CN118252425A - 清洁***的控制方法、清洁***及存储介质 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种清洁***的控制方法、清洁***及存储介质，清洁***至少包括清洁设备，清洁设备包括机体和拖擦件，控制方法包括：控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗，且对拖擦件进行清洗时控制拖擦件相对于机体旋转；向拖擦件提供养护液，且在向拖擦件提供养护液时，控制拖擦件相对于机体旋转；其中，向拖擦件提供养护液时拖擦件的旋转速度，小于对拖擦件进行清洗时拖擦件的旋转速度。可以清洁***较好地对清洁设备的拖擦件提供养护液，从而可以利用清洁设备对待处理表面进行养护处理，且具有较好的养护效果；能够解决日常使用过程中地面划痕，褪色、变形、龟裂、光泽降低等问题，提高用户使用清洁***的体验。

Description

清洁***的控制方法、清洁***及存储介质

技术领域

本申请涉及清洁设备技术领域，尤其涉及一种清洁***的控制方法、清洁***及存储介质。

背景技术

在日常的生活、生产环境中，地板、瓷砖等表面会随着时间推移而产生不同类型的损耗。例如在湿度和温度变化较大的环境中长期使用会导致地面产生褪色、变形、龟裂或霉菌等问题，或者地面沾染液体污渍导致变色，或者在使用之后产生划痕导致光泽降低等。

目前通常由用户自己购买养护剂对地面进行手动养护，使用的工具主要是平板拖把、电动拖把等；或者需要请专业的养护团队进行养护，但是价格比较昂贵。

发明内容

本申请提供了一种清洁***的控制方法、清洁***及存储介质，可以控制清洁***对清洁设备的拖擦件提供养护液，从而可以利用清洁设备对待处理表面进行养护处理，以解决日常使用过程中地面划痕，褪色、变形、龟裂、光泽降低等问题。

第一方面，本申请实施例提供了一种清洁***的控制方法，所述清洁***至少包括清洁设备，所述清洁设备包括机体和拖擦件，所述控制方法包括：

控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗，且对所述拖擦件进行清洗时，控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；

向所述拖擦件提供养护液，且在向所述拖擦件提供养护液时，控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；

其中，向所述拖擦件提供养护液时所述拖擦件的旋转速度，小于对所述拖擦件进行清洗时所述拖擦件的旋转速度。

第二方面，本申请实施例提供了一种清洁***的控制方法，所述清洁***至少包括清洁设备，所述清洁设备包括机体和拖擦件，所述控制方法包括：

获取待处理表面的处理模式；

根据所述处理模式控制所述清洁设备对所述待处理表面进行处理，所述清洁设备对所述待处理表面进行处理时所述拖擦件的运动方式是根据所述处理模式确定的；

其中，至少两种所述处理模式对应的拖擦件的运动方式不同，且所述拖擦件上护理液的类型不同。

第三方面，本申请实施例提供了一种清洁***，所述清洁***包括：处理器和存储器，所述存储器用于存储计算机程序；所述处理器用于执行所述计算机程序并在执行所述计算机程序时，实现前述的清洁***的控制方法的步骤。

第四方面，本申请实施例提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时使所述处理器实现上述的方法的步骤。

本申请实施例提供了一种清洁***的控制方法、清洁***及存储介质，清洁***至少包括清洁设备，所述清洁设备包括机体和拖擦件，所述控制方法包括：控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗，且对所述拖擦件进行清洗时控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；向所述拖擦件提供养护液，且在向所述拖擦件提供养护液时，控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；其中，向所述拖擦件提供养护液时所述拖擦件的旋转速度，小于对所述拖擦件进行清洗时所述拖擦件的旋转速度。可以通过清洁***较好地对清洁设备的拖擦件提供养护液，从而可以利用清洁设备对待处理表面进行养护处理，且具有较好的养护效果；能够解决日常使用过程中地面划痕，褪色、变形、龟裂、光泽降低等问题，提高用户使用清洁***的体验。而且相较于手动养护的耗时耗力和请专业团队养护的高昂价格，可以减轻用户负担。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请实施例的公开内容。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种清洁***的控制方法的流程示意图；

图2是本申请一实施方式中清洁***的示意图；

图3是本申请一实施方式中清洁设备的示意图；

图4是本申请一实施方式中清洁基站的示意图；

图5a至图5b是本申请一些实施方式中水路***的示意图；

图6是本申请一实施方式中清洁***的控制方法的流程示意图；

图7是本申请另一实施方式中清洁***的控制方法的流程示意图；

图8a是本申请一实施方式中清洁设备沿障碍物清洁的动作示意图；

图8b是本申请一实施方式中清洁设备沿障碍物养护的动作示意图；

图9是本申请一实施方式中多次提供养护液的示意图；

图10是本申请另一实施例提供的清洁***的控制方法的流程示意图；

图11是本申请实施例提供的一种清洁***的示意性框图。

100、清洁设备；200、清洁基站；210、容纳部；201、停靠位；202、养护液模块；30、水路***；31、第一管路；311、第一泵体；32、第二管路；321、第二泵体；33、混液模块；34、第三管路；341、第三泵体。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

附图中所示的流程图仅是示例说明，不是必须包括所有的内容和操作/步骤，也不是必须按所描述的顺序执行。例如，有的操作/步骤还可以分解、组合或部分合并，因此实际执行的顺序有可能根据实际情况改变。

下面结合附图，对本申请的一些实施方式作详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

请参阅图1，图1是本申请实施例提供的一种清洁***的控制方法的流程示意图。

如图2所示，清洁***至少包括清洁设备100，还可以包括清洁基站200。

本申请实施例涉及的清洁设备100是指为了清洁而设计的机械设备，可以是清洁机器人或手持清洁设备等，例如包括但不限于：洗地机、吸尘吸水机、拖地机、扫拖一体机等等。

为便于说明，本申请实施例主要以清洁设备100为清洁机器人，如扫拖一体机为例进行说明。

图3为一实施方式中清洁机器人的示意性框图。清洁机器人包括机体、驱动组件102、传感器单元103、控制器104、清洁件105、移动单元106、存储器107、通信单元108、交互单元109、储能单元110等。

在机体上设置的传感器单元103可以包括以下至少一种传感器：雷达传感器(如激光雷达)、碰撞传感器、距离传感器、跌落传感器、计数器、陀螺仪等。举例而言，激光雷达设置在机体的顶部或周侧，在工作时，可得到周围的环境信息，例如障碍物相对激光雷达的距离和角度等。此外，也可用摄像头等视觉传感器替代激光雷达，通过对摄像头拍摄的图像中的障碍物进行分析，也可得到障碍物相对摄像头的距离、角度等。碰撞传感器例如包括碰撞壳体和触发感应件；当清洁机器人通过碰撞壳体与障碍物碰撞时，碰撞壳体向清洁机器人内部移动，且压缩弹性缓冲件，以起到缓冲作用。在碰撞壳体向清洁机器人内部移动一定距离后，碰撞壳体与触发感应件接触，触发感应件被触发产生信号，该信号可发送到机体内的控制器104，以进行处理。在与障碍物发生碰撞后，清洁机器人远离障碍物，在弹性缓冲件的作用下，碰撞壳体移回原位。距离传感器具体可以为红外探测传感器，可用于探测障碍物至距离传感器的距离。距离传感器可以设置在机体的侧面，从而通过距离传感器可测出位于清洁机器人侧面附近的障碍物至距离传感器的距离值。距离传感器也可以是超声波测距传感器、激光测距传感器或者深度传感器等。跌落传感器设置在机体的底部边缘，当清洁机器人移动到地面的边缘位置时，通过跌落传感器可探测出清洁机器人有从高处跌落的风险，从而执行相应的防跌落反应，例如清洁机器人停止移动、或往远离跌落位置的方向移动等。在机体的内部还设有计数器和陀螺仪。计数器用于检测清洁机器人移动的距离长度。陀螺仪用于检测清洁机器人转动的角度，从而可确定出清洁机器人的朝向。

