CN118201389A - 具有发光器件和光学透镜的显示装置 - Google Patents

具有发光器件和光学透镜的显示装置 Download PDF

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Abstract

本申请公开了具有发光器件和光学透镜的显示装置。该显示装置包括堆叠在器件基板的发射区域上的发光器件和光学透镜。可以在器件基板的非发射区域上设置黑矩阵和触摸电极。可以在器件基板的发射区域和非发射区域上设置覆盖发光器件的封装单元和覆盖黑矩阵的光学绝缘层。可以在光学绝缘层上设置触摸电极和光学透镜。可以在光学绝缘层上设置透镜屏障。光学透镜可以被透镜屏障包围。因此，在显示装置中，可以防止由于回流工艺而导致的光学透镜的变形。因此，在显示装置中，可以防止由于形成光学透镜的工艺而导致的图像质量下降。

Description

具有发光器件和光学透镜的显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求于2022年12月13日提交的韩国专利申请第10-2022-0173495号的权益，该韩国专利申请在此通过引用并入，如同在本文中完整阐述一样。
技术领域
本公开内容涉及在器件基板的每个发射区域上设置有发光器件和光学透镜的显示装置。
背景技术
通常，显示装置提供图像。例如，显示装置可以包括多个像素区域。可以在每个像素区域中限定发射区域。例如，可以在每个像素区域的发射区域中设置发光器件和光学透镜。
发光器件可以发射显示特定颜色的光。例如，发光器件可以包括依次堆叠的第一电极、发光层和第二电极。光学透镜可以聚集从发光器件发射的光。例如，每个像素区域的光学透镜可以具有比对应像素区域的发射区域更大的尺寸。
光学透镜的表面可以是曲面。例如，光学透镜的横截面可以是半球形形状。光学透镜可以通过回流工艺形成。然而，在显示装置中，每个像素区域的光学透镜可能通过回流工艺与相邻像素区域的光学透镜接触。因此，在显示装置中，一些光学透镜的形状可能变形。光学透镜的形状偏差可能使所实现的图像失真。因此，在显示装置中，图像的质量可能由于形成光学透镜的工艺而降低。
发明内容
因此，本公开内容涉及一种基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而引起的一个或更多个问题的显示装置。
本公开内容的目的是提供一种能够防止图像质量由于形成光学透镜的工艺而降低的显示装置。
本公开内容的另一目的是提供一种能够防止每个光学透镜由于回流工艺而变形的显示装置。
本公开内容的附加优点、目的和特征将部分地在下面的描述中阐述，并且部分地对于本领域普通技术人员在研究以下内容时将变得明显，或者可以从本公开内容的实践中习得。本公开内容的目的和其他优点可以通过在书面说明书及其权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和获得。
为了实现这些目的和其他优点并且根据本公开内容的目的，如本文所体现和广泛描述的，提供了一种包括器件基板的显示装置。在器件基板上设置堤绝缘层。堤绝缘层限定发射区域。在发射区域上设置发光器件。在堤绝缘层和发光器件上设置封装单元。在封装单元上设置黑矩阵和光学透镜。黑矩阵与堤绝缘层交叠。光学透镜与发射区域交叠。在封装单元与光学透镜之间设置光学绝缘层。光学绝缘层覆盖黑矩阵。在光学绝缘层上设置触摸电极和透镜屏障。触摸电极与黑矩阵交叠。透镜屏障包围光学透镜。
透镜屏障可以包括绝缘材料。
透镜屏障可以与光学透镜的边缘接触。
透镜屏障可以沿着光学透镜的边缘延伸。
透镜屏障可以与光学绝缘层的与器件基板相对的上表面接触。
透镜屏障可以包括与光学绝缘层相同的材料。
桥电极可以设置在黑矩阵与光学绝缘层之间。桥电极可以电连接至触摸电极。
桥电极可以与黑矩阵的朝向触摸电极的上表面接触。
触摸电极的一端可以设置在透镜屏障上。
透镜屏障的厚度可以大于触摸电极的厚度。
在另一实施方式中，提供了一种包括器件基板的显示装置。器件基板包括发射区域和非发射区域。非发射区域设置在发射区域之间。在器件基板的发射区域上设置发光器件。在发光器件上设置封装单元。封装单元在器件基板的非发射区域上延伸。在封装单元上设置黑矩阵。黑矩阵与非发射区域交叠。在黑矩阵上设置光学绝缘层。光学绝缘层在器件基板的发射区域上延伸。在光学绝缘层上设置触摸电极、光学透镜和透镜屏障。触摸电极与黑矩阵交叠。光学透镜与发射区域交叠。透镜屏障设置在光学透镜之间。
光学透镜中的每一个可以被透镜屏障包围。每个透镜屏障的平面可以具有与对应的光学透镜的轮廓不同的形状。
透镜屏障中的每一个可以设置在触摸电极中的一个的边缘上。
透镜屏障可以包括与触摸电极相同的材料。
透镜屏障可以与光学透镜间隔开。
在另一实施方式中，显示装置包括具有第一发射区域和第二发射区域的基板。第一发光器件在第一发射区域中，并且第二发光器件在第二发射区域中。显示装置包括在第一发光器件和第二发光器件上的光学绝缘层、以及在光学绝缘层上的第一光学透镜。第一光学透镜的至少一部分与第一发光器件交叠。显示装置包括在光学绝缘层上的第二光学透镜。第二光学透镜的至少一部分与第二发光器件交叠。显示装置还包括在光学绝缘层上的透镜屏障。透镜屏障在第一方向上在光学绝缘层上方突出，并且设置在第一光学透镜与第二光学透镜之间。
附图说明
附图被包括以提供对本公开内容的进一步理解并且被并入本申请并构成本申请的一部分，附图示出了本公开内容的实施方式并且与说明书一起用于说明本公开内容的原理。在附图中：
图1和图2是示意性地示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的视图。
图3是根据本公开内容的实施方式的图2中的K的放大视图。
图4是根据本公开内容的实施方式的沿着图3的I-I’截取的视图。
图5至图9分别是示出根据本公开内容的另一实施方式的显示装置的视图。
具体实施方式
在下文中，参照附图通过以下详细描述将清楚地理解与本公开内容的实施方式的上述目的、技术配置和操作效果有关的细节，这些附图示出了本公开内容的一些实施方式。在此，提供本公开内容的实施方式以便使本公开内容的技术精神能够令人满意地传递给本领域技术人员，并且因此本公开内容可以以其他形式体现，并且不限于下面所描述的实施方式。
另外，在整个说明书中，可以通过相同的附图标记来指代相同或极其相似的元件，并且为了方便起见，在附图中，可以夸大层和区域的长度和厚度。应当理解，当第一元件被称为在第二元件“上”时，尽管第一元件可以设置在第二元件上以便与第二元件接触，但是可以在第一元件与第二元件之间***第三元件。
在此，例如，诸如“第一”和“第二”的术语可以用于区分任何一个元件与另一元件。然而，在不脱离本公开内容的技术精神的情况下，可以根据本领域技术人员的方便来任意地命名第一元件和第二元件。
