CN117881235A - 显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括功能器件区、至少部分围绕功能器件区的显示区以及设于功能器件区和显示区之间的非显示区，显示面板包括：基板；发光层，设于基板一侧，发光层设于显示区；第一隔离结构，设于非显示区，第一隔离结构包括导电层；封装层，设于发光层背离基板一侧和第一隔离结构背离基板一侧；偏光片，设于封装层背离基板一侧；离子阻挡层，至少设于位于第一隔离结构背离基板一侧的封装层和偏光片之间，离子阻挡层设于非显示区。通过设置离子阻挡层，以利用离子阻挡层阻挡在可靠性测试中偏光片中的钾离子进入封装层，避免封装层因钾离子加剧水解反应，而导致的膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

Description

显示面板及显示装置

技术领域

本发明属于电子产品技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

随着科技的进步，智能手机、平板电脑等数字化显示装置得到广泛的应用，其中，显示屏是这些显示装置中不可或缺的人际沟通界面。诸如OLED(Organic Light EmittingDiode，有机发光二极管)显示面板，具有自发光、节能降耗、可弯曲、柔韧性佳等优点，且该实现显示的显示装置，其不需要背光源，具有反应速度快和显示效果好的特点，受到用户的关注，被广泛应用于智能手机、平板电脑等终端产品中。

但受到现有的显示面板的结构限制，显示面板的可靠性不能满足需求。

因此，亟需一种新的显示面板及显示装置。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，通过设置离子阻挡层，以利用离子阻挡层阻挡在可靠性测试中偏光片中的钾离子进入封装层，避免封装层因钾离子加剧水解反应，而导致的膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，其特征在于，包括功能器件区、至少部分围绕功能器件区的显示区以及设于所述功能器件区和所述显示区之间的非显示区，所述显示面板包括：基板；发光层，设于所述基板一侧，所述发光层设于所述显示区；第一隔离结构，设于所述非显示区，所述第一隔离结构包括导电层；封装层，设于所述发光层背离所述基板一侧和所述第一隔离结构背离所述基板一侧；偏光片，设于所述封装层背离所述基板一侧；离子阻挡层，至少设于位于所述第一隔离结构背离所述基板一侧的所述封装层和所述偏光片之间，所述离子阻挡层设于所述非显示区。

第二方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述任一实施例中的显示面板。

与相关技术相比，本发明实施例所提供的显示面板包括基板、发光层、第一隔离结构、封装层、偏光片以及离子阻挡层，在本实施例中，通过在封装层和偏光片之间设置离子阻挡层，且离子阻挡层至少对应第一隔离结构背离基板一侧设置，以利用离子阻挡层阻挡在可靠性测试中偏光片中的钾离子进入封装层，避免封装层因钾离子加剧水解反应，而导致的膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本发明一种实施例提供的显示面板的结构示意图；

图2是本发明一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；

图3是本发明另一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；

图4是本发明又一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；

图5是本发明又一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；

图6是根据本发明一种实施例提供的离子阻挡层的俯视图；

图7是根据本发明一种实施例提供的离子阻挡层的膜层结构图；

图8是根据本发明另一种实施例提供的离子阻挡层的俯视图；

图9是根据本发明又一种实施例提供的离子阻挡层的俯视图；

图10是根据本发明另一种实施例提供的离子阻挡层的膜层结构图。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本发明的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

为了更好地理解本发明，下面结合图1至图10根据本发明实施例的显示面板及显示装置进行详细描述。

在现有技术中，通常需要采用可靠性验证(RA)试验对显示面板的可靠性进行测试，经由发明人研究发现，在RA过程中，由于偏光片的胶材中存在氟化钾残留，在显示面板上电时，因压差的存在，钾离子K⁺容易被吸引往第一隔离结构方向流动，进入封装层加剧水解反应，导致封装层底部或侧刻处膜层水解，封装层膨胀或者膜质疏松并析出氨气，最终导致封装层的底部或侧刻处出现膜层剥离、暗斑的问题。

为了解决上述问题，本发明实施例所提供的显示面板通过设置离子阻挡层，以利用离子阻挡层阻挡在可靠性测试中偏光片中的钾离子进入封装层，避免封装层因钾离子加剧水解反应，而导致的膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