控制器104设置在机体内部，控制器104用于控制清洁机器人执行具体的操作。该控制器104例如可以为中央处理器(Centra l Process i ng Un it，CPU)、或微处理器(Microprocessor)等。如图2所示，控制器104与储能单元110、存储器107、驱动组件102、移动单元106、传感器单元103、交互单元109等部件电连接，以对这些部件进行控制。

清洁件105可用于对地面进行清洁，清洁件105的数量可以为一个或多个。清洁件105例如包括拖擦件(或者可以称为拖布)。举例而言，拖擦件例如包括以下至少一种：旋转拖擦件、平板拖擦件、滚筒式拖擦件、履带式拖擦件等，当然也不限于此。拖擦件设置在机体的底部，具体可以为机体的底部靠后的位置。以清洁件为旋转拖擦件为例，在机体内部设有驱动组件102，驱动组件102例如包括驱动电机；驱动组件102在机体的底部伸出两个转轴，拖擦件套接在转轴上。驱动组件102可带动转轴旋转，从而转轴带动拖擦件旋转。

移动单元106为与清洁机器人的移动相关的部件，移动单元106例如包括驱动轮和万向轮。万向轮和驱动轮配合实现清洁机器人的转向和移动。

存储器107设置在机体上，存储器107上存储有程序，该程序被控制器104执行时实现相应的操作。存储器107还用于存储供清洁机器人使用的参数。其中，存储器107包括但不限于磁盘存储器、只读光盘(Compact Di sc Read-On l yMemory，CD-ROM)、光学存储器等。

通信单元108设置在机体上，通信单元108用于让清洁机器人和外部设备进行通信；例如与终端或与基站进行通信。其中，基站为配合清洁机器人使用的清洁设备100。

交互单元109设置在机体上，用户可通过交互单元109和清洁机器人进行交互。交互单元109例如包括触控屏、开关按钮、扬声器等中的至少一种。例如用户可通过按压开关按钮控制清洁机器人启动工作或停止工作。

储能单元110设置在机体内部，储能单元110用于为清洁机器人提供电力。

机体上还设有充电部件，该充电部件用于从外部设备获取电力，从而向清洁机器人的储能单元110进行充电。

应该理解，图3中描述的清洁机器人只是本申请实施例中的一个具体示例，并不对本申请实施例的清洁设备100构成具体限定。本申请实施例的清洁设备100还可以为其它的具体实现方式。在其它的实现方式中，清洁设备100可以比图2所示的清洁机器人有更多或更少的部件；例如，清洁设备100可包括用于储存清水的清水腔室和/或用于储存脏污的回收腔室，清洁设备100可以将清水腔室储存的清水输送到拖擦件和/或地面，以润湿拖擦件，以及基于润湿后的拖擦件对地面进行清洁，清洁设备100还可以将地面的脏污或者含有脏污的污水收集至回收腔室中；清洁设备100还可以将清水腔室储存的清水输送到拖擦件，以对拖擦件进行清洗，清洗拖擦件后的含有脏污的污水也可以输送至回收腔室中。

在一些实施方式中，如图4所示，清洁***中的清洁基站200具有供清洁设备100停靠的停靠位201；清洁设备100停靠在该停靠位201的情况下，清洁基站200可以向清洁设备100的拖擦件提供清洗液以对拖擦件进行清洗，以便清洁设备100通过清洗后的拖擦件对地面等待处理表面进行清洁。

清洁***可以向拖擦件提供养护液，例如由清洁***中的清洁基站200向拖擦件提供养护液。示例性的，清洁设备100停靠在清洁基站200的该停靠位201的情况下，清洁***还可以向清洁设备100的拖擦件提供养护液，以便清洁设备100通过吸附有养护液的拖擦件对待处理表面进行养护。

当然，在其他一些实施方式中，清洁设备100未停靠在停靠位201的情况下，例如，清洁设备100还位于待处理面的情况下，清洁设备100也可以给拖擦件提供养护液。当然也不限于此，例如可以人工向拖擦件提供养护液。

可以理解的，待处理表面可以包括至少两种处理模式，至少两种处理模式对应的拖擦件上护理液的类型不同。其中，处理模式可以包括清洁模式，在清洁模式下拖擦件上的护理液包括清洁液，清洁设备100通过该拖擦件对等待处理表面进行清洁；处理模式还可以包括养护模式，在养护模式下拖擦件上的护理液包括养护液，清洁设备100通过该拖擦件对待处理表面进行养护。

在一些实施例中，如图4所示，清洁基站200搭载养护液模块202，养护液模块202用于容纳养护液；例如清洁基站的机体形成有容纳部210，养护液模块202可以设置在该容纳部210。可选的，养护液模块202与清洁基站200的机体可拆卸连接。

通过将养护液模块202以模块化的方式搭载于清洁基站200，可以方便用户自行选择是否配置养护液模块202和使用地面养护功能。

示例性的，清洁基站200包括养护液输送***，清洁基站200可以通过养护液输送***给拖擦件提供养护液，例如可以将养护液均匀的喷洒到拖擦件上，更具体的，可以在清洁设备100停靠在清洁基站200的停靠位201的情况下，清洁基站200将养护液模块202中的养护液提供给拖擦件。

在一些实施例中，请参阅图5a和图5b，清洁***包括水路***30，该水路***30可以设置在清洁基站200上，例如该水路***30包括养护液输送***。

如图5a所示，水路***30包括第一管路31和第二管路32，其中，第一管路31连通清水源，清水源可以为清水箱或者自来水；第二管路32连通养护液模块202；可以理解的，养护液输送***至少包括第二管路32，还可以包括第一管路31；为便于说明，主要以养护液输送***包括第一管路31和第二管路32为例进行说明。

如图5a所示，第二管路32可以与第二泵体321连通，第二泵体321运行时可以将养护液模块202中的养护液输出到水路***30的出口；举例而言，第二泵体321包括但不限于蠕动泵，可以准确的输送所需液量的养护液。第一管路31可以与第一泵体311连通，第一泵体311运行时可以将清水源提供的清水输送到水路***30的出口。示例性的，水路***30的出口可以设置在清洁基站200的停靠位201，当该停靠位201停靠有清洁设备100时，养护液和清水通过水路***30的出口提供给清洁设备100的拖擦件，清水可以对养护液进行稀释。可选的，第二管路32上还可以设置单向阀，以限定第二管路32上液体的流向为从养护液模块202到水路***30的出口，可以防止其他液体流向养护液模块202污染养护液。

在一些实施例中，如图5b所示，水路***30还包括混液模块33，第一管路31与第二管路32共同连通至混液模块33，混液模块33对清水和养护液进行混合，混合后的养护液经混液模块33的出口提供给拖擦件。由于养护液模块202中养护液容器的容量有限，而一次养护所需的养护液较多，因此可以选用高浓度的养护液，并与清水混合成稀释后的养护液，以降低用户添加养护液的次数。本实施例中，通过混液模块33对清水和养护液进行混合，将混合后的养护液提供给拖擦件，可以使得养护液和清水混合更为均匀，进而使得拖擦件上的养护液均匀分布。举例而言，混液模块33包括管路和/或混液腔室，当然也不限于此，例如还可以包括搅拌机构以提高混合效率和混合效果。