在本公开内容的说明书中使用的术语仅是为了描述特定的实施方式而使用，并不旨在限制本公开内容的范围。例如，除非上下文另有明确指出，否则以单数形式描述的元件旨在包括多个元件。另外，在本公开内容的说明书中，还应当理解，术语“包括”和“包含”指定所述特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在，但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、部件和/或组合。
而且，除非使用“直接”，否则术语“连接”和“耦接”可以包括两个部件通过位于两个部件之间的一个或更多个其他部件“连接”或“耦接”。
除非另外限定，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与示例实施方式所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，术语(诸如在常用词典中定义的那些术语)应该被解释为具有与其在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且除非在本文中明确定义，否则不应该以理想化或过于正式的意义来解释。
(实施方式)
图1和图2是示意性地示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的视图。图3是根据本公开内容的实施方式的图2中的K的放大视图。图4是根据本公开内容的实施方式的沿着图3的I-I’截取的视图。
参照图1至图4，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以包括器件基板100。器件基板100可以包括绝缘材料。例如，器件基板100可以包括玻璃或塑料。器件基板100可以包括显示区域AA和边框区域BZ。显示区域AA可以是生成提供给用户的图像的区域。例如，多个像素区域PA可以设置在显示区域AA中。
像素区域PA中的每一个可以实现特定颜色。例如，可以在每个像素区域PA中设置发光器件130和电连接至发光器件130的像素驱动电路。发光器件130可以发射显示特定颜色的光。例如，发光器件130可以包括依次堆叠在器件基板100上的第一电极131、发光层132和第二电极133。
第一电极131可以包括导电材料。第一电极131可以包括具有高反射率的材料。例如，第一电极131可以是金属，例如铝(Al)和银(Ag)。第一电极131可以具有多层结构。例如，第一电极131可以具有如下结构：由金属制成的反射电极设置在由诸如ITO和IZO的透明导电材料制成的透明电极之间。
发光层132可以产生具有与第一电极131和第二电极133之间的电压差相对应的亮度的光。例如，发光层132可以包括具有发射材料的发射材料层(EML)。发射材料可以包括有机材料、无机材料或混合材料。例如，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以是包括有机发射材料的有机发光显示装置。
发光层132可以具有多层结构。例如，发光层132可以进一步包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一个。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以提高发光层132的发射效率。
第二电极133可以包括导电材料。第二电极133可以包括与第一电极131不同的材料。第二电极133的透射率可以高于第一电极131的透射率。例如，第二电极133可以是由诸如ITO和IZO的透明导电材料制成的透明电极。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，由发光层132产生的光可以通过第二电极133发射到外部。
可以在每个像素区域PA的像素驱动电路中提供各种信号。例如，每个像素区域PA的像素驱动电路可以电连接至施加栅极信号的栅极线GL之一和施加数据信号的数据线DL之一。每个像素区域PA的像素驱动电路可以根据一帧的栅极信号向对应像素区域PA的发光器件130供应与数据信号对应的驱动电流。例如，每个像素区域PA的像素驱动电路可以包括第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2和存储电容器Cst。
第一薄膜晶体管T1可以包括第一半导体图案、第一栅电极、第一源电极和第一漏电极。第一薄膜晶体管T1可以根据栅极信号将数据信号传输至第二薄膜晶体管T2。例如，第一薄膜晶体管T1可以是开关薄膜晶体管。第一薄膜晶体管T1的第一栅电极可以电连接至对应的栅极线GL，并且第一薄膜晶体管T1的第一源电极可以电连接至对应的数据线DL。
第二薄膜晶体管T2可以包括第二半导体图案121、第二栅电极123、第二源电极125和第二漏电极127。第二薄膜晶体管T2可以产生与数据信号相对应的驱动电流。例如，第二薄膜晶体管T2可以是驱动薄膜晶体管。第二薄膜晶体管T2的第二栅电极123可以电连接至第一薄膜晶体管T1的第一漏电极，并且第二薄膜晶体管T2的第二源电极125可以电连接至供应正电源电压(VDD)的信号线。发光器件130可以电连接至第二薄膜晶体管T2。例如，第二薄膜晶体管T2的第二漏电极127可以电连接至发光器件130。
第二半导体图案121可以包括半导体材料。例如，第二半导体图案121可以包括氧化物半导体，例如IGZO。第二半导体图案121可以包括源极区、沟道区和漏极区。沟道区可以设置在源极区与漏极区之间。源极区和漏极区可以具有比沟道区低的电阻。例如，源极区和漏极区可以包括氧化物半导体的导电区域。沟道区可以是氧化物半导体的区域，其是非导电的。
第二半导体图案121可以包括在第二漏极区与第二源极区之间的第二沟道区。第二漏极区和第二源极区可以具有比第二沟道区小的电阻。例如，第二漏极区和第二源极区可以包括导电杂质。第二沟道区可以是其中未掺杂导电杂质的区域。
第二栅电极123可以包括导电材料。例如，第二栅电极123可以包括金属，例如铝(Al)、铬(Cr)、铜(Cu)、钼(Mo)、钛(Ti)和钨(W)。第二栅电极123可以设置在第二半导体图案121上。例如，第二栅电极123可以与第二半导体图案121的沟道区交叠。第二栅电极123可以与第二半导体图案121绝缘。例如，第二半导体图案121的沟道区可以具有与施加至第二栅电极123的电压相对应的导电性。
第二源电极125可以包括导电材料。例如，第二源电极125可以包括金属，例如铝(Al)、铬(Cr)、铜(Cu)、钼(Mo)、钛(Ti)和钨(W)。第二源电极125可以包括与第二栅电极123不同的材料。第二源电极125可以设置在与第二栅电极123不同的层上。例如，第二源电极125可以与第二栅电极123绝缘。第二源电极125可以电连接至第二半导体图案121的源极区。
第二漏电极127可以包括导电材料。例如，第二漏电极127可以包括金属，例如铝(Al)、铬(Cr)、铜(Cu)、钼(Mo)、钛(Ti)和钨(W)。第二漏电极127可以包括与第二栅电极123不同的材料。第二漏电极127可以设置在与第二栅电极123不同的层上。例如，第二漏电极127可以与第二栅电极123绝缘。第二漏电极127可以设置在与第二源电极125相同的层上。第二漏电极127可以包括与第二源电极125相同的材料。例如，第二漏电极127可以与第二源电极125同时形成。第二漏电极127可以与第二源电极125绝缘。例如，第二漏电极127可以电连接至第二半导体图案121的漏极区。
