CN117075252B - 一种几何光波导以及制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种几何光波导以及制备方法，该方法包括以下步骤：在相邻的光学基板之间***带有光学膜的平板片，并通过光学胶粘接成光学模块；其中，光学膜的粗糙度小于光学基板的粗糙度；将光学模块切割形成***；在***上相对的表面均涂覆第一光学材料层；其中、平板片的基底、光学基板、第一光学材料层、光学胶的折射率大致相同。通过平板片基板承载光学膜，在光学基板切割后的毛糙表面填充相近折射率的光学胶，将光学膜与平板片粘接固定。利用光学胶材料具有很好的流动性，可以无死角的填充每一处坑洼表面，达到了冷加工的抛光目的，因此无需再对光学基板进行抛光，简化了光波导的制备工艺，以更简洁方式制成实现几何光波导。

Description

一种几何光波导以及制备方法

技术领域

本申请涉及光波导技术领域，尤其涉及一种几何光波导以及制备方法。

背景技术

随着近眼显示技术的发展，对几何光波导性能提出的要求也越来越高，为满足光波导的性能，需要几何光波导具有较高的平整度。因此，当前几何光波导的制备工艺中的流程一般采用：光学基板切割→冷加工研磨抛光→镀膜→粘接→切割→冷加工研磨抛光。上述工艺中，需要进行两次冷加工，而冷加工加工时间最长、损耗最大，这会极大的增加几个光波导的加工成本以及生产周期。

发明内容

本申请提供了一种几何光波导以及制备方法，用以降低几何光波导的加工成本以及生产周期。

第一方面，提供了一种几何光波导的制备方法，该几何光波导的制备方法包括以下步骤：

将光学基板单排排列；

在相邻的光学基板之间***带有光学膜的平板片，并将相邻的光学基板及所述平板片通过光学胶粘接成光学模块；其中，所述平板片包括沿所述光学基片的排列方向层叠的平板片基底以及光学膜；所述光学基板、所述平板片基底及所述光学胶的折射率大致相同；且所述光学膜的粗糙度小于所述光学基板的粗糙度；

将所述光学模块切割形成***；其中，切割方向沿多个所述光学基板的排列方向；

在所述***上由切割形成的两个相对的表面分别涂覆第一光学材料层；其中，所述第一光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同。

在上述技术方案中，通过平板片基板承载光学膜，在光学基板切割后的毛糙表面填充相近折射率的光学胶，将光学膜与平板片粘接固定。利用光学胶材料具有很好的流动性，可以无死角的填充每一处坑洼表面，达到了冷加工的抛光目的，因此无需再对光学基板进行抛光，简化了光波导的制备工艺，以更简洁方式制成实现几何光波导。

在一个具体的可实施方案中，所述光学基板、所述平板片基底及所述光学胶的折射率大致相同，具体为：

所述平板片与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%；

所述光学胶与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%。

在一个具体的可实施方案中，所述光学膜为多角度分光膜。

在一个具体的可实施方案中，所述第一光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同，具体为：所述第一光学材料层与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%。

在一个具体的可实施方案中，在所述***上由切割形成的两个相对的表面分别涂覆第一光学材料层时，所述第一光学材料层背离所述***的表面的粗糙度小于所述***的粗糙度。

在一个具体的可实施方案中，还包括以下步骤：

在所述***相对的两个表面分别层叠光学平板片，并通过所述第一光学材料层将与所述***固定连接；其中，所述光学平板片的折射率与所述光学基板的折射率大致相同；

在所述光学平板片背离所述***的一侧涂覆第二光学材料层；其中，所述第二光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同，且所述第二光学材料层背离所述光学平板片的表面的粗糙度小于所述光学平板片背离所述***的表面的粗糙度。