请参阅图1至图2，图1是根据本发明一种实施例提供的显示面板的结构示意图；图2是本发明一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图。

本发明实施例提供了一种显示面板，包括功能器件区TA、至少部分围绕功能器件区TA的显示区AA以及设于功能器件区TA和显示区AA之间的非显示区NA，显示面板包括：基板1；发光层2，设于基板1一侧，发光层2设于显示区AA；第一隔离结构Z1，设于非显示区NA，第一隔离结构Z1包括导电层；封装层3，设于发光层2背离基板1一侧和第一隔离结构Z1背离基板1一侧；偏光片4，设于封装层3背离基板1一侧；离子阻挡层6，至少设于位于第一隔离结构Z1背离基板1一侧的封装层3和偏光片4之间，离子阻挡层6设于非显示区NA。

本发明实施例所提供的显示面板包括基板1、发光层2、第一隔离结构Z1、封装层3、偏光片4以及离子阻挡层6，在本实施例中，通过在封装层3和偏光片4之间设置离子阻挡层6，且离子阻挡层6至少对应第一隔离结构Z1背离基板1一侧设置，以利用离子阻挡层6阻挡在可靠性测试中偏光片4中的钾离子进入封装层3，避免封装层3因钾离子加剧水解反应，而导致的膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

在本实施例中，由于第一隔离结构Z1包括导电层，因而，第一隔离结构Z1的导电层可能会接入电信号，例如负电压信号，进而导致钾离子容易被导电层的负电压产生的压差吸引往第一隔离结构Z1方向流动，进而导致位于第一隔离结构Z1上方的封装层3因钾离子而出现膜层剥离、暗斑的问题，因而，本实施例至少在第一隔离结构Z1背离基板1一侧设置离子阻挡层6，以阻挡向第一隔离结构Z1方向流动的偏光片4中的钾离子。

可选的，第一隔离结构Z1可以包括至少一层无机层、至少一层有机层，以保证第一隔离结构Z1的高度满足需求，例如，在第一隔离结构Z1可以包括和位于显示区AA的像素定义层(图中未标出)同层设置的像素定义材料层等，像素定义层包括像素开口，发光层2至少部分位于像素开口内。

离子阻挡层6具体可以采用金属等能够阻挡钾离子通过的材料制备。

可选的，基板1可以为硬质基板，如玻璃基板；也可以为柔性基板，其材质可以为聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对二甲苯、聚醚砜或聚萘二甲酸乙二醇酯。基板1主要用于支撑设置在其上的器件。

可选的，显示面板还包括设于发光层2和基板1之间的第一电极层7，以及设于发光层2背离基板1一侧的第二电极层8。

可选的，发光层2包括电子注入层、电子传输层、发光材料层、空穴阻挡层、电子阻挡层、空穴传输层和空穴注入层中的一种或多种。具体可以根据发光层2的具体类型进行选择，并无特殊限定。电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层可设置于第二电极层8与发光材料层之间。电子阻挡层、空穴传输层和空穴注入层可设置于第一电极层7与发光材料层之间。

第一电极层7的材料一般为功函数高的材料，以便提高空穴注入效率，可为金(Au)、铂(Pt)、钛(Ti)、银(Ag)、氧化铟锡(ITO)、氧化锌锡(IZO)或透明导电聚合物(如聚苯胺)等。例如，第一电极层7可以采用ITO-Ag-ITO复合材料制成，并无特殊限定。可选的，第一电极层7接入高电位电源电压信号。

第二电极层8的材料可以为银(Ag)、铝(Al)、锂(Li)、镁(Mg)、镱(Yb)、钙(Ca)或铟(In)等金属材料的一种，还可以为前述金属材料的合金，如镁银合金(Mg/Ag)、锂铝合金(Li/Al)，对此，本实施例不作限制。可选的，第二电极层8接入低电位电源电压信号。

由于第二电极层8通常采用整层制备，并整层接入低电位电源电压信号，由于第一隔离结构Z1的隔断性能无法完全阻断位于显示区AA的第二电极层8和导电层之间的电连接关系，导致第一隔离结构Z1可能被接入电压信号，进而使得钾离子被吸引。