可选的，通过控制第二泵体321和/或第一泵体311，可以调整混合后的养护液的浓度为目标浓度；举例而言，该目标浓度可以根据养护液的类型、初始浓度等信息确定，或者，还可以根据用户地板类型(例如复合木地板或实木地板)确定养护液的目标浓度，或者根据用户需要确定养护液的目标浓度；由此可以提高对待处理表面养护处理的智能化，保证养护效果。相较于采用固定浓度的养护液，可以提高养护液的利用率，例如在养护液的初始浓度较高时，可以采用更多清水进行稀释，以减少养护液的浪费。

在一些实施方式中，水路***30还可以包括清洁液输送***，或者说可以将养护液输送***与清洁液输送***设置在同一水路***30中。如图5b所示，水路***30还包括第三管路34，第三管路34连通清洁液模块，清洁液模块用于容纳清洁液，通过第三管路34可以将清洁液提供给拖擦件。示例性的，第三管路34与第三泵体341连通，第三泵体341包括但不限于蠕动泵；第三泵体341运行时可以将清洁液输出到水路***30的出口输出到停靠位201，对停靠位201出的拖擦件进行清洁。举例而言，清洁基站200的停靠位201停靠有清洁设备100的情况下，清洁液和清水通过水路***30的出口提供给清洁设备100的拖擦件，以对拖擦件进行清洗，清洁液可以提高对拖擦件的清洗效果；混液模块33也可以对清洁液和清水进行混合，混合后的清洁液经混液模块33的出口提供给拖擦件，以对拖擦件进行清洗。对拖擦件进行清洗时，可以控制拖擦件旋转，以提高清洗效果。

在另一些实施方式中，水路***30可以设置在清洁设备100上，以向拖擦件提供养护液、清水、清洁液中的至少一种；在其他一些实施方式中，水路***30可以为独立于清洁设备100和清洁基站200的***。

下面对本申请实施例所提供的清洁***的控制方法进行详细说明。具体的，清洁***至少包括清洁设备100，清洁设备100包括机体和拖擦件，拖擦件能够相对于机体旋转。示例性的，清洁设备100还包括驱动组件，驱动组件例如包括驱动电机；可以通过控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转。

如图1所示，本申请一实施例的清洁***的控制方法包括步骤S110至步骤S120。

步骤S110、控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗，且对拖擦件进行清洗时控制拖擦件相对于机体旋转。

该清洗液可以为清水，或者可以为清水与清洁液混合得到的混合液。请参阅图5b，可以控制第一泵体311将清水输送到混液模块33以及控制第三泵体341将清洁液输送到混液模块33，清水与清洁液在混液模块33中混合后经混液模块33的出口提供给拖擦件，对拖擦件进行清洗。

通过对拖擦件进行清洗时控制拖擦件相对于机体旋转，可以使得拖擦件上的脏污可以更快速的脱离拖擦件，提高对拖擦件的清洗效率。举例而言，拖擦件上的脏污在拖擦件旋转的离心作用下脱离拖擦件，和/或拖擦件在旋转时可以频繁的与停靠位201上设置的刮条接触以刮除拖擦件上的脏污。

步骤S120、向拖擦件提供养护液，且在向拖擦件提供养护液时，控制拖擦件相对于机体旋转；其中，向拖擦件提供养护液时拖擦件的旋转速度，小于对拖擦件进行清洗时拖擦件的旋转速度。

通过在对拖擦件进行清洗之后，向拖擦件提供养护液，可以使得拖擦件上不含有脏污或者进含有很少的脏污，可以提高拖擦件上养护液的液量和纯度，以便在通过该拖擦件对待处理表面进行养护时提高养护效果。

请参阅图5b，可以控制第一泵体311将清水输送到混液模块33以及控制第二泵体321将养护液输送到混液模块33，清水与养护液在混液模块33中混合后经混液模块33的出口提供给拖擦件。通过在向拖擦件提供养护液时控制拖擦件相对于机体旋转，使得混液模块33的出口提供的养护液可以均匀的喷洒到拖擦件的不同位置。

通过在向拖擦件提供养护液时降低拖擦件的旋转速度，可以防止提供的养护液喷洒到拖擦件之外的位置，和/或防止拖擦件上的养护液在离心作用下脱离拖擦件；从而使得养护液可以均匀且充分的喷洒到拖擦件上，可以保证拖擦件上有足量的养护液，在后续通过该拖擦件对待处理表面进行养护时，养护液可以充分、均匀的覆盖到待处理表面，提高养护效果。

通过对拖擦件进行清洗时提高拖擦件的旋转速度，可以更快速的去处拖擦件上的脏污，例如拖擦件在旋转时可以更频繁的与停靠位201上设置的刮条接触而更快的刮除拖擦件上的脏污，以提高拖擦件的清洗效率。

向所述拖擦件提供养护液时所述拖擦件对所述停靠位上用于支撑所述拖擦件的表面的压力，小于对所述拖擦件进行清洗时所述拖擦件对所述停靠位上用于支撑所述拖擦件的表面的压力。对所述拖擦件进行清洗时增大拖擦件的压力，可以便于清洗拖擦件后的污水脱离拖擦件，提高对拖擦件的清洗效率；在向所述拖擦件提供养护液时降低拖擦件的压力，可以防止拖擦件上的养护液被挤出，以便拖擦件快速的吸收足量的养护液。

在一些实施方式中，请结合图2参阅图4，清洁***包括清洁基站200及清洁设备100，清洁基站200具有供清洁设备100停靠的停靠位201。向拖擦件提供养护液是在清洁设备100停靠于停靠位201的情况下执行的。例如水路***30的出口可以设置在清洁基站200的停靠位201，当该停靠位201停靠有清洁设备100的情况下，养护液和清水可以通过水路***30的出口提供给清洁设备100的拖擦件。本实施例中，在清洁设备100停靠于清洁基站200的停靠位201的情况下，才启动给拖擦件提供养护液的功能，可以保证养护液不会洒落在地面，且可以利用清洁基站200上用于与拖擦件接触的表面(例如清洗肋表面)与拖擦件摩擦接触，可以更有利于养护液均匀地分布在拖擦件上。

示例性的，清洁基站200包括养护液输送***；在清洁设备100位于清洁基站200的停靠位201的情况下，清洁基站200通过养护液输送***给拖擦件提供养护液。如图5a所示，养护液输送***至少包括第二管路32，还可以包括第一管路31；如图5b所示，养护液输送***还可以包括混液模块33。

在一些实施方式中，请参阅图5a和图5b，向拖擦件提供养护液，包括：通过第一管路31输送清水，以及在输送清水时通过第二管路32输送养护液。清洁基站200的停靠位201停靠有清洁设备100时，第二管路32输送的养护液和清水混合后提供给清洁设备100的拖擦件。如图5b所示，通过混液模块33对清水和养护液进行混合，将混合后的养护液提供给拖擦件，可以使得拖擦件上的养护液均匀分布，在后续通过该拖擦件对待处理表面进行养护时，养护液可以均匀的覆盖到待处理表面，提高养护效果；可选的，混液模块33包括管路和/或混液腔室。

在一些实施方式中，如图6所示，在对拖擦件进行清洗之后，且在向拖擦件提供养护液之前，方法还包括步骤S111：对拖擦件进行干燥处理。

在向进行干燥处理后的拖擦件提供养护液，可以便于拖擦件充分吸收水路***30提供的养护液，且利于养护液在拖擦件上的均匀分布；从而在后续通过该拖擦件对待处理表面进行养护时，养护液可以充分、均匀的覆盖到待处理表面，提高养护效果。

