CN1421548A - 金属基体表面阳极处理方法 - Google Patents
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Abstract
一种金属基体表面阳极处理方法，包括以下步骤：(1)阳极处理，在金属基体表面形成氧化膜；(2)激光雕刻或蚀刻去除部分氧化膜；(3)进行二次阳极处理；(4)重复步骤(2)和(3)。通过上述方法，可以在金属基体表面获得具有多色彩、多纹路质感或立体感的图案。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种金属基体表面阳极处理方法，特别是指一种在金属基体表面形成多色彩、多纹路质感或立体感图案的阳极处理方法。
【背景技术】
众所周知，铝、钛等合金材料因具有强度高、质量轻等优点，而广泛应用于航空、电子、通讯等领域。为了进一步提高其表面质量及视觉效果，业界通常采用着色或阳极处理工艺来达成。如美国专利第5,215,606号揭示了一种钛基物件的装饰方法，在对物件喷涂前，首先在真空下加热基体，使其表面晶粒长大，然后进行阳极处理，并通过变化两极电压控制表面氧化层颜色。再如，中国专利CN 1155019A号所公开的一种钛表面包覆复合防护层的新工艺，该工艺采用阳极氧化与加热氧化相结合的方式以提高表面氧化层的稳定性。
但是，上述方法所获得的氧化膜厚度均一，缺乏凸凹的立体感。另外，其在同一金属基体上难以获得多色彩、多纹路质感的图案，以致表面色彩单调、缺乏美感。
【发明内容】
本发明的目的在于提供一种在金属基体表面形成具有多色彩、多纹路质感或立体感图案的方法。
本发明的目的是这样实现的：在对金属基体表面阳极处理时，按照以下步骤：(1)阳极处理，在金属基体表面形成氧化膜；(2)激光雕刻或蚀刻去除部分氧化膜；(3)进行二次阳极处理；(4)重复步骤(2)和(3)。
与现有技术相比，本发明的优点在于：可以根据需要在金属基体表面获得具有多色彩、多纹路质感或立体感的图案。
【具体实施方式】
一种金属基体表面阳极处理方法，包括以下步骤：
(1)对金属基体进行阳极处理，从而在金属基体表面形成氧化膜；
(2)蚀刻或激光雕刻去除部分氧化膜；
(3)对金属基体进行二次阳极处理
(4)重复(2)～(3)步骤；
(5)电解着色或吸附着色处理；
(6)表面涂刷透明高分子材料使之外表面平整。
上述方法适用于铝、铝合金以及钛合金等金属基体的表面处理。依照上述方法所获得的金属壳体表面具有高低起伏的立体图案，并通过改变阳极处理电压及处理时间可以控制所形成氧化膜的厚度及颜色，从而获得多色彩、多纹路质感、三维的图案。
以下结合实施例对本发明作进一步说明：
本发明第一实施例包括以下步骤：
(1)用碱性溶液(NaOH)清洗铝合金基体；
(2)对铝合金基体进行阳极处理，该步骤中阳极处理溶液是重量百分比浓度为0.6％的磷酸(H3PO4)，处理电压为50V，电流密度在10～50mA/cm2之间，在室温下处理约20分钟；
(3)激光雕刻去除部分氧化膜；
(4)对铝合金基体进行二次阳极处理，处理液与步骤(2)相同；
(5)重复(3)～(4)步骤；
(5)电解着色或吸附着色处理；
(6)表面涂刷透明高分子材料使之外表面平整。
本发明第二实施例包括以下步骤：
(1)用碱性溶液(Na2CO3)清洗铝合金基体；
(2)对铝合金基体进行阳极处理，该步骤中阳极处理溶液是重量百分比浓度为0.8％的硫酸(H2SO4)，处理电压为40V，电流密度在10～50mA/cm2之间，在室温下处理约20分钟，在金属基体表面形成氧化膜；
(3)需要保留的氧化膜表面网板印刷耐酸油墨；
(4)将铝合金基体放入磷酸溶液，腐蚀去除未被油墨遮盖的氧化膜；
(5)用溶性有机溶剂清洗铝合金基体，去除油墨；
(6)重复(1)～(5)步骤；
(7)电解着色或吸附着色处理；
(8)表面涂刷透明高分子材料使之外表面平整。
本发明第三实施例包括以下步骤：
(1)用碱性溶液清洗铝基体；
(2)对不需进行阳极处理的金属基体部分印刷有耐酸油墨隔离层；
(3)对铝基体进行阳极处理，该步骤中阳极处理溶液是重量百分比浓度为0.5％的硫酸，处理电压为40V，电流密度在10～50mA/cm2之间，在室温下处理约20分钟，在金属基体表面的无油墨层部分形成氧化膜；
(4)用溶性有机溶剂清洗铝合金基体，去除油墨；
(5)用碱性溶液清洗铝基体；
(6)对金属基体进行二次阳极处理，该步骤中阳极处理溶液是重量百分比浓度为0.6％的磷酸，处理电压为40V，电流密度在10～50mA/cm2之间；
(7)重复(1)～(6)步骤；
(8)电解着色或吸附着色处理；
(9)表面涂刷透明高分子材料使之外表面平整。
Claims (10)
1.一种金属基体表面阳极处理方法，其特征在于该方法包括以下步骤：
(1)阳极处理，在金属基体表面形成氧化膜；
(2)去除部分氧化膜；
(3)进行二次阳极处理；
(4)重复(2)～(3)步骤。
2.如权利要求1所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(2)采用激光雕刻法去除部分氧化膜。
3.如权利要求1所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(2)采用蚀刻法去除部分氧化膜。
4.如权利要求1所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(1)中该阳极处理电压在10～50V之间。
5.如权利要求2或3所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(1)在阳极处理前首先用碱性溶液清洗该金属基体表面。
6.如权利要求3所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述蚀刻前首先在金属基体局部表面印刷耐酸油墨。
7.如权利要求5所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(1)该阳极处理电流密度在10～50mA/cm2之间。
8.如权利要求1所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述步骤(4)完成后，进一步实施着色处理。
9.如权利要求4所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述着色处理后在基体表面涂刷透明高分子材料。
10.如权利要求4所述的金属基体表面阳极处理方法，其特征在于：所述着色处理为电解着色或吸附着色。
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