可选的，显示面板还包括设于基板1和第一电极层7之间的阵列层，阵列层可以包括驱动电路。例如，阵列层可以包括设置于衬底一侧且层叠设置的第一导电层、第二导电层、第三导电层。相邻的导电膜层之间均设置有绝缘层。示例性的，设置于阵列层的像素驱动电路包括晶体管P和存储电容(图中未示出)。晶体管P包括有源层Y、栅极G、源极S及漏极D。存储电容包括第一极板和第二极板。作为一个示例，栅极G及第一极板可以位于第一导电层，第二极板可以位于第二导电层，源极S、漏极D可以位于第三导电层。

需要说明的是，本实施例中的离子阻挡层6可以仅对应第一隔离结构Z1设置，也可以对应整个非显示区NA设置，以提高阻挡效果。

功能器件区TA可以用于设置摄像头、指纹识别元件等器件，而非显示区NA围绕功能器件区TA设置，并在非显示区NA设置第一隔离结构Z1，以利用第一隔离结构Z1阻挡外界水氧通过功能器件区TA进入显示面板的显示区AA，提高显示面板的可靠性。

可选的，封装层3包括至少一层无机层，可以理解的是，无机层的水氧阻隔效果更好，无机层可以采用氮化硅、氧化硅以及氮氧化硅中的至少一者制备。封装层3可以包括一层或者多层无机层，也可以包括有机层，以提高膜层的平坦度。

可选的，封装层3包括设于发光层2背离基板1一侧和第一隔离结构Z1背离基板1一侧的第一封装层31。第一封装层31的材料包括无机材料，即第一封装层31为无机封装层3，无机封装层3可以选用化学气相沉积的方法进行制备，能够提高第一封装层31的致密性，从而提高封装层3的封装效果。

可选的，封装层3还包括位于第一封装层31背离基板1一侧的第二封装层32，第二封装层32的材料包括有机材料。即第二封装层32为有机封装层3，有机封装层3可以选用喷墨打印的方式制备，可以使得封装层3具有合适的厚度。

可选的，封装层3还包括位于第二封装层32背离基板1一侧的第三封装层33，第三封装层33的材料包括无机材料。即第三封装层33为无机封装层3，在有机封装层3外继续增设一层无机封装层3能够进一步提高封装层3的封装效果。

可选的，第一封装层31的材料和第三封装层33的材料相同。使得第一封装层31和第三封装层33可以选用相同的设备进行制备，能够简化显示面板的制备工艺。

可选的，离子阻挡层6接地设置或离子阻挡层6接负电压电位设置，以使得钾离子更容易被离子阻挡层6吸引，并被离子阻挡层6所阻挡，避免钾离子从未设置离子阻挡层6的位置流入封装层3。

经由发明人研究发现，离子阻挡层6所接入的负电压电位越低，则离子阻挡层6对于钾离子的吸引力越大，因而，还可以设置一电压控制部和离子阻挡层6电连接，以通过电压控制部来控制离子阻挡层6所接入的电位大小。

可选的，电压控制部可以包括开关选择电路，以通过控制开光开闭，选择离子阻挡层6所接入的电位。

请参阅图2至图4，图3是本发明另一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；图4是本发明又一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；在一些可选的实施例中，显示面板还包括触控层5，触控层5设于封装层3背离基板1一侧，且触控层5设于显示区AA，触控层5包括至少一层触控导电层；离子阻挡层6和至少一层触控导电层同层设置。

可以理解的是，离子阻挡层6和至少一层触控导电层同层设置，是指，离子阻挡层6可以设置多层，也可以设置单层，但离子阻挡层6中的至少一层是和触控导电层同层设置，而同层设置可以理解为离子阻挡层6可以和触控导电层通过同一道工艺一同制备，离子阻挡层6和触控导电层采用相同的材料，以降低生产成本。例如，在图2和图3中，离子阻挡层6均只设置一层，或者如图4所示，离子阻挡层6设有两层。

在本实施例中，触控导电层可以包括触控电极块，也可以包括触控走线，可以根据实际需要进行设置，并无特殊限定。

可选的，触控导电层和离子阻挡层6均采用金属材料制备，例如铝、钛、银、钼等。

请参阅图2至图4，可选的，在沿远离基板1的方向上，触控层5包括层叠设置、且相互绝缘的第一触控导电层51以及第二触控导电层52；离子阻挡层6和第一触控导电层51以及第二触控导电层52中的至少一层同层设置。