第一薄膜晶体管T1可以与第二薄膜晶体管T2同时形成。例如，第一薄膜晶体管T1的第一半导体图案可以包括与第二薄膜晶体管T2的第二半导体图案121相同的材料，并且第一薄膜晶体管T1的第一栅电极可以包括与第二薄膜晶体管T2的第二栅电极123相同的材料。第一薄膜晶体管T1的第一源电极和第一漏电极可以设置在与第二薄膜晶体管T2的第二源电极125和第二漏电极127相同的层上。
存储电容器Cst可以将施加至第二薄膜晶体管T2的第二栅电极123的信号维持一帧。例如，存储电容器Cst可以电连接在第二薄膜晶体管T2的第二栅电极123与第二漏电极127之间。存储电容器Cst可以具有电容器电极的堆叠结构。例如，可以通过使用形成第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2的工艺来形成存储电容器Cst。例如，存储电容器Cst可以包括设置在与第二栅电极123相同的层上的第一电容器电极、以及设置在与第二漏电极127相同的层上的第二电容器电极。
可以在器件基板100上设置用于防止每个像素区域PA中不必要的电连接的多个绝缘层111、112、113、114、115和116。例如，可以在器件基板100上设置器件缓冲层111、栅极绝缘层112、层间绝缘层113、器件钝化层114、上覆层115和堤绝缘层116。
器件缓冲层111可以被设置成靠近器件基板100。器件缓冲层111可以防止在每个像素区域PA中形成像素驱动电路的工艺中由于器件基板100造成的污染。例如，器件基板100的朝向每个像素区域PA的像素驱动电路的上表面可以被器件缓冲层111覆盖。每个像素区域PA的第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2可以设置在器件缓冲层111上。器件缓冲层111可以包括绝缘材料。例如，器件缓冲层111可以包括无机绝缘材料，例如硅氧化物(SiOx)和硅氮化物(SiNx)。器件缓冲层111可以包括多层结构。例如，器件缓冲层111可以具有由硅氧化物(SiOx)制成的无机绝缘层和由硅氮化物(SiNx)制成的无机绝缘层的堆叠结构。
栅极绝缘层112可以在每个薄膜晶体管T1和T2的半导体图案与栅电极之间绝缘。例如，每个像素区域PA的第二半导体图案121可以设置在器件缓冲层111与栅极绝缘层112之间。栅极绝缘层112可以覆盖每个像素区域PA的第一半导体图案和第二半导体图案121。每个像素区域PA的第一栅电极和第二栅电极123可以设置在栅极绝缘层112上。栅极绝缘层112可以包括绝缘材料。例如，栅极绝缘层112可以包括无机绝缘材料，例如硅氧化物(SiOx)。
层间绝缘层113可以使每个薄膜晶体管T1和T2的源电极和漏电极与对应的薄膜晶体管T1、T2的栅电极绝缘。例如，每个像素区域PA中的第二薄膜晶体管T2的第二栅电极123可以设置在栅极绝缘层112与层间绝缘层113之间。每个像素区域PA中的第二薄膜晶体管T2的第二源电极125和第二漏电极127可以设置在层间绝缘层113上。层间绝缘层113可以包括绝缘材料。例如，层间绝缘层113可以包括无机绝缘材料，例如硅氧化物(SiOx)和硅氮化物(SiNx)。层间绝缘层113可以具有多层结构。
器件钝化层114可以设置在每个像素区域PA的像素驱动电路上。器件钝化层114可以防止每个像素区域PA的像素驱动电路由于外部冲击和湿气而损坏。器件钝化层114可以沿着每个像素驱动电路的与器件基板100相反的表面延伸。例如，每个像素驱动电路的第二源电极125和第二漏电极127可以被器件钝化层114覆盖。器件钝化层114可以包括绝缘材料。例如，器件钝化层114可以包括无机绝缘材料，例如硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)。
可以在器件钝化层114上设置上覆层115。上覆层115可以消除由于每个像素区域PA的像素驱动电路引起的厚度差。例如，由于每个像素区域PA的第一薄膜晶体管T1和第二薄膜晶体管T2引起的厚度差可以通过上覆层115消除。上覆层115的与器件基板100相反的上表面可以是平坦表面。上覆层115可以包括绝缘材料。上覆层115可以包括与器件钝化层114不同的材料。例如，上覆层115可以包括有机绝缘材料。
可以在上覆层115上设置每个像素区域PA的发光器件130。例如，可以在对应像素区域PA的上覆层115上依次堆叠每个像素区域PA的第一电极131、发光层132和第二电极133。每个像素区域PA的第一电极131可以与上覆层115的上表面直接接触。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止根据从每个发光器件130发射的光的产生位置的亮度偏差。
每个像素区域PA的第一电极131可以电连接至对应像素区域PA的第二漏电极127。例如，器件钝化层114和上覆层115可以包括部分地暴露每个像素区域PA的第二漏电极127的电极接触孔，并且每个发光器件130的第一电极131可以通过电极接触孔之一与对应像素区域PA的第二漏电极127直接接触。
可以在上覆层115上设置堤绝缘层116。堤绝缘层116可以在每个像素区域PA中限定发射区域BEA、GEA和REA。例如，堤绝缘层116可以覆盖每个像素区域PA中的第一电极131的边缘。每个像素区域PA的发光层132和第二电极133可以依次堆叠在对应的第一电极131的由堤绝缘层116暴露的部分上。例如，每个像素区域PA的发光器件130可以设置在对应像素区域PA中限定的发射区域BEA、GEA和REA上。每个像素区域PA的第一电极131可以通过堤绝缘层116与相邻像素区域PA的第一电极131绝缘。设置有堤绝缘层116的区域可以是不发光的非发射区域NA。例如，非发射区域NA可以设置在发射区域BEA、GEA和REA之间。
从每个像素区域PA的发光器件130发射的光可以显示与从相邻像素区域PA的发光器件130发射的光不同的颜色。例如，由堤绝缘层116在每个像素区域PA中限定的发射区域BEA、GEA和REA可以是通过其发射显示蓝色的光的蓝色发射区域BEA、通过其发射显示绿色的光的绿色发射区域GEA和通过其发射显示红色的光的红色发射区域REA中的一个。每个发射区域BEA、GEA和REA的大小可以与相邻发射区域BEA、GEA和REA的大小不同。