在一个具体的可实施方案中，所述第二光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同，具体为：

所述光学平板片的折射率与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%。

第二方面，提供了一种几何光波导，该几何光波导包括***以及第一光学材料层；其中，所述平板片切片与相邻的光学基板通过光学胶粘接连接；

所述平板片切片包括沿所述光学基板切片的排列方向层叠的平板片基底切片以及光学膜片切片；

所述平板片基底切片、所述光学胶与所述光学基板切片的折射率大致相同；

所述光学膜切片与相邻的光学基板切片相对的两个表面中，所述光学膜切片的表面的粗糙度小于所述光学基板切片的表面的粗糙度；

所述第一光学材料层与所述光学基板切片的折射率大致相同

在上述技术方案中，通过平板片基板承载光学膜，在光学基板切割后的毛糙表面填充相近折射率的光学胶，将光学膜与平板片粘接固定。利用光学胶材料具有很好的流动性，可以无死角的填充每一处坑洼表面，达到了冷加工的抛光目的，因此无需再对光学基板进行抛光，简化了光波导的制备工艺，以更简洁方式制成实现几何光波导。

在一个具体的可实施方案中，所述平板片基底切片与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%；

所述光学胶与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%。

在一个具体的可实施方案中，所述光学膜切片具体为多角度分光膜切片。

在一个具体的可实施方案中，所述第一光学材料层背离所述***的表面的粗糙度小于所述***的粗糙度。

在一个具体的可实施方案中，还包括光学平板片以及第二光学材料层；其中，

所述光学平板片通过所述第一光学材料层与所述***固定连接；且所述光学平板片与所述***分列在所述第一光学材料层相对的两侧；

所述第二光学材料层料覆盖所述光学平板片背离所述第一光学材料层的一侧；其中，所述第二光学材料层的折射率与所述光学基板切片的折射率大致相同；

所述第二光学材料层背离所述光学平板片的表面的粗糙度小于所述光学平板片背离所述***的表面的粗糙度。

在一个具体的可实施方案中，所述光学平板片的折射率与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%。

附图说明

图1为本申请实施例提供的几何光波导的制备方法的流程图；

图2为本申请实施例提供的光学材料的切割示意图；

图3为本申请实施例提供的切割形成的光学基片的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的光学基片与平板片的排列示意图；

图5为本申请实施例提供的光学模块的结构示意图；

图6为本申请实施例提供的光学模块切割示意图；

图7为本申请实施例提供的***的结构示意图；

图8为申请实施例提供的第一光学材料层与***的配合示意图；

图9为本申请实施例提供的一种几何光波导的结构示意图；

图10为本申请实施例提供的第二光学材料层及光学平板与***的配合示意图；

图11为本申请实施例提供的另一种几何光波导的结构示意图。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请作进一步地详细描述。

需要说明的是，除非另外定义，本说明书一个或多个实施例使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本说明书一个或多个实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

为方便理解本申请实施例提供的光波导的制备方法，首先介绍其应用场景。本申请实施例提供的光波导的制备方法用以制备应用于AR（Augmented Reality，增强现实技术）或VR（Virtual Reality，虚拟现实技术）等不同显示场景的光波导。现有技术中对光波导的制备过程中需要进行多次冷加工的步骤，如在进行镀膜前，需要对光学材料切割形成的光学基片进行冷加工研磨抛光，之后再进行镀膜。而冷加工步骤需要花费较长的时间进行冷却，这会极大的影响光波导的制备效率。为此，本申请实施例提供了一种光波导的制备方法，以改善光波导的制备效率。下面结合具体的附图以及实施例对其进行详细的描述。

参考图1，图1示出了本申请实施例提供的几何光波导的制备方法的流程图。本申请实施例提供的几何光波导的制备方法的流程包括以下步骤：

步骤001：将光学基板单排排列；

具体的，参考图2及图3中所示，将光学材料100切割成所需要尺寸的光学基板10。其中，上述所需要尺寸可根据制备的光波导确定。在切割时，采用的切割方式不限于线切割、激光切割、直线切割、多刀切割、内圆切割等切割方式。另外，在进行切割时，需要保证切割后的面型精度。该面型精度指代为切割时形成的表面的面型精度。