示例性的，步骤S111：对拖擦件进行干燥处理。可以包括：在对拖擦件进行清洗之后，提高拖擦件相对于机体旋转的旋转速度，以对拖擦件进行甩干；和/或，可以在对拖擦件进行清洗之后，控制清洁设备100在待处理表面移动预设时长或预设面积(如10平方米)，且清洁设备100在待处理表面移动过程中拖擦件与待处理表面接触；清洗之后的拖擦件与待处理表面接触时，拖擦件上的水分可以被待处理表面吸收，使得拖擦件更干燥。待处理表面可以为以将清洁过的地面，可以使得拖擦件干燥处理后仍然洁净，提高后续向拖擦件提供养护液时，拖擦件上养护液的液量和纯度足够高。

在一些实施方式中，如图6所示，在步骤S120向拖擦件提供养护液之后，方法还包括步骤S130：控制清洁设备对待处理表面进行养护处理。

示例性的，控制清洁设备100在待处理表面移动，且清洁设备100在待处理表面移动过程中拖擦件与待处理表面接触，即在清洁设备100的移动过程中，拖擦件上的养护液可以在均匀的覆盖到待处理表面的不同位置，实现对待处理表面的养护。

在一些实施方式中，请参阅图6，在步骤S110控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗之前，方法还包括步骤S101至步骤S103。

步骤S101、获取对待处理表面进行养护处理的养护任务对应的执行指令。

示例性的，可以通过交互单元获取用户设置的养护任务对应的执行指令；或者可以基于预设的养护条件自动生成养护任务对应的执行指令。举例而言，可以根据以下至少一种信息确定是否自动生成养护任务对应的执行指令：预设的养护周期、最近预设时长的天气、待处理表面的历史清洁数据；其中，待处理表面的历史清洁数据包括但不限于以下至少一种：历史脏污程度、历史清洁频次。

步骤S102、基于执行指令，确定对待处理表面的清洁任务是否完成。若是，则执行步骤S110以控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗。

对待处理表面的清洁任务，包括清洁设备100对待处理表面进行清洁处理。示例性的，完成对待处理表面的清洁任务的时刻与获取执行指令的时刻之间的时间间隔小于或等于预设值。举例而言，确定待处理表面最近一次清洁任务完成的时刻，与获取执行指令的时刻之间的时间间隔小于或等于预设值，可以确定待处理表面的清洁任务已经完成，在获取到执行指令的时刻，该待处理表面处于比较干净的状态。通过在待处理表面处于比较干净的状态的情况下，控制清洁***对拖擦件进行清洗、向拖擦件提供养护液，以及控制清洁设备100对待处理表面进行养护处理，可以防止待处理表面的脏污影响养护液覆盖到待处理表面，以提高对待处理表面的养护效果。

步骤S103、若否，则等待对待处理表面的清洁任务完成后，控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗。

基于执行指令确定对待处理表面的清洁任务未完成，则可以确定待处理表面有时会处于较脏的状态。举例而言，待处理表面最近一次清洁任务完成的时刻，与获取执行指令的时刻之间的时间间隔大于预设值，则待处理表面有时会处于较脏的状态。通过在待处理表面较脏或者无法保证待处理表面处于干净的状态的情况下，在对待处理表面的清洁任务完成使得待处理表面处于干净的状态下，对拖擦件进行清洗、向拖擦件提供养护液，以及控制清洁设备100对待处理表面进行养护处理，可以防止待处理表面的脏污影响养护液覆盖到待处理表面，以提高对待处理表面的养护效果。

在一些实施方式中，养护任务对应的执行指令可以称为养护指令。当获取到养护指令，且待处理表面在预设时长内未进行过清洁时，确定处理模式为清洁模式，以控制清洁设备100对待处理表面进行清洁，使得该待处理表面处于比较干净的状态；以及在待处理表面进行清洁之后，确定处理模式为养护模式。通过在待处理表面处于比较干净的状态的情况下，控制清洁设备100对待处理表面进行养护处理，可以防止待处理表面的脏污影响养护液覆盖到待处理表面，以提高对待处理表面的养护效果。

示例性的，还可以当获取到清洁指令时，确定待处理表面的处理模式为清洁模式。例如可以通过交互单元获取用户设置的清洁指令；或者可以基于预设的清洁条件，如清洁周期自动生成清洁指令。

确定待处理表面的处理模式为清洁模式的情况下，可以控制清洁设备100对待处理表面进行清洁，清洁设备100对待处理表面进行清洁时控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转，以提高对待处理表面的清洁效果。

可选的，在待处理表面进行清洁之后，且在以养护模式对待处理表面进行处理之前，方法还包括：对拖擦件进行清洗和干燥处理。干净且干燥的拖擦件可以便于充分吸收水路***30提供的养护液，且利于养护液在拖擦件上的均匀分布；从而在后续通过该拖擦件对待处理表面进行养护时，养护液可以充分、均匀的覆盖到待处理表面，提高养护效果。

示例性的，当获取到养护指令，且待处理表面在预设时长内已进行过清洁时，确定处理模式为养护模式。

在一些实施方式中，清洁设备100对待处理表面进行养护处理时拖擦件的运动方式，与清洁设备100对待处理表面进行清洁处理时拖擦件的运动方式不同。

示例性的，清洁设备100对待处理表面进行清洁处理时控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转；拖擦件相对于机体旋转可以提高对待处理表面的清洁效果，例如可以增大拖擦件与待处理表面之间的摩擦，便于待处理表面的脏污脱离而被拖擦件吸附。

在养护模式下，清洁***向清洁设备100的拖擦件提供养护液，以及控制清洁设备100通过该拖擦件对待处理表面进行养护。清洁设备100对待处理表面进行养护处理时未控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转，可以减少拖擦件与待清洁表面之间的摩擦，避免在待处理表面留下明显的拖擦件运动痕迹(例如旋转或摆动痕迹)，影响养护效果。并且，可以使得拖擦件上的养护液均匀的覆盖到待清洁表面，以提高养护效果。

在一些实施方式中，请参阅图7，步骤S120向拖擦件提供养护液，包括步骤S121：在清洁设备执行对待处理表面进行养护的养护任务之前，向拖擦件提供养护液。

在向拖擦件提供养护液之后，可以开始执行对待处理表面进行养护的养护任务；具体的，控制清洁设备100移动到待清洁表面，之后在待清洁表面移动且在移动过程中拖擦件与待处理表面接触，实现对待处理表面的养护。

举例而言，清洁设备100对待处理表面进行养护处理时未控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转；例如拖擦件相对于机体不进行旋转。通过保持拖擦件不旋转，可以减少拖擦件与待清洁表面之间的摩擦，避免在待处理表面留下明显的拖擦件运动痕迹(例如旋转或摆动痕迹)，影响养护效果。并且，可以使得拖擦件上的养护液均匀的覆盖到待清洁表面，以提高养护效果。

可选的，清洁设备100还可以包括锁止组件，清洁设备100对待处理表面进行养护处理时控制锁止组件限制拖擦件相对于机体的旋转。举例而言，锁止组件可以包括夹设机构，夹设机构可以对拖擦件和/或驱动电机的转轴施加压力，以限制拖擦件相对于机体的旋转；或者锁止组件可以包括卡设机构，也可以限制拖擦件相对于机体的旋转。通过保持拖擦件不旋转，可以减少拖擦件于待清洁表面之间的摩擦，例如拖擦件上的养护液均匀的覆盖到待清洁表面，以提高养护效果。