像素区域PA可以在第一方向和垂直于第一方向的第二方向上并排设置。例如，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以在列方向上重复其中交替设置包括红色发射区域REA的像素区域PA和包括蓝色发射区域BEA的像素区域PA的第一行、以及其中设置包括绿色发射区域GEA的像素区域PA的第二行。从每个像素区域PA的发射区域BEA、GEA和REA发射的光可以显示与从行方向上的相邻像素区域PA的发射区域BEA、GEA和REA发射的光不同的颜色、以及与从列方向上的相邻像素区域PA的发射区域BEA、GEA和REA发射的光不同的颜色。行方向和列方向可以不同于第一方向和第二方向。例如，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以具有pentile结构，其中第一行的红色发射区域REA和蓝色发射区域BEA与第二行的绿色发射区域GEA交替布置。
每个像素区域PA的发光层132可以与相邻像素区域PA的发光层132间隔开。每个像素区域PA的发光层132可以单独形成。例如，每个像素区域PA的发光层132可以由精细金属掩模(FMM)形成。
施加至每个像素区域PA的第二电极133的电压可以与施加至相邻像素区域PA的第二电极133的电压相同。例如，负电源电压(VSS)可以施加至每个像素区域PA的第二电极133。每个像素区域PA的第二电极133可以电连接至相邻像素区域PA的第二电极133。每个像素区域PA的第二电极133可以包括与相邻像素区域PA的第二电极133相同的材料。例如，每个像素区域PA的第二电极133可以与相邻像素区域PA的第二电极133同时形成。每个像素区域PA的第二电极133可以与相邻像素区域PA的第二电极133直接接触。例如，每个像素区域PA的第二电极133可以在堤绝缘层116上延伸。堤绝缘层116可以被第二电极133覆盖。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以简化在每个像素区域PA中形成第二电极133的工艺。并且，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以通过施加至对应像素区域PA的像素驱动电路的数据信号来调节从每个像素区域PA的发光器件130发射的光的亮度。
可以在每个像素区域PA的发光器件130上设置封装单元200。封装单元200可以防止由于外部冲击和湿气而导致的发光器件130的损坏。封装单元200可以具有多层结构。例如，封装单元200可以包括依次堆叠的第一封装层210、第二封装层220和第三封装层230。第一封装层210、第二封装层220和第三封装层230可以包括绝缘材料。第二封装层220可以包括与第一封装层210和第三封装层230不同的材料。例如，第一封装层210和第三封装层230可以是由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)制成的无机绝缘层，并且第二封装层220可以是由有机绝缘材料制成的有机绝缘层。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以有效地防止由于外部冲击和湿气而导致的发光器件130的损坏。
封装单元200可以完全覆盖发光器件130。例如，器件基板100的显示区域AA可以被封装单元200完全覆盖。边框区域BZ可以设置在显示区域AA之外。例如，显示区域AA可以被边框区域BZ包围。可以在边框区域BZ上设置至少一个坝106。坝106可以阻挡包括有机绝缘材料的第二封装层220的流动。例如，第二封装层220可以形成在由坝106限定的区域中。
可以在边框区域BZ上设置显示焊盘104。可以通过显示焊盘104提供施加至每个像素区域PA的像素驱动电路的各种信号。显示焊盘104可以设置在封装单元200之外。例如，坝106可以设置在显示区域AA与显示焊盘104之间。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止一些显示焊盘104被第二封装层220无意地覆盖。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止通过显示焊盘104传输的信号的失真。
可以在封装单元200上设置触摸传感器Cm。触摸传感器Cm可以感测用户和/或工具的触摸。例如，触摸传感器Cm可以通过互电容的变化来感测触摸的存在或不存在以及触摸位置。触摸传感器Cm可以包括第一触摸线310和第二触摸线320。
可以向第一触摸线310施加触摸驱动信号。例如，第一触摸线310可以是触摸驱动线。第一触摸线310中的每一个可以包括第一触摸电极311和第一桥电极312。第一触摸电极311可以并排设置在封装单元200上。第一桥电极312可以电连接在第一触摸电极311之间。第一桥电极312中的每一个可以在第三方向上延伸。例如，第一触摸电极311中的每一个可以通过第一桥电极312中的一个在第三方向上电连接至相邻的第一触摸电极311。
第一触摸电极311可以包括导电材料。第一触摸电极311可以包括具有相对低电阻的材料。例如，第一触摸电极311可以包括金属，例如钛(Ti)、铜(Cu)、钼(Mo)和钽(Ta)。第一触摸电极311中的每一个可以具有多层结构。例如，第一触摸电极311可以具有三层结构，例如Ti/Al/Ti、MoTi/Cu/MoTi和Ti/Al/Mo。
第一桥电极312可以包括导电材料。第一桥电极312可以包括具有相对低电阻的材料。例如，第一桥电极312可以包括金属，例如钛(Ti)、铜(Cu)、钼(Mo)和钽(Ta)。第一桥电极312可以包括与第一触摸电极311相同的材料。第一桥电极312中的每一个可以具有多层结构。例如，第一桥电极312可以具有三层结构，例如Ti/Al/Ti、MoTi/Cu/MoTi和Ti/Al/Mo。第一桥电极312可以具有与第一触摸电极311相同的结构。第一桥电极312可以设置在与第一触摸电极311相同的层上。例如，第一桥电极312中的每一个可以与对应的第一触摸电极311直接接触。
第二触摸线320中的每一个可以包括第二触摸电极321和第二桥电极322。第二触摸电极321可以并排设置在封装单元200上。第二触摸电极321可以设置在与第一触摸电极311相同的层上。第二触摸电极321可以与第一触摸电极311绝缘。例如，第二触摸电极321可以设置在第一触摸电极311之间。第二触摸电极321可以具有与第一触摸电极311相同的形状。例如，第一触摸电极311和第二触摸电极321可以交替地布置在封装单元200上。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，由触摸驱动信号充电的电荷可以通过第二触摸线320放电。例如，第二触摸线320可以是触摸感测线。因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以使用触摸传感器Cm来感测用户和/或工具的触摸的存在或不存在以及触摸位置。
第二触摸电极321可以包括导电材料。第二触摸电极321可以包括具有相对低电阻的材料。例如，第二触摸电极321可以包括金属，例如钛(Ti)、铜(Cu)、钼(Mo)和钽(Ta)。第二触摸电极321可以包括与第一触摸电极311相同的材料。第二触摸电极321中的每一个可以具有多层结构。例如，第二触摸电极321可以具有三层结构，例如Ti/Al/Ti、MoTi/Cu/MoTi和Ti/Al/Mo。第二触摸电极321可以具有与第一触摸电极311相同的结构。