需要说明的是，第一触控导电层51和第二触控导电层52可以用于分别设置触控电极块和触控走线，也可以第一触控导电层51和第二触控导电层52两层均设置有触控电极块。

离子阻挡层6可以设置一层，一层离子阻挡层6可以和第一触控导电层51、第二触控导电层52中的任一层同层设置，如图2或图3所示。或者，离子阻挡层6可以也设置两层，两层离子阻挡层6分别和第一触控导电层51、第二触控导电层52同层设置，如图4所示。

可选的，在第三封装层33和第一触控导电层51之间还包括触控衬底53，触控衬底53可以采用氮化硅、氧化硅以及氮氧化硅中的至少一者制备。

请参阅图4，在一些可选的实施例中，在沿远离基板1的方向上，离子阻挡层6包括层叠设置的第一阻挡层61和第二阻挡层62；第一阻挡层61和第一触控导电层51同层设置，第二阻挡层62和第二触控导电层52同层设置，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一阻挡层61和第二阻挡层62至少部分交叠，第一阻挡层61和第二阻挡层62之间通过过孔J连接。

在本实施例中，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一阻挡层61和第二阻挡层62至少部分交叠，即在交叠部分会同时设置第一阻挡层61和第二阻挡层62两层阻挡层，以提高阻挡效果，第一阻挡层61和第二阻挡层62之间通过过孔J连接，即第一阻挡层61和第二阻挡层62为电连接的整体，以便于第一阻挡层61和第二阻挡层62接地设置或接负电压电位设置，提高对于钾离子的吸引能力。

可选的，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一阻挡层61和第二阻挡层62可以部分交叠，如图5所示，也可以完全交叠，如图4所示。例如，第一阻挡层61在基板1上的正投影可以和第二阻挡层62在基板1上的正投影完全重合，或者，第一阻挡层61在基板1上的正投影可以和第二阻挡层62在基板1上的正投影部分重合。

请参阅图5至图7，图5是本发明又一种实施例提供的图1中B-B处的剖面示意图；图6是根据本发明一种实施例提供的离子阻挡层6的俯视图；图7是根据本发明一种实施例提供的离子阻挡层6的膜层结构图；在一些可选的实施例中，在沿远离基板1的方向上，离子阻挡层6包括层叠设置的第一阻挡层61和第二阻挡层62；第一阻挡层61和第一触控导电层51同层设置，第二阻挡层62和第二触控导电层52同层设置，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一阻挡层61在基板1上的正投影和第二阻挡层62的正投影在由功能器件区TA指向显示区AA的方向上交替设置。

需要说明的是，在本实施例中，第一阻挡层61和第二阻挡层62在基板1上的正投影均呈环形，第一阻挡层61和第二阻挡层62在基板1上的环形投影可以由功能器件区TA指向显示区AA的方向交替设置，即在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一阻挡层61在基板1上的正投影和第二阻挡层62的正投影在由功能器件区TA指向显示区AA的方向上交替设置，以提高第一阻挡层61和第二阻挡层62的利用率，且避免第一阻挡层61或第二阻挡层62的尺寸过大。

可选的，为了保证遮挡效果，第一阻挡层61和第二阻挡层62在基板1上的正投影边缘可以部分重合，以避免存在未被第一阻挡层61和第二阻挡层62所遮挡的部分，例如，在第一阻挡层61在基板1上的正投影和第二阻挡层62的正投影均呈圆环状时，第一阻挡层61和第二阻挡层62在基板1上的圆环状正投影的边缘可以部分重合。

请参阅图8，图8是根据本发明另一种实施例提供的离子阻挡层6的俯视图；在一些可选的实施例中，在沿远离基板1的方向上，离子阻挡层6包括层叠设置的第一阻挡层61和第二阻挡层62；显示面板还包括和第二阻挡层62同层设置、且电连接的电位连接部L，触控层5包括和第二阻挡层62同层设置触控补偿部B，触控补偿部B包括开口C，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，开口C和电位连接部L至少部分交叠。

需要说明的是，由于功能器件区TA通常采用圆形、椭圆形等具有弧边的形状，不利于设置触控电极块，因而，会在功能器件区TA的外侧对应设置触控补偿部B，以提高触控电极块的电容，保证功能器件区TA附近的触控效果。可选的，触控补偿部B的形状和功能器件区TA的形状相匹配，例如，在功能器件区TA呈圆形时，触控补偿部B对应呈圆环形。