当然，可以理解的是，清洁设备100对待处理表面进行养护处理时拖擦件的运动方式，与清洁设备100对待处理表面进行清洁处理时拖擦件的运动方式不同。还可以是在清洁模式下，清洁设备100的拖擦件的旋转速度大于养护模式下清洁设备的拖擦件的旋转速度。又或者，拖擦件可以沿清洁设备100的运动方向水平往复运动，又可以旋转运动；示例性的，可以在清洁模式下，拖擦件旋转运动，而在养护模式下，拖擦件可以水平往复运动。本申请实施例中，对于清洁设备100是养护模式下和在清洁模式下，拖擦件的运动方式的不同具体不做限定。

在一些实施方式中，如图8a所示，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行清洁处理时，清洁设备100进行间歇性朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。可以防止清洁设备100的拖擦件11与障碍物之间产生清洁死角，提升对障碍物附近待处理表面的清洁效果。

可选的，如图8b所示，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行养护处理时，清洁设备100未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。避免在待处理表面留下明显的拖擦件运动痕迹(例如旋转或摆动痕迹)，影响养护效果。并且可以减少拖擦件与待清洁表面之间的摩擦，例如拖擦件上的养护液均匀的覆盖到所接触待清洁表面，以提高养护效果。

在一些实施方式中，请参阅图7，步骤S120向拖擦件提供养护液，还可以包括步骤S122：在清洁设备执行对待处理表面进行养护的养护任务的过程中，且满足养护液补充条件时，向拖擦件提供养护液。

示例性的，请参阅图7，在养护任务对应的待处理表面均已进行养护之后，可以确定结束对待处理表面进行养护的养护任务，还可以对拖擦件进行清洗。在养护任务对应的待处理表面中，还有待处理表面未进行养护时，可以确定当前还处于执行对待处理表面进行养护的养护任务的过程中。

示例性的，在清洁设备100执行对待处理表面进行养护的养护任务的过程中，且满足养护液补充条件时，控制清洁设备100移动到清洁基站200，以便清洁基站200通过水路***30向拖擦件提供养护液。

如图7所示，在步骤S122向拖擦件提供养护液之后，可以控制清洁设备100继续执行养护任务，具体的，移动到还未进行养护的待清洁表面，通过补充了养护液的拖擦件继续对还未进行养护的待清洁表面进行养护。

可选的，根据处理模式控制清洁设备100对待处理表面进行处理，包括：根据处理模式控制清洁设备100对不同区域的待处理表面进行处理；不同区域的待处理表面的处理顺序，根据不同区域的待处理表面与清洁设备100的清洁基站200之间的距离确定。例如在步骤S121向拖擦件提供养护液(第一次提供养护液)之后，先控制清洁设备100对距离清洁基站200最远的待处理表面进行养护；在养护任务的过程中第一次满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液(第二次提供养护液)之后，控制清洁设备100对距离清洁基站200较远的待处理表面进行养护；在养护任务的过程中第二次满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液(第三次提供养护液)之后，控制清洁设备100对距离清洁基站200较近的待处理表面进行养护；以此类推，直至养护任务对应的待处理表面均已进行养护处理。可以防止清洁设备100对后养护处理的待处理表面进行养护时，还需要先通过已养护处理过的待处理区域而影响已养护处理过的待处理区域的养护效果。

示例性的，满足养护液补充条件，包括以下至少一种：对待处理表面进行养护处理的面积达到面积阈值、在对待处理表面进行养护处理时清洁设备100移动的距离达到距离阈值、拖擦件上养护液的液量小于或等于液量阈值、识别到养护后的待处理表面存在预设缺陷。

举例而言，在最近一次向拖擦件提供养护液之后，清洁设备100进行养护处理的面积达到面积阈值(如10平方米)和/或移动的距离达到距离阈值时，可以向拖擦件补充养护液，以便在通过补充了养护液的拖擦件继续对还未进行养护的待清洁表面进行养护时，保证较好的养护效果。

举例而言，可以检测拖擦件上养护液的液量，当拖擦件上养护液的液量小于或等于液量阈值时，向拖擦件补充养护液，以便在通过补充了养护液的拖擦件继续对还未进行养护的待清洁表面进行养护时，保证较好的养护效果。

举例而言，可以通过视觉识别模型等检测养护后的待处理表面是否仍存在褪色、变形、龟裂、变色等预设缺陷；如果最近一段时间养护后的待处理表面均是仍存在预设缺陷，则向拖擦件补充养护液；以提高养护效果，防止养护后的待处理表面仍存在预设缺陷的情况发生。

由于在执行养护任务之前第一次向拖擦件提供养护液之前，第二管路32中残留了水或者空气。因此，在执行养护任务之前第一次向拖擦件提供养护液的过程中，需要将第二管路32中的水或者空气排出，以保证后续清洁设备100执行养护任务的过程中补充养护液的量与第一次补充养护液的量基本一致。基于此，本申请实施例提供以下可实现方式：

可选的，在清洁设备100执行养护任务之前向拖擦件提供养护液的时长，大于在清洁设备100执行养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液的时长。

举例而言，请参阅图9，执行养护任务之前第一次向拖擦件提供养护液，时长可以为7秒；执行养护任务以对待处理表面进行养护处理的过程中拖擦件上的养护液被消耗，在满足养护液补充条件时再次向拖擦件提供养护液，其中满足第一次养护液补充条件时向拖擦件提供养护液可以称为向拖擦件第二次提供养护液，之后继续执行养护任务，且在再次满足养护液补充条件时向拖擦件第三次提供养护液；以此类推，直至养护任务对应的待处理表面均已养护。

举例而言，执行养护任务之前，第二管路32的至少部分管路内部没有养护液；通过延长提供养护液的时长，可以使得第二管路32中充满养护液，且可以使得拖擦件吸附足够量的养护液，以保证养护效果，例如第二泵体321运行的前四秒可以使得第二管路32中充满养护液，后三秒可以通过第二管路32向拖擦件提供养护液；执行养护任务的过程中且满足养护液补充条件时，第二管路32中还留有较多的养护液，通过较少的时长补充养护液即可使得提供给拖擦件的养护液的液量和第一次向拖擦件提供的养护液的液量相差无几，实现定量的向拖擦件提供养护液；通过定量的向拖擦件提供养护液，可以使得每次提供养护液后的拖擦件对待处理表面进行养护处理时，养护处理后的待处理表面上的养护液分布均匀，养护效果一致。

在一些实施方式中，可以控制清洁***的水路***30，使得在清洁设备100执行养护任务之前水路***30的养护液输送管路(即第二管路32)中留存的养护液的液量，与在清洁设备100执行养护任务的过程中养护液输送管路中留存的养护液的液量相等，且在清洁设备100执行养护任务之前向拖擦件提供养护液的时长，等于在清洁设备100执行养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液的时长。例如可以控制第二管路32上的第二泵体321使得第二管路32中养护液的液量持续相等，例如使得第二管路32中持续充满养护液。在每次向拖擦件提供养护液时，提供养护液的时长相等，也可以实现定量的向拖擦件提供养护液。

可选的，在清洁设备100执行养护任务之前向拖擦件提供养护液的液量，等于在清洁设备100执行养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液的液量。举例而言，可以在第二管路32或者第二泵体321上设置流量传感器，在向拖擦件提供养护液的液量等于预设液量时，控制第二泵体321停止输送养护液。通过定量的向拖擦件提供养护液，可以使得每次提供养护液后的拖擦件对待处理表面进行养护处理时，养护处理后的待处理表面上的养护液分布均匀，养护效果一致。

可选的，在清洁设备100执行养护任务之前向拖擦件提供养护液的液量，大于在清洁设备100执行养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向拖擦件提供养护液的液量。