第二触摸电极321可以设置在与第一触摸电极311和第一桥电极312相同的层上。第二触摸电极321可以与第一桥电极312绝缘。第二触摸电极321可以与第一桥电极312间隔开。例如，第一桥电极312可以在第二触摸电极321之间穿过。
第二桥电极322可以电连接在第二触摸电极321之间。第二桥电极322中的每一个可以在第四方向上延伸。例如，第二触摸电极321中的每一个可以通过第二桥电极322中的一个在第四方向上连接至相邻的第二触摸电极321。第四方向可以不同于第三方向。例如，第四方向可以垂直于第三方向。第二桥电极322可以在第一触摸电极311之间穿过。例如，第二桥电极322中的每一个可以与第一桥电极312中的一个相交。第二桥电极322可以与第一桥电极312绝缘。第二桥电极322可以设置在与第一桥电极312不同的层上。例如，触摸传感器Cm可以包括在第二桥电极322上的光学绝缘层350，并且第一触摸电极311、第一桥电极312和第二触摸电极321可以设置在光学绝缘层350上。
光学绝缘层350可以包括绝缘材料。光学绝缘层350可以包括具有高透射率的材料。例如，光学绝缘层350可以包括有机绝缘材料。可以通过光学绝缘层350消除由于第二桥电极322引起的厚度差。例如，光学绝缘层350的与器件基板100相反的上表面可以是平坦表面。第一触摸电极311和第二触摸电极321可以与光学绝缘层350的上表面直接接触。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于第一触摸电极311和第二触摸电极321的位置偏差引起的用户和/或工具的触摸的失真。光学绝缘层350可以包括部分地暴露每个第二桥电极322的触摸接触孔。第二触摸电极321中的每一个可以通过触摸接触孔中的一个连接至对应的第二桥电极322。
第二桥电极322可以包括导电材料。第二桥电极322可以包括具有相对低电阻的材料。例如，第二桥电极322可以包括金属，例如钛(Ti)、铜(Cu)、钼(Mo)和钽(Ta)。第二桥电极322中的每一个可以具有多层结构。例如，第二桥电极322可以具有三层结构，例如Ti/Al/Ti、MoTi/Cu/MoTi和Ti/Al/Mo。
触摸传感器Cm的第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322可以设置在显示区域AA中。每个像素区域PA的发射区域BEA、GEA和REA可以设置在第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322之间。第一触摸线310和第二触摸线320可以设置在发光器件130之外。例如，第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322可以设置在器件基板100的非发射区域NA上。第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322可以与堤绝缘层116交叠。每个第一触摸电极311的平面和每个第二触摸电极321的平面可以具有网格形状，该网格形状包括与每个像素区域PA的发射区域BEA、GEA和REA交叠的开口。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以提高使用触摸传感器Cm的触摸感测的准确度，并且可以使由于触摸传感器Cm的第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322导致的光提取效率的降低最小化。
第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和第二桥电极322可以限制从每个发射区域BEA、GEA和REA发射的光的方向。例如，从每个发射区域BEA、GEA和REA向相邻的非发射区域NA行进的光可以被第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321或第二桥电极322阻挡。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止颜色混合。而且，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，视角会受到限制。
可以在器件基板100的边框区域BZ上设置触摸焊盘304。第一触摸线310和第二触摸线320可以通过触摸布线330电连接至触摸焊盘304。例如，触摸驱动信号可以通过触摸焊盘304中的一个施加至对应的第一触摸线310。触摸焊盘304可以与显示焊盘104并排设置。例如，坝106可以设置在触摸焊盘304与显示区域AA之间。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止一些触摸焊盘304被第二封装层220无意地覆盖。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止通过触摸焊盘304传输的信号的失真。
可以在封装单元200与光学绝缘层350之间设置黑矩阵400。黑矩阵400可以阻挡光。例如，黑矩阵400可以与器件基板100的非发射区域NA交叠。黑矩阵400可以设置在发射区域BEA、GEA和REA之间。例如，黑矩阵400的平面可以是围绕发射区域BEA、GEA和REA的形状。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，从每个发射区域BEA、GEA和REA向相邻的非发射区域NA发射的光可以被黑矩阵400阻挡，并且朝向光学绝缘层350中的相邻非发射区域NA行进的光可以被第一触摸电极311和第二触摸电极321阻挡。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以有效地防止颜色混合。
第二桥电极322中的每一个可以与黑矩阵400交叠。例如，第二桥电极322中的每一个可以设置在黑矩阵400与光学绝缘层350之间。第二桥电极322中的每一个可以与黑矩阵400的与器件基板100相反的上表面直接接触。第二桥电极322中的每一个可以具有比黑矩阵400更小的尺寸。例如，每个第二桥电极322的朝向器件基板100的下表面可以被黑矩阵400完全隐藏。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止从每个发射区域BEA、GEA和REA发射的光被第二桥电极322反射。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于光被第二桥电极322反射而导致的图像质量降低。