上述的光学材料100包括但不限定于玻璃、树脂、硅胶等但凡有光学属性的基材都可以在本申请实施例中。

在多个光学基板10进行单排排布时，根据形成的几何光波导（下文简称为光波导）的需求，将光学基板10按照所需的尺寸、位置排布。

步骤002：在相邻的光学基板之间***平板片，并将相邻的光学基板及平板片通过光学胶粘接成光学模块；

具体的，参考图4中所示，在单排排列的光学基板10中间***平板片20，其中，平板片20包括沿光学基片10的排列方向层叠的平板片基底21以及光学膜22。且光学膜22朝向平板片20相邻的一光学基板10，平板片基底21朝向平板片20相邻的另一光学基板10。参考图5，在平板片20与光学基板10通过光学胶粘接时，通过光学胶30将光学基板10与平板片20的光学膜22粘接连接。也即沿光学基板10的排列方向，光学基板10、光学胶30、光学膜22、平板片基底21、光学膜22组成一个单元进行排列，以形成一个整体的光学模块。

作为一个可选的方案，该光学膜22可为多角度分光膜。其主要特征为：在光大致入射角度10-40°时具有特定比例反射作用；光大致入射角度50-89°时具有低反射作用。该光学膜22加入光波导中起到分光效果，以提高光波导的光学性能。

在光学胶30与光学基板10折射率偏差过大时，光在光学基板10、光学胶30、平板片基底21之间传导时会发生全反射。因此，在形成光学模块时需要考虑光学基板10、光学胶30、平板片基底21之间的折射率，以保证形成的光波导的光学性能。在具体设置时，采用光学基板10、平板片基底21、及光学胶30的折射率大致相同，从而避免在不同的层结构之间形成全反射，保证形成的光波导的光学性能。上述的大致相同指代为，光学基板10、平板片基底21及光学胶30的折射率完全相同，或光学基板10、平板片基底21及光学胶30的折射率的偏差满足全反射角大于等于80°。

在一个具体的实施方案中，根据全反射计算方法，光学基板10分别按照1.5、1.7、2.0折射率举例，计算结果如表1中所示。

表1

参考表1中所示，在折射率偏差1.54%时全反射角已经小于80°，该情况下光波导传导效率较低，不具备性能优势。因此，在本申请实施例中，光学基板10、光学胶30、平板片基底21之间的折射率之间满足以下关系：平板片基底21与光学基板10的折射率偏差小于1.54%；光学胶30与光学基板10的折射率偏差小于1.54%。作为一个示例，可采用光学胶30与光学基板10的折射率偏差为1.54%、1.5%、1.2%、0.8%、0.4%等任意小于1.54%的值。同理，平板片基底21与光学基板10的折射率偏差为1.54%、1.5%、1.2%、0.8%、0.4%等任意小于1.54%的值。从而可以保证光学模块可在制备成光波导时可满足光波导的光学性能。

光学膜22与光学基板10之间满足：光学膜22的粗糙度小于光学基板10的粗糙度。也即光学膜22朝向光学基板10的表面的平面度大于光学基板10朝向光学膜22的表面的平面度。在形成光学膜22的表面的粗糙度小于光学基板10的表面的粗糙度时，通过将光学膜22镀膜在平整度较高的平板片基底21的方式形成。作为一个具体的示例，在将光学膜22设置在平板片基底21时，光学膜22可采用涂覆的方式将光学膜22制备在平板片20上。其中，涂敷方式很多样，包括不限于滚涂、喷涂、浸涂、旋涂、印刷等。

在通过光学胶30粘接光学基板10及光学膜22时，可通过填充相近折射率的光学胶30，以通过光学胶30良好的流动性，可以无死角的填充光学基板10的表面上的每一处坑洼处，保证了光学膜22在与光学基板10贴合时的平面度。上述制备方式相比现有技术而言，无需对光学基板10进行冷却研磨抛光，从而减少了光波导的制备工艺，降低了光波导的生产成本。

上述的平板片基底21的材质包括但不限定于玻璃、树脂、硅胶等但凡有光学属性的基材都可以在本申请实施例中。

另外，沿光学基板10的排列方向平板片基底21的厚度小于光学基板10的厚度。示例性的，光学基板10的厚度在1.0毫米-20毫米之间，而平板片基底21的厚度在0.2mm以下，因此光学基板10的厚度远远大于平板片基底21的厚度。在相同镀膜良率情况下，相比于现有技术中将光学膜22镀在光学基板10上，本申请实施例采用的在平板片基底21上直接镀膜成本会较低。