举例而言，执行养护任务之前，拖擦件上没有养护液，通过延长提供养护液的时长，以使得拖擦件吸附足够量的养护液，以保证养护效果；在执行养护任务的过程中拖擦件上的养护液部分覆盖到待处理表面，在满足养护液补充条件时，拖擦件上还留存有一些养护液，通过较少的时长补充养护液，可以使得补充后拖擦件上的养护液与第一次向拖擦件提供养护液后拖擦件上的养护液的液量相差无几，即可以使得拖擦件上的养护液定量；可以使得每次提供养护液后的拖擦件养护处理后的待处理表面上的养护液分布均匀，养护效果一致。

在一些实施方式中，向拖擦件提供养护液的次数大于或等于预设次数阈值的情况下，控制清洁基站200执行抽污任务。

示例性的，清洁基站200包括抽污组件和抽污管道，抽污组件与抽污管道连通；例如抽污管道连通停靠位201以及污水箱，或者连通停靠位201和排污管；抽污组件启动时可以将停靠位201处的液体经抽污管道排出。执行抽污任务包括启动抽污组件，以使停靠位201的液体经抽污管道排出。

举例而言，请参阅图9，执行养护任务之前向拖擦件提供养护液可以称为一次提供养护液；之后执行养护任务的过程中每次满足养护液补充条件时清洁设备100移动到清洁基站200时清洁基站200向拖擦件提供养护液也可以称为一次提供养护液。

举例而言，向拖擦件提供养护液的次数等于3次的情况下，例如在第三次提供养护液时，可以控制清洁基站200执行抽污任务。可选的，每次执行抽污任务之后可以将向拖擦件提供养护液的次数清零，之后向拖擦件提供养护液的次数等于3次的情况下，可以再次控制清洁基站200执行抽污任务；即每三次提供养护液可以执行一次抽污任务。

向拖擦件提供养护液的次数大于或等于预设次数阈值的情况下，停靠位201处有时会积累一些养护液和清水的混合液，有时还会混有一些脏污；通过控制清洁基站200执行抽污任务可以防止停靠位201处积累的液体影响拖擦件吸收水路***30提供的养护液，以保证拖擦件的养护效果。

可选的，请结合图5b参阅图9，第二管路32与第二泵体321连通，在通过第二管路32输送养护液时，在至少一个时间段控制第二管路32上的第二泵体321以预设占空比运行，预设占空比大于或等于10％且小于或等于90％。

如图9所示，第一次提供养护液的过程中第一泵体311持续运行7秒，其中有两秒第二泵体321以50％的占空比运行；第二次提供养护液的过程中第一泵体311持续运行3秒，其中至少有0.75秒第二泵体321以50％的占空比运行。通过控制第二泵体321以预设占空比运行，可以便于控制养护液和清水混合的比例；例如在第二泵体321以100％真空比运行时流量较大的情况下，通过控制第二泵体321以较低的占空比运行可以降低第二泵体321的流量，便于控制养护液和清水混合的比例。

可选的，请结合图5b参阅图9，在通过第二管路32输送养护液时，第二管路32上的第二泵体321间歇性的运行与停止运行。

如图9所示，第二次提供养护液的过程中，第二泵体321运行0.75秒后停止0.75秒，之后循环该过程，即再次运行0.75秒后停止0.75秒。通过控制第二泵体321间歇性的运行与停止运行，可以便于控制养护液和清水混合的比例。第二泵体321运行时也可以以预设占空比运行，更便于控制养护液和清水混合的比例。

可选的，如图9所示，在清洁设备100执行养护任务的过程中最后一次提供养护液的情况下，控制清洁基站200执行抽污任务。例如可以在养护任务对应的待处理表面的面积和已经养护过的待处理表面的面积之差小于或等于面积阈值时，确定最后一次提供养护液。

举例而言，最后一次提供养护液时执行抽污任务的时长可以大于之前提供养护液时抽污任务的时长，最后一次提供养护液时执行抽污任务的时长可以为18秒。可以在最后一次提供养护液时控制第二管路32上的第二泵体321以预设占空比(如50％)运行3秒补充养护液，以及通过延长执行抽污任务防止停靠位201处积累的液体影响拖擦件吸收水路***30提供的养护液，以保证拖擦件的养护效果。

在一些实施方式中，如图6所示，方法还可以包括步骤S140：在待处理表面均已进行养护处理之后，对拖擦件进行清洗；以去除拖擦件上残留的养护液，还可以去除拖擦件上的脏污，以便后续对待清洁表面进行清洁处理，保证对地面等待清洁表面的清洁效果。

示例性的，清洁设备100对待清洁表面进行清洁处理之后，也可以对拖擦件进行清洗，以去除拖擦件上的脏污，以便对还未清洁的待清洁表面进行清洁处理。

可选的，在待处理表面均已进行养护处理之后对拖擦件进行清洗时的预设清洗参数，大于向拖擦件提供养护液之前对拖擦件进行清洗时的预设清洗参数，例如大于清洁设备100对待清洁表面进行清洁处理之后对拖擦件进行清洗时的预设清洗参数。预设清洗参数包括以下至少一种：清洗时长、清洁液的液量、清洁液中清洁物质的浓度、拖擦件的旋转速度、清洗后的干净程度。

通过在对待处理表面进行养护处理的拖擦件进行清洗时，采用较大的预设清洗参数，可以加大清洗力度，提高对该拖擦件的清洗效果，减少拖擦件上养护液的残留；例如可以在检测到拖擦件达到足够清洁或者清洗拖擦件后的污水足够清洁的情况下才停止对该拖擦件的清洗。以便后续在对待清洁表面进行清洁处理，保证对地面等待清洁表面的清洁效果。

在一些实施方式中，清洁设备100对待处理表面进行处理时拖擦件的运动方式可以是根据处理模式确定的；其中至少两种处理模式对应的拖擦件的运动方式不同。通过根据待处理表面的处理模式调整对应的拖擦件的运动方式，可以使得拖擦件的运动方式与待处理表面的处理模式以及护理液的类型匹配，便于清洁***基于不同的处理模式对待处理表面进行处理，且能够保证各处理模式具有较好的处理效果。

处理模式为清洁模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转。处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时未控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转。

清洁设备100对待处理表面进行清洁处理时拖擦件相对于机体旋转可以提高对待处理表面的清洁效果，例如可以增大拖擦件与待处理表面之间的摩擦，便于待处理表面的脏污脱离而被拖擦件吸附。清洁设备100对待处理表面进行养护处理时，通过保持拖擦件不旋转，可以减少拖擦件与待清洁表面之间的摩擦，避免在待处理表面留下明显的拖擦件运动痕迹(例如旋转或摆动痕迹)，影响养护效果。并且，可以使得拖擦件上的养护液均匀的覆盖到待清洁表面，以提高养护效果。

处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时还可以控制锁止组件限制拖擦件相对于机体的旋转。以减少拖擦件于待清洁表面之间的摩擦。

请参阅图8a和图8b,处理模式为清洁模式的情况下，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行处理时，清洁设备100进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆；可以防止清洁设备100的拖擦件11与障碍物之间产生清洁死角。处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行处理时，清洁设备100未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆；避免在待处理表面留下明显的拖擦件运动痕迹(例如旋转或摆动痕迹)，影响养护效果。并且可以减少拖擦件与待清洁表面之间的摩擦，提高养护效果。