由于第二阻挡层62需要通过电位连接部L接零电位或者负电压电位，为了便于将电位连接部L引出，在触控补偿部B对应设置开口C，以对电位连接部L进行避让，由于触控补偿部B和电位连接部L同层设置，因而在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，开口C和电位连接部L至少部分交叠时，对应于电位连接部L从开口C位置向外引出。

如图8所示，可选的，显示面板还包括跨桥部Q，跨桥部Q和第一阻挡层61同层设置，且跨桥部Q连接位于开口C两侧的触控补偿部B。

可以理解的是，由于触控补偿部B设有开口C，本实施例设置和第一阻挡层61同层设置的跨桥部Q，以连接因开口C而被隔开的位于开口C两侧的触控补偿部B，保证对应开口C部分的触控性能，跨桥部Q和第一阻挡层61同层设置，即跨桥部Q可以和第一阻挡层61通过同一道工艺一同制备，两者可以采用相同的材料，以降低生产成本。

请参阅图2至图5，在一些可选的实施例中，由显示区AA指向功能区的方向上，非显示区NA包括相邻设置的第一隔断区NA1、第二隔断区NA2以及第三隔断区NA3；第一隔离结构Z1设于第二隔断区NA2；第一隔断区NA1设有多个第二隔断结构，第三隔断区NA3设有多个第三隔断结构，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一隔离结构Z1背离基板1的一侧表面均高于第二隔断结构和第三隔断结构背离基板1的一侧表面；离子阻挡层6覆盖第一隔断区NA1、第二隔断区NA2以及第三隔断区NA3内的封装层3背离基板1一侧。

需要说明的是，位于第一隔断区NA1的第二隔断结构的周侧可以设置凹槽K结构，以隔断发光层2以及第二电极层8等，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，第一隔离结构Z1背离基板1的一侧表面均高于第二隔断结构和第三隔断结构背离基板1的一侧表面，即第一隔离结构Z1的高度大于第二隔断结构和第三隔断结构的高度，以保证外界水氧难以通过第一隔离结构Z1，提高水氧阻隔效果。

在本实施例中，通过将离子阻挡层6覆盖第一隔断区NA1、第二隔断区NA2以及第三隔断区NA3内的封装层3背离基板1一侧，以避免第一隔断区NA1、第二隔断区NA2以及第三隔断区NA3内的封装层3因钾离子而出现膜层剥离、暗斑的问题，提高显示面板的可靠性。

请参阅图9至图10，图9是根据本发明又一种实施例提供的离子阻挡层6的俯视图；图10是根据本发明另一种实施例提供的离子阻挡层6的膜层结构图。在一些可选的实施例中，离子阻挡层6包括镂空孔H，在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，镂空孔H和第一隔离结构Z1不交叠。

在本实施例中，可以通过光刻、刻蚀工艺等形成镂空孔H，以利用镂空孔H为离子阻挡层6受力变形提供空间，避免出现应力集中，导致离子阻挡层6出现褶皱或者破损的问题，提高了离子阻挡层6的可靠性，但为了保证镂空孔H不影响离子阻挡层6对于第一隔离结构Z1对应位置的遮挡效果，在本实施例中，使得在沿垂直于基板1所在平面的方向Z上，镂空孔H和第一隔离结构Z1不交叠，即镂空孔H不会设置于位于第一隔离结构Z1上方的离子阻挡层6。

可选的，离子阻挡层6包括镂空孔H，镂空孔H位于第一隔断区NA1和/或第三隔断区NA3，即可以在位于第一隔断区NA1的离子阻挡层6形成镂空孔H，也可以在位于第二隔断区NA2的离子阻挡层6形成镂空孔H，以避免离子阻挡层6出现应力集中的问题。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述任一实施例中的显示面板。

本发明实施例提供的显示装置具有上述任一实施例中显示面板的技术方案所具有的技术效果，与上述实施例相同或相应的结构以及术语的解释在此不再赘述。

本发明实施例所提供的显示装置可以为有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，简称为OLED)显示装置、量子点发光二极管(Quantum Dot LightEmitting Diodes，简称为QLED)等。

