有各向异性的染料(即，宾)，与液晶分子平行地排列染料分子的GH(宾主)型的液晶的液晶显示装置。

此外，本发明也可用于，采用在无外加电压时在与两基板的垂直方向排列液晶分子，另外在外加电压时在与两基板的水平方向排列液晶分子的垂直取向(即，各向同性的取向)的液晶的液晶显示装置。此外，本发明也可用于，采用在外加电压时在与两基板的水平方向排列液晶分子，另外在外加电压时在与两极板的垂直方向排列液晶分子的平行取向或水平取向(即，均匀的取向)的液晶的液晶显示装置。

此外，在上述实施方式中，采用非晶硅形成开关元件即TFT元件，但也可以采用多晶硅形成TFT元件。

此外，在上述实施方式中，作为电光装置，举例了液晶显示装置，但本发明也可用于有机EL装置、无机EL装置、等离子体显示装置、电泳显示装置、场致发射显示装置等各种电光装置。

(电子设备的实施方式)

以下，通过实施方式说明根据本发明的电子设备。另外，本实施方式只表示本发明的一例，本发明并不局限于该实施方式。

图13表示根据本发明的电子设备的一实施方式。此处所示的电子设备，由显示信息输出源71、显示信息处理电路72、电源电路73、定时发生器74及液晶显示装置75构成。而且，液晶显示装置75具有液晶面板76及驱动电路77。

显示信息输出源71，具有RAM(Random Access Memory)等存储器、或各种盘等存储元件、或调谐输出数字图像信号的调谐电路等，基于由定时发生器74生成的各种时钟信号，向显示信息处理电路72供给规定格式的图像信号等显示信息。

接着，显示信息处理电路72，具有多个放大·反转电路、或旋转电路、或灰度系数修正电路、或箝位电路等众所周知的电路，进行输入的显示信息的处理，将图像信号与时钟信号一同供给驱动电路77。此处，驱动电路77，与扫描线驱动电路或数据线驱动电路一同，统称为检查电路。此外，电源电路73，向上述各种要素供给规定的电源电压。

液晶显示装置75，例如，可采用图1所示的液晶显示装置1或液晶显示装置41构成。在液晶显示装置1或液晶显示装置41中，通过设置光衬垫22(参照图2、图8等)，有在该光衬垫22的周边，发生液晶分子的取向不良，与此对应发生漏光的可能。但是，根据本发明，由于在光衬垫22和透光性基板12a之间设置衬垫遮光膜19，因此如此的漏光被衬垫遮光膜19遮光，因而不能从外部视觉辨认如此的漏光，可维持液晶显示装置1、41的高显示质量。所以，即使在采用该液晶显示装置1、41的本电子设备中，也可进行显示质量高、易见的显示。

此外，在液晶显示装置1、41中，由于衬垫遮光膜19，由与构成TFD元件18或TFT元件58等开关元件的多个要素中的至少1个要素的材料相同的材料形成，因此在形成衬垫遮光膜19时，不需要设置特别的材料及专用的工序，因而可将成本抑制在低成本。因此，即使在采用该液晶显示装置1、41的本电子设备中，也可将成本抑制在低成本。

图14表示根据本发明的电子设备的其它实施方式即便携式电话。此处所示的便携式电话80，具有以铰链81为中心，可折叠的第1机身82a和第2机身82b。而且，在第1机身82a上，设置液晶显示装置83、听话口84和天线86。此外，在第2机身82b上，设置多个操作按钮87和送话口88。如果采用图1的液晶显示装置1或液晶显示装置41构成液晶显示装置83，可以低成本制作，不会发生漏光等不良的、显示质量高的显示部。

(电子设备的其它实施方式)

另外，作为电子设备，除以上说明的电子设备外，还可列举个人电脑、液晶电视、取景器型·监视直视型的磁带录像机、车辆导向装置、寻呼机、电子笔记本电脑、台式电脑、文字处理机、工作站、电视电话、POS终端等。

根据本发明的电光装置，作为显示用的设备，非常适合在用便携式电话机、便携式信息中端机、其它电极设备进行各种显示时应用。此外，根据本发明的电光装置的制造方法，非常适合在制造通过光衬垫维持单元间隙的结构的电光装置时采用。此外，根据本发明的电子设备，可用作便携式电话机、便携式信息中端机等民用设备、或测量仪器等工业用设备等。

Claims (16)