本申请实施例提供的清洁***的控制方法，清洁***至少包括清洁设备100，清洁设备100包括机体和拖擦件，控制方法包括：控制清洁***提供清洗液，以对拖擦件进行清洗，且对拖擦件进行清洗时控制拖擦件相对于机体旋转；向拖擦件提供养护液，且在向拖擦件提供养护液时，控制拖擦件相对于机体旋转；其中，向拖擦件提供养护液时拖擦件的旋转速度，小于对拖擦件进行清洗时拖擦件的旋转速度。可以通过清洁***较好地对清洁设备100的拖擦件提供养护液，从而可以利用清洁设备100对待处理表面进行养护处理，且具有较好的养护效果；能够解决日常使用过程中地面划痕，褪色、变形、龟裂、光泽降低等问题，提高用户使用清洁***的体验。而且相较于手动养护的耗时耗力和请专业团队养护的高昂价格，可以减轻用户负担。

请结合上述实施例参阅图10，图10是本申请另一实施例提供的清洁***的控制方法的流程示意图。

如图10所示，清洁***的控制方法包括步骤S210至步骤S230。

步骤S210、获取待处理表面的处理模式。

步骤S220、根据处理模式控制清洁设备对待处理表面进行处理，清洁设备100对待处理表面进行处理时拖擦件的运动方式是根据处理模式确定的；其中，至少两种处理模式对应的拖擦件的运动方式不同，且拖擦件上护理液的类型不同。

通过根据待处理表面的处理模式调整对应的拖擦件的运动方式，可以使得拖擦件的运动方式与待处理表面的处理模式以及护理液的类型匹配，便于清洁***基于不同的处理模式对待处理表面进行处理，且能够保证各处理模式具有较好的处理效果。

在一些实施方式中，清洁设备100还包括驱动组件；

处理模式包括养护模式，在养护模式下拖擦件上的护理液包括养护液；处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时未控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转；和/或

处理模式还包括清洁模式，在清洁模式下拖擦件上的护理液包括清洁液；处理模式为清洁模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时控制驱动组件驱动拖擦件相对于机体旋转。

在一些实施方式中，清洁设备100还包括锁止组件，处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100对待处理表面进行处理时控制锁止组件限制拖擦件相对于机体的旋转。

在一些实施方式中，处理模式为清洁模式的情况下，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行处理时，清洁设备100进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆；和/或

处理模式为养护模式的情况下，清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行处理时，清洁设备100未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。

清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行清洁处理时，进行间歇性朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。清洁设备100在沿障碍物行进而对待处理表面进行养护处理时，清洁设备100未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。

在一些实施方式中，获取待处理表面的处理模式，包括：

当获取到养护指令，且待处理表面在预设时长内已进行过清洁时，确定处理模式为养护模式。

在一些实施方式中，获取待处理表面的处理模式，还包括：

当获取到养护指令，且待处理表面在预设时长内未进行过清洁时，确定处理模式为清洁模式，以控制清洁设备100对待处理表面进行清洁；以及

在待处理表面进行清洁之后，确定处理模式为养护模式。

本申请实施例提供的清洁***的控制方法，包括：获取待处理表面的处理模式；根据处理模式控制清洁设备100对待处理表面进行处理，清洁设备100对待处理表面进行处理时拖擦件的运动方式是根据处理模式确定的；其中，至少两种处理模式对应的拖擦件的运动方式不同，且拖擦件上护理液的类型不同。通过根据待处理表面的处理模式调整对应的拖擦件的运动方式，可以使得拖擦件的运动方式与待处理表面的处理模式以及护理液的类型匹配，便于清洁***基于不同的处理模式对待处理表面进行处理，且能够保证各处理模式具有较好的处理效果。

请结合上述实施例参阅图11，图11是本申请实施例提供的清洁***的示意性框图。

清洁***包括：处理器301和存储器302，存储器302用于存储计算机程序。处理器301可以是微控制单元(M i cro-contro l l er Un it，MCU)、中央处理单元(Centra lProcess i ng Un it，CPU)或数字信号处理器(Di gita l Si gna lProcessor，DSP)等。具体地，存储器302可以是F l ash芯片、只读存储器(ROM，Read-On l y Memory)磁盘、光盘、U盘或移动硬盘等。其中，处理器301用于执行存储在存储器302中的计算机程序，并在执行计算机程序时实现前述任一实施例的方法的步骤。

处理器301和存储器302可以通过总线303连接，该总线303比如为I 2C(I nter-integrated Ci rcu i t)总线。

在一些实施方式中，清洁***包括清洁基站、清洁设备和控制器，清洁基站具有供清洁设备停靠的停靠位，其中，控制器用于执行前述的清洁***的控制方法的步骤。举例而言，控制器包括处理器301和存储器302。

控制器可以设置在清洁基站上，或者可以设置在清洁设备上；或者控制器的部分设置在清洁基站上，另一部分设置在清洁设备上；当然也不限于此，例如控制器为清洁基站、清洁设备之外的独立设备，举例而言，控制器可以为任意智能终端。

本申请实施例提供的清洁***的具体原理和实现方式均与前述实施例的方法类似，此处不再赘述。

本申请实施例还提供一种计算机可读存储介质，计算机可读存储介质存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时使处理器实现上述任一实施例的方法的步骤。

其中，计算机可读存储介质可以是前述任一实施例的清洁***的内部存储单元，例如清洁设备或清洁基站的硬盘或内存。计算机可读存储介质也可以是清洁设备或清洁基站的外部存储设备，例如清洁设备上配备的插接式硬盘，智能存储卡(Smart Med i aCard，SMC)，安全数字(Secure Di gita l，SD)卡，闪存卡(F l ash Card)等。

应当理解，在此本申请中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本申请。

还应当理解，在本申请和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。

以上所述，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (24)

1.一种清洁***的控制方法，其特征在于，所述清洁***至少包括清洁设备，所述清洁设备包括机体和拖擦件，所述控制方法包括：

控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗，且对所述拖擦件进行清洗时，控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；

向所述拖擦件提供养护液，且在向所述拖擦件提供养护液时，控制所述拖擦件相对于所述机体旋转；

其中，向所述拖擦件提供养护液时所述拖擦件的旋转速度，小于对所述拖擦件进行清洗时所述拖擦件的旋转速度。

2.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述清洁***包括清洁基站及清洁设备，所述清洁基站具有供所述清洁设备停靠的停靠位；

所述向所述拖擦件提供养护液是在所述清洁设备停靠于所述停靠位的情况下执行的。

3.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述清洁基站包括养护液输送***；在所述清洁设备位于所述清洁基站的停靠位的情况下，所述清洁基站通过养护液输送***给所述拖擦件提供养护液；

和/或，向所述拖擦件提供养护液时所述拖擦件对所述停靠位上用于支撑所述拖擦件的表面的压力，小于对所述拖擦件进行清洗时所述拖擦件对所述停靠位上用于支撑所述拖擦件的表面的压力。

4.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，在对所述拖擦件进行清洗之后，且在向所述拖擦件提供养护液之前，所述方法还包括：

在对所述拖擦件进行清洗之后，提高所述拖擦件相对于所述机体旋转的旋转速度，以对所述拖擦件进行甩干；

和/或，在对所述拖擦件进行清洗之后，控制所述清洁设备在待处理表面移动预设时长或预设面积，且所述清洁设备在所述待处理表面移动过程中所述拖擦件与所述待处理表面接触。

5.根据权利要求1所述的控制方法，其特征在于，在控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗之前，所述方法还包括：

获取对待处理表面进行养护处理的养护任务对应的执行指令；

基于所述执行指令，确定对所述待处理表面的清洁任务是否完成，若是，则控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗；

若否，则等待对所述待处理表面的清洁任务完成后，控制所述清洁***提供清洗液，以对所述拖擦件进行清洗；

其中，完成对所述待处理表面的清洁任务的时刻与获取所述执行指令的时刻之间的时间间隔小于或等于预设值。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述向所述拖擦件提供养护液，包括：