可以在触摸传感器Cm上设置透镜组件500。透镜组件500可以包括多个光学透镜510。光学透镜510可以设置在从发射区域BEA、GEA和REA发射的光的路径上。例如，光学透镜510中的每一个可以与发射区域BEA、GEA和REA中的一个交叠。光学透镜510中的每一个可以聚集从对应的发射区域BEA、GEA和REA发射的光。例如，每个光学透镜510的朝向器件基板100的下表面可以是平坦表面，并且每个光学透镜510的上表面可以是半圆形形状。光学透镜510可以并排设置在光学绝缘层350上。例如，每个光学透镜510的下表面可以与光学绝缘层350直接接触。每个光学透镜510的下表面的平面形状可以是圆形形状。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以提高每个像素区域PA的正面亮度。光学透镜510可以与光学绝缘层350的上表面直接接触。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止根据入射到每个光学透镜510的光的位置差的衍射偏差。
透镜组件500可以包括光学透镜510上的透镜钝化层520。光学透镜510中的每一个可以被透镜钝化层520覆盖。例如，每个光学透镜510的具有半圆形形状的上表面可以与透镜钝化层520直接接触。透镜钝化层520可以包括绝缘材料。例如，透镜钝化层520可以包括有机绝缘材料。可以通过透镜钝化层520消除由于光学透镜510引起的厚度差。例如，透镜钝化层520的与器件基板100相反的上表面可以是平坦表面。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止根据从每个像素区域PA发射的光的位置差的亮度偏差。透镜钝化层520的折射率可以小于每个光学透镜510的折射率。因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以防止由于对应的光学透镜510与透镜钝化层520之间的折射率差异而使穿过每个光学透镜510的光在器件基板100的方向上被反射。
可以在光学透镜510之间设置透镜屏障350b。光学透镜510中的每一个可以被透镜屏障350b中的一个包围。例如，透镜屏障350b中的每一个可以沿着光学透镜510中的一个的边缘延伸。光学透镜510中的每一个可以形成在由对应的透镜屏障350b限定的区域中。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于形成工艺而导致的每个光学透镜510的变形。例如，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以通过透镜屏障350b防止回流工艺中相邻光学透镜510之间的接触。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于形成光学透镜510的工艺而导致的图像质量降低。
在根据本公开内容的实施方式的该显示装置中，发光器件130可以包括在第一发射区域(例如，图4中的BEA)中的第一发光器件130和在第二相邻发射区域(例如，图4中的GEA)中的第二发光器件130。光学绝缘层350可以设置在第一发光器件和第二发光器件上，所述第一发光器件和第二发光器件可以设置在基板上。光学透镜510可以包括：第一光学透镜510，其在光学绝缘层350上以与第一发光器件130交叠；以及第二光学透镜510，其在光学绝缘层350上以与第二发光器件130交叠。
可以在光学绝缘层350上设置透镜屏障350b，使得透镜屏障350b在第一方向(例如，发光方向)上在光学绝缘层350上方突出，透镜屏障350b可以设置在第一光学透镜510与第二光学透镜510之间。类似地，第二透镜屏障可以与第二光学透镜相邻地形成。例如，透镜屏障350b可以包括与第一光学透镜510相邻设置的第一透镜屏障350b以及与第二光学透镜510相邻设置的第二透镜屏障350b。
每个光学透镜510的边缘可以与对应的透镜屏障350b直接接触。例如，每个透镜屏障350b的平面可以具有与对应的光学透镜510的轮廓相同的形状。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，每个光学透镜510的平面形状可以由对应的透镜屏障350b限定。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以通过透镜屏障350b有效地防止由于形成工艺而导致的每个光学透镜510的变形。
透镜屏障350b可以包括绝缘材料。透镜屏障350b可以设置在光学透镜510、第一触摸电极311和第二触摸电极321之间。例如，透镜屏障350b可以与光学绝缘层350的上表面直接接触。透镜屏障350b可以包括与光学绝缘层350相同的材料。可以在形成透镜屏障350b之后执行形成第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和光学透镜510的工艺。例如，形成透镜屏障350b的工艺可以包括使光学绝缘层350的与通过后续工艺形成的第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321和光学透镜510交叠的部分凹陷的工艺。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以简化形成透镜屏障350b的工艺。因此，在一个实施方式中，触摸电极的至少一部分(例如，第一触摸电极311、第一桥电极312、第二触摸电极321或第二桥电极322的一部分)可以设置在第一光学透镜510与第二光学透镜510之间，并且还可以设置在第一透镜屏障350b与第二透镜屏障350b之间。
透镜屏障350b中的每一个可以与黑矩阵400的边缘交叠。例如，透镜屏障350b可以设置在器件基板100的非发射区域NA上。每个光学透镜510的尺寸可以大于对应的发射区域BEA、GEA和REA的尺寸。例如，每个光学透镜510的边缘可以与黑矩阵400交叠。透镜屏障350b中的每一个可以设置在黑矩阵400的上表面上。例如，光学透镜510之间的距离可以具有小于非发射区域NA的尺寸。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以提高光提取效率。
每个透镜屏障350b的厚度可以大于每个触摸电极311和321的厚度。因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以防止每个光学透镜510的具有半圆形形状的上表面的一部分被第一触摸电极311、第一桥电极312或第二触摸电极321覆盖。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于触摸传感器Cm而导致的光提取效率降低。