综上可看出，在采用现有技术制备方式将光学膜22制备在光学基板10时，光学膜22需通过镀膜方式涂覆在光学基板10表面，且光学基板10需要进行表面研磨及抛光，成本较高。同时，由于良率的影响按照这种方式镀膜会造成本的损失。而在本申请提供的制备方法中，光学膜22直接镀膜在平板片基底21上，再通过光学胶30将光学膜22与光学基板10粘接。无需对光学基板10进行研磨抛光等步骤，简化了工艺。另外，本申请的技术方案与现有技术中的方案对比可发现：本申请实施例中的平板片基底21表面是光滑的，且实现的方式可以不采用抛光的方式实现，可以用成本更低廉的方式达到光滑的效果，如：拉伸、注塑、浮法、压印等。相比现有技术中需要对光学基板进行抛光比较可看出，由于平板片基底21不需要进行抛光，且平板片基底21的厚度远远小于光学基板的厚度，因此购买平板片基底21的成本要远远小于在光学基板上进行抛光的成本，所以降了成本。另外，本申请中将光学膜22制备在平板片基底21，相比现有技术直接将光学膜制备到光学基板上的方案，在镀膜失败的情况下，本申请只需要损耗一块光学膜22，现有技术需要损耗一块光学基板10，一块光学膜22的成本远小于一块光学基板10的成本，在相同的良率下，也可降低制备的成本。

步骤003：将光学模块切割形成***；

具体的，在将光学基板10与平板片20粘接成一体形成光学模块后，对光学模块进行切割，具体采用的切割方式不限于线切割、激光切割、直线切割、多刀切割、内圆切割等切割方式。其中，切割的方向沿多个光学基板10的排列方向。

参考图6中所示，按照所需的方式粘接光学基板10和平板片20后，按照所需的角度方向进行二次切割，切割成具有波导形态的***，该***的结构如图7中所示。在切割后，光学基板10形成光学基板切片110，平板片20形成平板片切片210。

应理解，上述的切割的方向沿多个光学基板10的排列方向，指代为切割的方向平行于光学基板10的排列方向，或者切割的方向与光学基板10的排列方向呈一定的角度。但是无论采用上述任何方式，均应保证在切割时，切割每个光学基板10以及平板片20。

步骤004：在***上由切割形成的两个相对的表面分别涂覆第一光学材料层；

具体的，如图8及图9中所示，在***表面进行涂敷光学材料，并形成第一光学材料层。其中，***的表面为垂直于光学基板10的排列方向的表面，也即为步骤003中切割时形成的表面。

本申请实施例提供的第一光学材料层40采用的材料可为光学胶或可固化光学材料，示例性的，UV光学胶、有机光固化材料、硅胶等光学材料，从而可采用不同的材质作为第一光学材料层40制备在***上。

在具体涂覆第一光学材料层40时，可采用不同的涂敷方式，该涂覆方式可包括不限于滚涂、喷涂、浸涂、旋涂、印刷等。从而可通过多种涂覆工艺实现将第一光学材料层40制备在***上。

另外，第一光学材料层40与光学基板10的折射率大致相同，以保证光波导的光学性能。具体的，第一光学材料层40与光学基板10的折射率偏差小于1.54%。示例性的，第一光学材料层40与光学基板10的折射率偏差为1.54%、1.5%、1.2%、0.8%、0.4%等任意小于1.54%的值。第一光学材料层40的折射率与光学基板10的折射率可参考表1中，光学胶30、平板片基底21等与光学基板10之间折射率的关系，在此不再详细赘述。