在清洁设备执行对待处理表面进行养护的养护任务之前，向所述拖擦件提供养护液；

在所述清洁设备执行对所述待处理表面进行养护的养护任务的过程中，且满足养护液补充条件时，向所述拖擦件提供养护液；

其中，在所述清洁设备执行所述养护任务之前向所述拖擦件提供养护液的时长，大于在所述清洁设备执行所述养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向所述拖擦件提供养护液的时长；和/或

控制所述清洁***的水路***，以使在所述清洁设备执行所述养护任务之前所述水路***的养护液输送管路中留存的养护液的液量，与在所述清洁设备执行所述养护任务的过程中所述养护液输送管路中留存的养护液的液量相等，且在所述清洁设备执行所述养护任务之前向所述拖擦件提供养护液的时长，等于在所述清洁设备执行所述养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向所述拖擦件提供养护液的时长；和/或

在所述清洁设备执行所述养护任务之前向所述拖擦件提供养护液的液量，大于或等于在所述清洁设备执行所述养护任务的过程中且满足养护液补充条件时向所述拖擦件提供养护液的液量。

7.根据权利要求6所述的控制方法，其特征在于，所述满足养护液补充条件，包括以下至少一种：对所述待处理表面进行养护处理的面积达到面积阈值、在对所述待处理表面进行养护处理时所述清洁设备移动的距离达到距离阈值、所述拖擦件上养护液的液量小于或等于液量阈值、识别到养护后的待处理表面存在预设缺陷。

8.根据权利要求1-5中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述清洁***包括水路***，所述水路***包括第一管路和第二管路，所述第一管路连通清水源，所述第二管路连通养护液模块；所述向所述拖擦件提供养护液，包括：

通过所述第一管路输送清水，以及

在输送清水时通过所述第二管路输送养护液。

9.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，所述水路***还包括混液模块，所述第一管路与所述第二管路共同连通至所述混液模块，所述混液模块对清水和养护液进行混合，混合后的养护液经所述混液模块的出口提供给所述拖擦件；其中，所述混液模块包括管路和/或混液腔室。

10.根据权利要求8所述的控制方法，其特征在于，所述第二管路与第二泵体连通，在通过第二管路输送养护液时，在至少一个时间段控制所述第二管路上的第二泵体以预设占空比运行，所述预设占空比大于或等于10％且小于或等于90％；和/或

在通过第二管路输送养护液时，所述第二管路上的第二泵体间歇性的运行与停止运行。

11.根据权利要求2所述的控制方法，其特征在于，所述方法还包括：

向所述拖擦件提供养护液的次数大于或等于预设次数阈值的情况下，控制所述清洁基站执行抽污任务；

其中，所述清洁基站包括抽污组件和抽污管道，所述执行抽污任务包括启动所述抽污组件，以使所述停靠位的液体经所述抽污管道排出。

12.根据权利要求1-5中任一项所述的控制方法，其特征在于，在所述向所述拖擦件提供养护液之后，所述方法还包括：控制所述清洁设备对待处理表面进行养护处理；

在所述待处理表面均已进行养护处理之后，对所述拖擦件进行清洗；

其中，在所述待处理表面均已进行养护处理之后对所述拖擦件进行清洗时的预设清洗参数，大于向所述拖擦件提供养护液之前对所述拖擦件进行清洗时的预设清洗参数；

所述预设清洗参数包括以下至少一种：清洗时长、清洁液的液量、清洁液中清洁物质的浓度、所述拖擦件的旋转速度、清洗后的干净程度。

13.根据权利要求1-5中任一项所述的控制方法，其特征在于，在所述向所述拖擦件提供养护液之后，所述方法还包括：控制所述清洁设备对待处理表面进行养护处理；

所述清洁设备对待处理表面进行养护处理时所述拖擦件的运动方式，与所述清洁设备对待处理表面进行清洁处理时所述拖擦件的运动方式不同。

14.根据权利要求13所述的控制方法，其特征在于，所述清洁设备还包括驱动组件，所述清洁设备对所述待处理表面进行清洁处理时控制所述驱动组件驱动所述拖擦件相对于所述机体旋转；

所述清洁设备对待处理表面进行养护处理时未控制所述驱动组件驱动所述拖擦件相对于所述机体旋转。

15.根据权利要求14所述的控制方法，其特征在于，所述清洁设备还包括锁止组件，所述清洁设备对待处理表面进行养护处理时控制所述锁止组件限制所述拖擦件相对于所述机体的旋转。

16.根据权利要求1-5中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述清洁设备在沿障碍物行进而对待处理表面进行清洁处理时，所述清洁设备进行间歇性朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆；和/或

所述清洁设备在沿障碍物行进而对所述待处理表面进行养护处理时，所述清洁设备未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。

17.一种清洁***的控制方法，其特征在于，所述清洁***至少包括清洁设备，所述清洁设备包括机体和拖擦件，所述控制方法包括：

获取待处理表面的处理模式；

根据所述处理模式控制所述清洁设备对所述待处理表面进行处理，所述清洁设备对所述待处理表面进行处理时所述拖擦件的运动方式是根据所述处理模式确定的；

其中，至少两种所述处理模式对应的拖擦件的运动方式不同，且所述拖擦件上护理液的类型不同。

18.根据权利要求17所述的控制方法，其特征在于，所述清洁设备还包括驱动组件；

所述处理模式包括养护模式，在所述养护模式下所述拖擦件上的护理液包括养护液；所述处理模式为养护模式的情况下，所述清洁设备对所述待处理表面进行处理时未控制所述驱动组件驱动所述拖擦件相对于所述机体旋转；和/或

所述处理模式还包括清洁模式，在所述清洁模式下所述拖擦件上的护理液包括清洁液；所述处理模式为清洁模式的情况下，所述清洁设备对所述待处理表面进行处理时控制所述驱动组件驱动所述拖擦件相对于所述机体旋转。

19.根据权利要求18所述的控制方法，其特征在于，所述清洁设备还包括锁止组件，所述处理模式为养护模式的情况下，所述清洁设备对所述待处理表面进行处理时控制所述锁止组件限制所述拖擦件相对于所述机体的旋转。

20.根据权利要求17所述的控制方法，其特征在于，所述处理模式为清洁模式的情况下，所述清洁设备在沿障碍物行进而对所述待处理表面进行处理时，所述清洁设备进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆；和/或

所述处理模式为养护模式的情况下，所述清洁设备在沿障碍物行进而对所述待处理表面进行处理时，所述清洁设备未进行间歇性的朝向障碍物的偏转和远离障碍物的回摆。

21.根据权利要求18-20中任一项所述的控制方法，其特征在于，所述获取待处理表面的处理模式，包括：

当获取到养护指令，且所述待处理表面在预设时长内已进行过清洁时，确定所述处理模式为养护模式。

22.根据权利要求21所述的控制方法，其特征在于，所述获取待处理表面的处理模式，还包括：

当获取到养护指令，且所述待处理表面在预设时长内未进行过清洁时，确定所述处理模式为清洁模式，以控制所述清洁设备对所述待处理表面进行清洁；以及

在所述待处理表面进行清洁之后，确定所述处理模式为养护模式。

23.一种清洁***，其特征在于，所述清洁***包括：处理器和存储器，所述存储器用于存储计算机程序；所述处理器用于执行所述计算机程序并在执行所述计算机程序时，实现：

如权利要求1-16中任一项所述的清洁***的控制方法的步骤；和/或

权利要求17至22中任一项所述的清洁***的控制方法的步骤。

24.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时使所述处理器实现：

如权利要求1-16中任一项所述的清洁***的控制方法的步骤；和/或

权利要求17至22中任一项所述的清洁***的控制方法的步骤。