CN1257809C - 在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法及其所使用的花纸涂料 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及在陶瓷釉面上形成凹凸浮雕效果的方法及印刷在花纸上的涂料，先制作陶瓷制品素坯，贴花纸，排膜，施釉，再釉烧成为成品，花纸上印刷有下列成分组成(重量百分比)的涂料：V2O5：18.4～36.9%，Sb2O3：8.6～18.4%，Na2O：6～10.3%，CaO：3.9～6.2%，K2O：6.5～10.4%，SiO2：19.2～37.2%，MgO：3.5～8.6%，B2O3：4～7.9%。在花纸上印刷了上述涂料后，制成的陶瓷制品在有涂料的位置准确形成凹部线条，在没有涂料的印花位置凸起而产生浮雕效果，在未贴花纸的位置光滑平整。通过釉和釉烧温度的配合，使釉面光滑细腻，透光度高，印刷的涂料线条宽度可小至0.5～1毫米。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷制品的制造方法及使用的材料，特别是在陶瓷釉面上形成凹凸浮雕效果的方法及印刷在花纸上的涂料。
背景技术
在陶瓷表面形成凹凸浮雕具有其特别的立体美感，在日用瓷和工艺瓷中倍受欢迎。现有技术用手工或机械方法在陶瓷素坯上加工浮雕形状，再施釉，釉烧形成有立体浮雕感觉的陶瓷，这种做法工艺复杂，加工成本高。中国发明专利申请公开说明书CN87104981A公开一种使陶瓷釉面产生浮雕图案的方法，该方法存在两方面的缺陷，一是在施釉后印上浮雕剂再釉烧，由于在松散的未经釉烧的釉面进行加工，釉层容易局部脱落；二是浮雕剂组成不合理，未能产生线条清晰和精确的浮雕效果，因而该方法仅适用于制造墙地砖等粗犷产品，不能适用日用瓷、艺术瓷等领域。
发明内容
本发明的目的是提供一种方便地在陶瓷釉面上形成精确、细小的凹部线条，从而形成凹凸浮雕效果的的陶瓷的制造方法。
本发明的另一目的是提供一种陶瓷印花涂料，该涂料能使釉烧过程中的釉形成精确、细小的凹凸浮雕效果。
本发明通过在陶瓷素坯或其印刷花面形成不同表面张力的区域，使釉烧过程中流动态的釉不能均匀分布于陶瓷表面，釉在印刷有本发明涂料的线条位置形成凹陷，原附着在其上面未经釉烧的釉在釉烧过程中向没有印刷涂料的区域集结，从而产生浮雕效果。
本发明的制造方法是先制作陶瓷制品素坯，贴花纸，排膜，施釉，再釉烧成为成品，所述花纸上印刷有下列成分组成(重量百分比)的涂料：V2O5：18.4～36.9％，Sb2O3：8.6～18.4％，Na2O：6～10.3％，CaO：3.9～6.2％，K2O：6.5～10.4％，SiO2：19.2～37.2％，MgO：3.5～8.6％，B2O3：4～7.9％。
所述花纸底纸采用聚丁醛薄膜花纸，排膜温度为800～900℃，釉烧温度为1140～1240℃。
所述涂料按以下方法制得：用含有上述成分的天然矿物或化合物作原料，按所述比例混合后在1250～1280℃下煅烧，球磨，过筛。
所述陶瓷制品素坯是由以下方法制得：先配制陶瓷泥料，经研磨、成型、干燥后，在1335～1365℃下素烧，然后冷却、抛光。
所述涂料中可以加入花纹图案颜料用于印刷花纸，或者将涂料叠加到花纸的花纹图案上。
所述釉可以由下列成分组成(重量百分比)：ZrO2：12.4～24.6％，Na2O：4.3～8.9％，K2O：3～7.4％，CaO：10.9～25.7％，SiO2：24.3～51.1％，BaO：4.8～9.6％，Sb2O3：6.2～18％，MgO：1.6～5.3％，B2O3：5.5～9％。
所述釉的成分组成(重量百分比)的优选方案是∶ZrO2：13.1～19％，Na2O：5～6.4％，K2O：3.6～5.2％，CaO：11.6～17.8％，SiO2：28.1～35.2％，BaO：5.2～8.3％，Sb2O3：9～16.1％，MgO：2.4～3％，B2O3：5.6～6.9％。
所述涂料的成分组成(重量百分比)的优选方案为：V2O5：21.5～31.1％，Sb2O3：9.8～17.1％，Na2O：7.2～9.5％，CaO：4.1～5.9％，K2O：7～10％，SiO2：22.2～32.9％，MgO：4.4～6.8％，B2O3：5.4～7％。
本发明在花纸上印刷了上述涂料后，制成的陶瓷制品在有涂料的位置准确形成凹部线条，在没有涂料的印花位置凸起而产生浮雕效果，在未贴花纸的位置光滑平整。通过釉和釉烧温度的配合，使釉面光滑细腻，透光度高，印刷的涂料线条宽度可小至0.5～1毫米，因此可在动物、花草图案的轮廓和叶脉等细小部位形成凹下的线条，本发明适用于日用瓷、艺术瓷等领域，使日用陶瓷及工艺陶瓷提高到一个新的档位。
具体实施方式
实施例1：用五氧化二钒、氧化锑、长石、滑石、硼砂作原料，经称量、球磨、过筛、除铁、混合、在1270℃下煅烧，形成含量(重量百分比)为以下的材料：V2O5：23.9％，Sb2O3：10.9％，Na2O：8.6％，CaO：5.4％，K2O：9.1％，SiO2：29.9％，MgO：6.2％，B2O3：6％。将该材料球磨50小时，过400目筛成为本发明涂料。
将上述涂料加入到糖蜜和植物胶组成的粘结剂中，调均形成油墨状材料，用丝板印刷方法将该材料印刷到已印有花草彩图的聚丁醛薄膜花纸上，印刷的线条位置为花草的叶脉及轮廓，线条宽度在0.5～1毫米之间。
