CN1635193A - 降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法 - Google Patents
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Abstract
一种降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征是在生长掺镱氟化钙晶体时同时引入Yb3+和Na+,具体步骤如下:①选定原料配方:初始原料采用YbF3,NaF,CaF2和PbF2,前三种原料按摩尔比等于x∶y∶1进行配料,其中x等于0.005~0.2,y等于0.0005~0.2,PbF2的加入量为0~0.01mol;②采用熔体法生长Yb,Na∶CaF2单晶体。本发明方法可显著地降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度。
Description
技术领域
本发明涉及掺镱氟化钙晶体,即Yb3+:CaF,特别是一种降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,通过Na+共掺降低Yb3+:CaF2晶体中Yb2+的浓度的方法,以提高该材料中的激活离子Yb3+的有效浓度。
背景技术
由于InGaAs激光二极管(LD)在0.9~1.1微米波长范围内的高发光性能,人们对Yb3+掺杂的材料作为高效率和高功率的激光***的研究兴趣持续增长。Yb3+离子在近红外光谱区域简单的二能级结构使其具有非常的量子缺陷(<10%),从而降低激光运作过程中的热载荷,避免上转换和激发态吸收等不利效应。相关的研究工作过去主要集中在Yb3+掺杂的氧化物激光基质,例如Yb3Al5O12(YAG),Ca5(PO4)3F(FAP),Y2SiO5(YSO)等(参见Opt.Lett.1991,16:1089;IEEE J.Quantum Electron.1994,30:170;Optical Mater.2002,19:81)。与氧化物相比,氟化物具有如下优越的性质:从真空紫外到红外波长范围的透光率非常高,低的折射率可以限制高强度激光泵浦作用下的非线性效应,低的声子能量降低相邻能级之间的非辐射驰豫。
各种氟化物中,CaF2具有较低的声子能量(328cm-1),高的热导率(10Wm-1K-1),而且很容易生长成大尺寸单晶。最近,Yb:CaF2晶体的激光性能受到了人们的关注(参见Appl.Phys.B 2004,78:681;Opt.Lett.2004,29:1879),获得了高功率可调谐的LD泵浦激光输出,波长调谐范围为1018~1072nm。但是,Yb离子的外层电子结构倾向于充满4f壳层,形成稳定的4f14(Yb2+)结构。特别是进入CaF2晶格中取代Ca2+,更容易以二价的形式存在,从而降低激活离子Yb3+的有效浓度(参见Phys.Rev.1969,184:348)。因此,如何抑制Yb3+:CaF2晶体中Yb2+的形成,提高激活离子的有效浓度,对于提高该激光材料的发光效率是很有意义的。
发明内容
本发明的主要目的是降低Yb3+:CaF2激光晶体中Yb2+的浓度,提供一种降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法。
本发明的技术解决方案如下:
一种降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征是在生长掺镱氟化钙晶体时同时引入Yb3+和Na+,具体步骤如下:
①选定原料配方:
初始原料采用YbF3,NaF,CaF2和PbF2,前三种原料按摩尔比等于x∶y∶1进行配料,其中x等于0.005~0.2,y等于0.0005~0.2,PbF2的加入量为0~0.01mol;
②采用熔体法生长Yb,Na:CaF2单晶体:按选定的配方称取所有原料,充分混合均匀后压制成块,然后装入坩埚内,采用熔体法生长单晶体。
所述的PbF2加入量的优选范围为0.002~0.004mol。
所述的生长单晶体熔体法是提拉法,坩埚材料为铱,籽晶采用经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
所述的生长单晶体熔体法为坩埚下降法,或温度梯度法,坩埚材料采用高纯石墨,坩埚底部可以不放籽晶,或放入上述提拉法中所述的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
本发明采用Na+作为电荷补偿离子,与Yb3+共掺入CaF2中生长Yb3+,Na+:CaF2单晶体。Na+的引入非常有效地降低了体系中Yb2+的浓度。上述晶体可用作高效的LD泵浦激光工作物质。
附图说明
图1为Yb,Na:CaF2与Yb:CaF2单晶体在190~450nm波长范围内的室温紫外吸收光谱,其中:
曲线a表示单掺Yb(2.0at%):CaF2晶体;
曲线b表示Yb(2at%),Na(3at%):CaF2晶体;
曲线c表示Yb(2at%),Na(20at%):CaF2晶体。
具体实施方式
下面通过实施例对本发明作进一步说明。
本发明的关键是在CaF2基质中同时引入Yb3+和Na+,Na+和Yb3+在取代Ca2+时形成电荷互补以达到***的电荷平衡,从而阻止Yb2+的形成,以提高有效激活离子Yb3+的浓度。
本发明的降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,是在生长掺镱氟化钙晶体时同时引入Yb3+和Na+,具体步骤如下:
①选定原料配方:
初始原料采用YbF3,NaF,CaF2和PbF2,前三种原料按摩尔比等于x∶y∶1进行配料,其中x选择范围为0.005~0.2,y选择范围为0.0005~0.2,PbF2加入量的选择范围为0~0.01mol;
②采用熔体法生长Yb,Na:CaF2单晶体:按选定的配方称取所有原料,充分混合均匀后压制成块,然后装入坩埚内,采用熔体法生长单晶体。
具体实施例如下:
实施例1:提拉法生长[Yb(0.5at%),Na(2.5at%):CaF2]晶体按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.005∶0.025∶1称取原料,然后加入0.01mol的PbF2作为去氧剂,混合均匀后在液压机上压制成块,放于铱坩埚内,采用提拉法生长晶体,籽晶采用经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