因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以包括黑矩阵400、光学透镜510、触摸电极311和321以及透镜屏障350b，它们设置在覆盖发光器件130的封装单元200上，其中光学透镜510、触摸电极311和321以及透镜屏障350b可以设置在覆盖黑矩阵400的光学绝缘层350上，其中黑矩阵400和触摸电极311和321可以与器件基板100的非发射区域NA交叠，并且其中与发光器件130交叠的光学透镜510中的每一个可以被透镜屏障350b包围。因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以防止每个光学透镜510由于形成工艺而接触相邻的光学透镜510。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于形成光学透镜510的工艺而导致的图像质量降低。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为黑矩阵400具有与非发射区域NA相同的面积。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，黑矩阵400的尺寸可以小于非发射区域NA。也就是说，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，黑矩阵400可以形成在发射区域BEA、GEA和REA之间，以比非发射区域NA窄。因此，根据本公开内容的另一实施方式的显示装置可以防止由于未对准或工艺误差而在发射区域BEA、GEA和REA上形成黑矩阵400。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以防止由于黑矩阵400导致的光损失。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为通过回流工艺形成光学透镜510。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，光学透镜510可以以各种方式形成。例如，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，光学透镜510可以通过喷墨工艺形成在由透镜屏障350b限定的区域中。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，形成每个光学透镜510所施加的材料流可以被透镜屏障350b阻挡。也就是说，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以以各种方式形成具有相同形状的光学透镜510。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以提高形成光学透镜510的工艺的自由度。
在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，透镜屏障350b可以与光学透镜510间隔开。例如，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，触摸电极311和321中的一些的端部可以设置在相邻的透镜屏障350b上，如图5所示。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以不同地设置每个光学透镜510的形成区域。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为触摸电极311和321设置在透镜屏障350b之间。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，每个触摸电极311和321的端部可以设置在相邻的透镜屏障350b上，如图6所示。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，每个触摸电极311和321的尺寸可以增加或最大化。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以防止光学透镜510的变形，并且可以提高用户和/或工具的触摸感测的准确度。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为透镜屏障350b与光学绝缘层350直接接触。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，透镜屏障350b可以包括与光学绝缘层350不同的材料。例如，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，透镜屏障600b中的每一个可以设置在触摸电极311和321之一的边缘上，如图7所示。透镜屏障600b可以由无机绝缘材料或有机绝缘材料形成。每个触摸电极311和321的端部可以设置在光学绝缘层350与透镜屏障600b之一之间。第一透镜屏障600b和第二透镜屏障600b可以设置在第一光学透镜与第二光学透镜之间设置的触摸电极的一部分上。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，光学透镜510中的每一个可以与相邻的触摸电极311和321的端部接触。也就是说，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，每个光学透镜510的流动可以被触摸电极311和321的端部以及透镜屏障600b阻挡。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以提高透镜屏障600b的位置的自由度。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为透镜屏障350b包括绝缘材料。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，透镜屏障350b可以由金属形成。例如，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，透镜屏障300b中的每一个可以设置在触摸电极311和321中的一个的边缘上，其中可以使用形成触摸电极311和321的工艺来形成透镜屏障300b，如图8所示。例如，透镜屏障300b可以包括与触摸电极311和321相同的材料。因此，第一透镜屏障300b和第二透镜屏障300b可以从第一光学透镜510与第二光学透镜510之间的触摸电极的部分延伸，以在第一方向上突出。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以提高形成透镜屏障300b的工艺的自由度。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为每个光学透镜510的下表面的平面形状是圆形形状。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，由每个透镜屏障350b限定的区域的平面可以是多边形形状。例如，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，光学透镜510可以形成在由透镜屏障350b限定的区域中，其中每个光学透镜510的下表面的平面形状可以是五边形或六边形。每个光学透镜510的边缘可以与对应的透镜屏障350b的侧面接触。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以提高每个光学透镜510的下表面的形状的自由度。