本发明实施例提供的显示装置可以应用于手机，也可以为任何具有显示功能的电子产品，包括但不限于以下类别：电视机、笔记本电脑、桌上型显示器、平板电脑、数码相机、智能手环、智能眼镜、车载显示器、医疗设备、工控设备、触摸交互终端等，本发明实施例对此不作特殊限定。

以上，仅为本发明的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的***、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的位于过程，在此不再赘述。应理解，本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本发明的保护范围之内。

还需要说明的是，本发明中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或***。但是，本发明不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。

Claims (14)

1.一种显示面板，其特征在于，包括功能器件区、至少部分围绕功能器件区的显示区以及设于所述功能器件区和所述显示区之间的非显示区，所述显示面板包括：

基板；

发光层，设于所述基板一侧，所述发光层设于所述显示区；

第一隔离结构，设于所述非显示区，所述第一隔离结构包括导电层；

封装层，设于所述发光层背离所述基板一侧和所述第一隔离结构背离所述基板一侧；

偏光片，设于所述封装层背离所述基板一侧；

离子阻挡层，至少设于位于所述第一隔离结构背离所述基板一侧的所述封装层和所述偏光片之间，所述离子阻挡层设于所述非显示区。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括触控层，所述触控层设于所述封装层背离所述基板一侧，且所述触控层设于所述显示区，所述触控层包括至少一层触控导电层；

所述离子阻挡层和至少一层所述触控导电层同层设置。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在沿远离所述基板的方向上，所述触控层包括层叠设置、且相互绝缘的第一触控导电层以及第二触控导电层；

所述离子阻挡层和所述第一触控导电层以及第二触控导电层中的至少一层同层设置。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在沿远离所述基板的方向上，所述离子阻挡层包括层叠设置的第一阻挡层和第二阻挡层；

所述第一阻挡层和所述第一触控导电层同层设置，所述第二阻挡层和所述第二触控导电层同层设置，在沿垂直于所述基板所在平面的方向上，所述第一阻挡层和所述第二阻挡层至少部分交叠，所述第一阻挡层和所述第二阻挡层之间通过过孔连接。

5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在沿远离所述基板的方向上，所述离子阻挡层包括层叠设置的第一阻挡层和第二阻挡层；

所述第一阻挡层和所述第一触控导电层同层设置，所述第二阻挡层和所述第二触控导电层同层设置，在沿垂直于所述基板所在平面的方向上，所述第一阻挡层在所述基板上的正投影和所述第二阻挡层的正投影在由所述功能器件区指向所述显示区的方向上交替设置。

6.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，在沿远离所述基板的方向上，所述离子阻挡层包括层叠设置的第一阻挡层和第二阻挡层；

所述显示面板还包括和所述第二阻挡层同层设置、且电连接的电位连接部，所述触控层包括和所述第二阻挡层同层设置触控补偿部，所述触控补偿部包括开口，在沿垂直于所述基板所在平面的方向上，所述开口和所述电位连接部至少部分交叠。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，还包括跨桥部，所述跨桥部和所述第一阻挡层同层设置，且所述跨桥部连接位于所述开口两侧的所述触控补偿部。

8.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，由所述显示区指向所述功能区的方向上，所述非显示区包括相邻设置的第一隔断区、第二隔断区以及第三隔断区；

所述第一隔离结构设于所述第二隔断区；

所述第一隔断区设有多个第二隔断结构，所述第三隔断区设有多个第三隔断结构，在沿垂直于所述基板所在平面的方向上，所述第一隔离结构背离所述基板的一侧表面均高于所述第二隔断结构和所述第三隔断结构背离所述基板的一侧表面；

所述离子阻挡层覆盖所述第一隔断区、所述第二隔断区以及所述第三隔断区内的所述封装层背离所述基板一侧。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述离子阻挡层包括镂空孔，在沿垂直于所述基板所在平面的方向上，所述镂空孔和所述第一隔离结构不交叠。

10.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述离子阻挡层包括镂空孔，所述镂空孔位于所述第一隔断区和/或所述第三隔断区。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述离子阻挡层接地设置或所述离子阻挡层接负电压电位设置。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括电压控制部，所述电压控制部和所述离子阻挡层电连接。

13.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括至少一层无机层。

14.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至13任一项所述的显示面板。