实施例2:温梯法生长[Yb(2at%),Na(3at%):CaF2]晶体
按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.02∶0.03∶1进行配料,混合均匀后在液压机上压制成块,放于石墨坩埚内,坩埚底部无籽晶。采用温度梯度法,在高纯Ar气氛中生长晶体。将所生长的晶体毛胚切割成片,光学抛光后在Jasco V-570 UV/VIS/NIR分光光度计上测试室温吸收光谱。图1中曲线b所示为该晶体的紫外吸收光谱,相比于同浓度Yb单掺CaF2晶体,吸收系数明显减小,表明Yb2+的浓度下降。
实施例3:温梯法生长[Yb(2at%),Na(20at%):CaF2]晶体
按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.02∶0.2∶1称取原料,然后加入0.007mol的PbF2作为去氧剂。原料混合均匀后在液压机上压制成块,放于石墨坩埚内,坩埚底部放有经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒作为籽晶。装好原料的石墨坩埚放入温度梯度炉内,在高纯Ar气氛中生长晶体。将所生长的晶体毛胚切割成片,光学抛光后在Jasco V-570 UV/VIS/NIR分光光度计上测试室温吸收光谱。图1中曲线c所示为该晶体的紫外吸收光谱,相比于实施例2中Yb(2at%),Na(3at%):CaF2晶体(曲线b),吸收系数进一步显著降低,对应着Yb2+的浓度下降。
实施例4:坩埚下降法生长[Yb(5at%),Na(10at%):CaF2]晶体
按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.05∶0.1∶1称取原料,然后加入0.003mol的PbF2作为去氧剂。原料混合均匀后在液压机上压制成块,放于石墨坩埚内,坩埚底部放有经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒作为籽晶。装好原料的石墨坩埚放入坩埚下降炉内,在高纯Ar气氛中生长晶体。
实施例5:提拉法生长[Yb(10at%),Na(15at%):CaF2]晶体
按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.1∶0.15∶1称取原料,然后加入0.008mol的PbF2作为去氧剂。原料混合均匀后在液压机上压制成块,放于铱坩埚内,采用提拉法生长晶体,籽晶采用经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
实施例6:坩埚下降法生长[Yb(20at%),Na(2at%):CaF2]晶体
按YbF3,NaF,CaF2的摩尔比为0.2∶0.02∶1称取原料,混合均匀后在液压机上压制成块,放于石墨坩埚内,坩埚底部放有经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒作为籽晶。装好原料的石墨坩埚放入坩埚下降炉内,在高纯Ar气氛中生长晶体。
吸收光谱测试表征Yb2+的浓度
将上述实施例中生长的Yb,Na:CaF2单晶体切割成片,光学抛光后在Jasco V-570 UV/VIS/NIR分光光度计上测试室温吸收光谱,190~450nm范围内的吸收峰属于Yb2+离子的f→d跃迁,根据吸收系数的强弱定性地分析Yb2+的相对浓度。图1所示为Yb,Na:CaF2单晶体在190~450nm波长范围内的吸收光谱与Yb:CaF2对比。图中曲线a表示单掺Yb(2.0at%):CaF2晶体;曲线b表示Yb(2at%),Na(3at%):CaF2晶体;曲线c表示Yb(2at%),Na(20at%):CaF2晶体。从图中可见,Na+的掺入显著地降低了Yb2+的吸收系数,对应着Yb2+浓度减小,且随Na+掺杂浓度的增加Yb2+的吸收强度速度减弱。
Claims (4)
1、一种降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征是在生长掺镱氟化钙晶体时同时引入Yb3+和Na+,具体步骤如下:
①选定原料配方:
初始原料采用YbF3,NaF,CaF2和PbF2,前三种原料按摩尔比等于x∶y∶1进行配料,其中x等于0.005~0.2,y等于0.0005~0.2,PbF2的加入量为0~0.01mol;
②采用熔体法生长Yb,Na∶CaF2单晶体:按选定的配方称取所有原料,充分混合均匀后压制成块,然后装入坩埚内,采用熔体法生长单晶体。
2、根据权利要求1所述的降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征是所述的PbF2加入量的优选范围为0.2~0.004mol。
3、根据权利要求1所述的降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征在于所述的生长单晶体熔体法是提拉法,坩埚材料为铱,籽晶采用经X射线衍射仪精确定向端面法线方向为[111]的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
4、根据权利要求1所述的降低掺镱氟化钙晶体中Yb2+浓度的方法,其特征在于所述的生长单晶体熔体法为坩埚下降法,或温度梯度法,坩埚材料采用高纯石墨,坩埚底部可以不放籽晶,或放入上述提拉法中所述的CaF2单晶棒,晶体生长在高纯Ar气氛中进行。
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CN102534776A (zh) * | 2012-03-30 | 2012-07-04 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种钕离子掺杂氟化物激光晶体 |
CN105255483A (zh) * | 2015-11-02 | 2016-01-20 | 吉林大学 | 一种基于Cu2+离子的蓝色上转换发光材料 |
CN114941170A (zh) * | 2022-05-11 | 2022-08-26 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种提高氟化钙晶体193nm激光辐照硬度的方法 |
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