根据本公开内容的实施方式的显示装置被描述为透镜屏障350b中的每一个沿着对应的光学透镜510的边缘延伸。然而，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，每个透镜屏障350b的平面可以具有与对应的光学透镜510的轮廓不同的形状。例如，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，每个透镜屏障350b的平面可以是多边形，例如正方形、五边形和六边形。在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，如图9所示，每个光学透镜510的下表面的平面形状可以是圆形形状，每个透镜屏障350b的平面可以是围绕对应的发射区域BEA、GEA和REA的正方形。每个发射区域BEA、GEA和REA的光学透镜510可以具有与对应的透镜屏障350b内切圆的形状。每个第一触摸电极311的一侧和每个第二触摸电极321的一侧可以与透镜屏障350b中的一个接触。因此，在根据本公开内容的另一实施方式的显示装置中，可以提高透镜屏障350b的平面形状的自由度。
因此，根据本公开内容的实施方式的显示装置可以包括黑矩阵、光学透镜、触摸电极和透镜屏障，它们设置在覆盖发光器件的封装单元上，其中光学透镜、触摸电极和透镜屏障可以设置在覆盖黑矩阵的光学绝缘层上，其中触摸电极可以与黑矩阵交叠，并且其中与发光器件交叠的光学透镜可以被透镜屏障包围。因此，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于回流工艺导致的光学透镜的变形。从而，在根据本公开内容的实施方式的显示装置中，可以防止由于形成光学透镜的工艺而导致的图像质量降低。

Claims (20)

1.一种显示装置，包括：
在器件基板上的堤绝缘层，所述堤绝缘层限定发射区域；
在所述器件基板的发射区域上的发光器件；
在所述堤绝缘层和所述发光器件上的封装单元；
在所述封装单元上的黑矩阵，所述黑矩阵与所述堤绝缘层交叠；
在所述封装单元上的光学透镜，所述光学透镜与所述发射区域交叠；
光学绝缘层，所述光学绝缘层设置在所述封装单元与所述光学透镜之间，所述光学绝缘层覆盖所述黑矩阵；
在所述光学绝缘层上的触摸电极，所述触摸电极与所述黑矩阵交叠；以及
在所述光学绝缘层上的透镜屏障，所述透镜屏障包围所述光学透镜。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述透镜屏障包括绝缘材料。
3.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，所述透镜屏障与所述光学透镜的边缘接触。
4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述透镜屏障沿着所述光学透镜的边缘延伸。
5.根据权利要求1或2所述的显示装置，其中，所述透镜屏障与所述光学绝缘层的与所述器件基板相反的上表面接触。
6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述透镜屏障包括与所述光学绝缘层相同的材料。
7.根据权利要求1或2所述的显示装置，还包括在所述黑矩阵与所述光学绝缘层之间的桥电极，所述桥电极电连接至所述触摸电极。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，所述桥电极与所述黑矩阵的朝向所述触摸电极的上表面接触。
9.根据权利要求1、2、4、6和8中任一项所述的显示装置，其中，所述触摸电极的端部设置在所述透镜屏障上。
10.根据权利要求1、2、4、6和8中任一项所述的显示装置，其中，所述透镜屏障的厚度大于所述触摸电极的厚度。
11.一种显示装置，包括：
器件基板，所述器件基板包括发射区域以及所述发射区域之间的非发射区域；
在所述器件基板的发射区域上的发光器件；
在所述发光器件上的封装单元，所述封装单元在所述器件基板的非发射区域上延伸；
在所述封装单元上的黑矩阵，所述黑矩阵与所述非发射区域交叠；
在所述黑矩阵上的光学绝缘层，所述光学绝缘层在所述器件基板的发射区域上延伸；
在所述光学绝缘层上的触摸电极，所述触摸电极与所述黑矩阵交叠；
在所述光学绝缘层上的光学透镜，所述光学透镜与所述发射区域交叠；以及
在所述光学绝缘层上的光学透镜之间的透镜屏障。
12.根据权利要求11所述的显示装置，其中，所述光学透镜中的每一个被所述透镜屏障包围，
其中，每个透镜屏障的平面具有与对应的光学透镜的轮廓不同的形状。
13.根据权利要求11或12所述的显示装置，其中，所述透镜屏障中的每一个被设置在所述触摸电极中的一个的边缘上。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述透镜屏障包括与所述触摸电极相同的材料。
15.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述透镜屏障与所述光学透镜间隔开。
16.一种显示装置，包括：
基板，所述基板具有第一发射区域和第二发射区域；
在所述第一发射区域中的第一发光器件和在所述第二发射区域中的第二发光器件；
在所述第一发光器件和所述第二发光器件上的光学绝缘层；
在所述光学绝缘层上的第一光学透镜，其中，所述第一光学透镜的至少一部分与所述第一发光器件交叠；
在所述光学绝缘层上的第二光学透镜，其中，所述第二光学透镜的至少一部分与所述第二发光器件交叠；以及
在所述光学绝缘层上的透镜屏障，其中，所述透镜屏障在第一方向上在所述光学绝缘层上方突出，并且设置在所述第一光学透镜与所述第二光学透镜之间。
17.根据权利要求16所述的显示装置，还包括在所述光学绝缘层上的触摸电极的至少一部分，所述触摸电极的所述一部分设置在所述第一光学透镜与所述第二光学透镜之间。
18.根据权利要求17所述的显示装置，还包括在所述光学绝缘层上的与所述第二光学透镜相邻的第二透镜屏障，并且其中，所述触摸电极的所述一部分在所述第一透镜屏障与所述第二透镜屏障之间。
19.根据权利要求17所述的显示装置，其中，所述第一光学透镜接触所述触摸电极的所述一部分的侧表面，并且所述透镜屏障设置在所述触摸电极的所述一部分的上表面上。
20.根据权利要求17或19所述的显示装置，其中，所述透镜屏障从所述触摸电极的所述一部分延伸以在所述第一方向上突出，并且所述透镜屏障由与所述触摸电极的所述一部分相同的材料形成。
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