1.一种电光装置，其特征在于：

具有，

基板，

在该基板上形成的电极，

连接在所述电极上的开关元件，

位于该电极及所述开关元件上的电光物质的层，

限定所述电光物质的层的层厚的光衬垫，和

设在该光衬垫和所述基板之间的衬垫遮光膜，

所述衬垫遮光膜，与构成所述开关元件的多个要素中的至少1个以相同的材料形成。

2.如权利要求1所述的电光装置，其特征在于：

还具有作为显示单位的多个显示点区域，和设在这些显示点区域之间的点遮光区域；

所述光衬垫设在所述显示点区域内。

3.如权利要求2所述的电光装置，其特征在于：

具备第2基板，其夹着所述电光物质地配置在所述基板的相反侧，具有重叠配置在所述点区域及所述点间遮光区域上的多个不同色的着色要素；

所述点间遮光区域，通过重叠所述不同色的着色要素而形成。

4.如权利要求3所述的电光装置，其特征在于：

所述不同色的着色要素的颜色是3原色即红色、绿色、蓝色；

所述光衬垫，与蓝色的显示点区域对应地设置。

5.如权利要求2～4中任何一项所述的电光装置，其特征在于：

所述显示点区域，具有透射光的点内透射区域和反射光的点内反射区域；

所述光衬垫，设在所述点内反射区域。

6.如权利要求5所述的电光装置，其特征在于：

还具有树脂层，其与所述点内透射区域对应的厚度薄，与所述点内反射区域对应的厚度厚，与所述点内反射区域对应的表面平坦；

通过在该树脂层上形成所述电光物质的层，与所述点内透射区域对应的所述电光物质的层的层厚，大于与所述点内反射区域对应的电光物质的层的层厚。

7.如权利要求1～6中任何一项所述的电光装置，其特征在于：

所述开关元件，是由多层构成的叠层结构；

所述衬垫遮光膜，通过叠层与构成所述开关元件的所述叠层结构的至少2层相同的材料而形成。

8.如权利要求1～6中任何一项所述的电光装置，其特征在于：

所述开关元件，是从所述基板侧依次具有钽/绝缘膜/铬的叠层结构的薄膜二极管；

所述衬垫遮光膜，由钽或铬的单质形成，或从基板侧依次由钽/铬的叠层结构形成。

9.如权利要求1～8中任何一项所述的电光装置，其特征在于：

与所述基板的所述液晶层的相反侧的面是观察侧的面，在该基板的观察侧的面上，从该基板侧依次设置相位差板及偏振板。

10.一种电光装置，其在一对基板间夹持有电光物质而构成，其特征在于，具有：

电极，其配置在一方的所述基板上，对所述电光物质外加电压；

光衬垫，其配置在该电极上，限定所述电光物质的层的层厚；和

衬垫遮光膜，其设在该光衬垫和所述基板之间。

11.一种电光装置的制造方法，其特征在于：

包括，

在基板上形成开关元件的工序，

在所述基板上形成衬垫遮光膜的工序，

以导电连接于所述开关元件的方式，在所述基板上形成电极的工序，

在所述衬垫遮光膜上形成限定电光物质的层的层厚的光衬垫的工序，和

以与所述电极重叠的方式，在所述基板上设置所述电光物质的层的工序，

所述形成衬垫遮光膜的工序，用与形成构成所述开关元件的多个构成要素中的至少1个要素的工序相同的工序，采用相同的材料进行。

12.如权利要求11所述的电光装置的制造方法，其特征在于：

还具有以填埋作为显示单位的多个显示点区域的方式，形成点间遮光区域的工序。

所述光衬垫设在所述显示点区域内。

13.如权利要求12所述的电光装置的制造方法，其特征在于：

还具有夹着所述电光物质地，在所述基板的相反侧，形成多个不同色的着色要素的工序；

在形成所述点间遮光区域的工序中，通过重叠所述不同色的着色要素，形成所述点间遮光区域。

14.如权利要求11～13中任何一项所述的电光装置的制造方法，其特征在于：

形成开关元件的工序，包括，

在基板上形成第1金属的工序，

在所述第1金属上形成绝缘膜的工序，

在所述绝缘膜上形成第2金属的工序，

形成所述衬垫遮光膜的工序，与形成所述第1金属的工序或形成所述第2金属的工序同时，采用相同的材料进行。

15.一种在一对基板间夹持有电光物质而构成的电光装置的制造方法，其特征在于，包括：

在所述基板上形成衬垫遮光膜的工序，

与所述衬垫遮光膜平面重叠地形成对所述电光物质外加电压的电极的工序，

在所述衬垫遮光膜上形成限定所述电光物质的层的层厚的光衬垫的工序，和

以与所述电极重叠的方式，在所述基板上设置所述电光物质的层的工序。

16.一种电子设备，其特征在于：具有如权利要求1～10中任何一项所述的电光装置。

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