用氧化锆、长石、石英、碳酸钡、氧化锑、大理石、白云石、硼砂作原料，经称量、球磨、过筛、除铁、混合成含量(釉烧去除挥发成分后的重量百分比)为以下的釉：ZrO2：17.3％，Na2O：5.8％，K2O：4.7％，CaO：16.2％，SiO2：31.2％，BaO：5.8％，Sb2O3：10％，MgO：2.7％，B2O3：6.3％。
配制陶瓷泥料，经研磨、成型、干燥后，在1335～1365℃下素烧，然后冷却、抛光，制得陶瓷素坯。
将上述印刷有本发明涂料的花纸贴在预制好的陶瓷素坯上，在850℃下排膜，然后施上述釉料，在1140～1150℃下釉烧，取出冷却得成品。所得产品的釉面在叶腹位置均匀凸起，叶脉及花草轮廓有清晰平整的凹下线条，凹下的线条宽度与印刷涂料的宽度一致。
实施例2：用钒酸氨、氧化锑、长石、滑石、硼砂作原料，经称量、球磨、过筛、除铁、混合、在1260℃下煅烧成含量(重量百分比)为以下的材料：V2O5：28.3％，Sb2O3：15.5％，Na2O：8％，CaO：4.6％，K2O：7.8％，SiO2：24.7％，MgO：4.9％，B2O3：6.4％。将该材料球磨50小时，过400目筛成为本发明涂料。
将上述涂料和常用量的颜料加入到糖蜜和植物胶组成的粘结剂中，调均形成油墨状材料，用丝板印刷方法将该材料印刷到已印有花草彩图的聚丁醛薄膜花纸上，印刷的线条成为花草的叶脉及轮廓，线条宽度在0.5～1毫米之间。
用锆石英、长石、石英、碳酸钡、氧化锑、大理石、白云石、硼砂作原料，经称量、球磨、过筛、除铁、混合成含量(釉烧去除挥发成分后的重量百分比)为以下的釉：ZrO2：14.6％，Na2O：5.5％，K2O：4％，CaO：12.9％，SiO2：32％，BaO：7.5％，Sb2O3：14.6％，MgO：2.7％，B2O3：6.2％。
将上述印刷有涂料的花纸贴在成型、干燥后的陶瓷素坯上，在850℃下排膜，然后施上述釉料，在1220～1240℃釉烧，取出冷却得成品。所得产品的釉面在叶腹位置均匀凸起，叶脉及花草轮廓有清晰平整的凹下线条，线条宽度与印刷涂料的宽度一致。
Claims (9)
1.在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，先制作陶瓷制品素坯，贴花纸，排膜，施釉，再釉烧成为成品，所述花纸上印刷有下列组分和重量百分含量组成的涂料：V2O5：21.5～31.1％，Sb2O3：9.8～17.1％，Na2O：7.2～9.5％，CaO：4.1～5.9％，K2O：7～10％，SiO2：22.2～32.9％，MgO：4.4～6.8％，B2O3：5.4～7％。
2.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述花纸底纸采用聚丁醛薄膜花纸，排膜温度为800～900℃，釉烧温度为1140～1240℃。
3.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述涂料按以下方法制得：用含有上述成分的天然矿物或化合物作原料，按所述比例混合后在1250～1280℃下煅烧，球磨，过筛。
4.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述陶瓷制品素坯是由以下方法制得：先配制陶瓷泥料，经研磨、成型、干燥后，在1335～1365℃下素烧，然后冷却、抛光。
5.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述花纸上先用花纹图案颜料印刷彩图，所述涂料叠加于花纹图案上。
6.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述涂料中还加入花纹图案颜料。
7.根据权利要求1所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述釉由下列组分和重量百分含量组成：ZrO2：12.4～24.6％，Na2O：4.3～8.9％，K2O：3～7.4％，CaO：10.9～25.7％，SiO2：24.3～51.1％，BaO：4.8～9.6％，Sb2O3：6.2～18％，MgO：1.6～5.3％，B2O3：5.5～9％。
8.根据权利要求7所述在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的方法，其特征在于，所述釉由下列组分和重量百分含量组成：ZrO2：13.1～19％，Na2O：5～6.4％，K2O：3.6～5.2％，CaO：11.6～17.8％，SiO2：28.1～35.2％，BaO：5.2～8.3％，Sb2O3：9～16.1％，MgO：2.4～3％，B2O3：5.6～6.9％。
9.一种能在陶瓷釉面上产生凹凸浮雕的花纸涂料，其特征在于，由下列组分和重量百分含量组成：V2O5：21.5～31.1％，Sb2O3：9.8～17.1％，Na2O：7.2～9.5％，CaO：4.1～5.9％，K2O：7～10％，SiO2：22.2～32.9％，MgO：4.4～6.8％，B2O3：5.4～7％。
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