作为一个可选的方案，为改善光波导的出光面的平整度，在设置第一光学材料层40时，第一光学材料层40背离***的表面的粗糙度小于***的粗糙度。从而可通过第一光学材料层40填充在***的表面上的凹陷区域，利用第一光学材料层40中的材料的流动性，可以无死角的填充***的表面每一处坑洼。且在涂覆的过程中，可保证涂覆的第一光学材料层40的表面的粗糙度比较低，也即平面度较高。相比现有技术中采用的冷加工研磨抛光工艺，采用涂覆第一光学材料层40来改变光波导的表面平整度的方式，可极大的降低光波导的制备时间，提高光波导的生产效率。另外，采用第一光学材料层40涂覆至***上，相比现有技术中的抛光方式还可获取还可获取更好、更光滑、粗糙度更均匀一致的表面，从而可使得形成的几何光波导出射光线更均匀。

在光学基板10经过切割后表面会形成毛糙形貌，按照传统方式需要冷加工将基片表面抛光透亮。因为光学基板10切割后的毛糙表面本质上是坑洼不平导致散射过大，从而行成磨砂表面。因此，在本申请实施例提供的制备方法中，通过对其填充相近折射率的光学介质（光学胶30）可消除这种毛糙表面。相近折射率的光学胶30、可固化光学材料具有很好的流动性，可以无死角的填充每一处坑洼表面，达到了冷加工的抛光目的，从而简化了光波导的制备工艺，以更简洁的制成实现光波导。

除上述示例的光学波导外，光学波导还可采用其他的结构形式。因此，本申请实施例提供的光波导的制备方法还具有对应其他结构形式的光波导的制备方法。参考图4，图4中示例了另一种光波导的制备方法中的最后一步。该光波导的制备方法中的其他步骤可参考上述示例的步骤001~步骤004。下面详细描述图4示例的步骤。

步骤005：在***相对的两个表面分别层叠光学平板，并通过第一光学材料层将第一光学材料层与***固定连接。

具体的，第一光学材料层40的描述可参考步骤004中所示。参考图9及图10中所示，在将光学平板片50与***粘接时，通过第一光学材料层40进行粘接固定。其中，光学平板片50的材料与光学基板10的材料可相同，其包括但不限定于玻璃、树脂、硅胶等但凡有光学属性的基材都可以在本申请实施例中。

另外，光学平板片50的折射率与光学基板10的折射率大致相同。示例性的，光学平板片50与光学基板10的折射率偏差小于1.54%。如光学平板片50与光学基板10的折射率偏差为1.54%、1.5%、1.2%、0.8%、0.4%等任意小于1.54%的值，以保证光波导的光学性能。

在本方案的制备方法中，由于贴附了光学平板片50，因此对第一光学材料层40的粗糙度没有要求。

步骤006，在光学平板片背离***的一侧涂覆第二光学材料层60；

具体的，参考图10及图11所示，第二光学材料层60可为光学胶或固化材料，从而可采用不同的材质作为第二光学材料层60制备在光学平板片50。

第二光学材料层60可采用涂覆的方式与光学平板片50连接。在具体涂覆时，可采用不同的涂敷方式，该涂覆方式可包括不限于滚涂、喷涂、浸涂、旋涂、印刷等。从而可通过多种涂覆工艺实现将第二光学材料层60制备在***上。

另外，第二光学材料层60与光学基板10的折射率大致相同，以保证光波导的光学性能。具体的，第二光学材料层60与光学基板10的折射率偏差小于1.54%。示例性的，第二光学材料层60与光学基板10的折射率偏差为1.54%、1.5%、1.2%、0.8%、0.4%等任意小于1.54%的值。该第二光学材料层60的折射率与光学基板10的折射率可参考表1中光学胶30、平板片基底21等与光学基板10之间折射率的关系。在此不再详细赘述。

为改善光波导的出光面的平整度，在设置第二光学材料层60时，第二光学材料层60背离光学平板片50的表面的粗糙度小于光学平板片50背离***的表面的粗糙度。从而可通过第二光学材料层60填充在光学平板片50的表面上的凹陷区域，且在涂覆的过程中，可保证涂覆的第二光学材料层60的表面的粗糙度比较低，也即平面度较高。采用上述步骤时，也无需对光学平板片50进行冷却研磨抛光，提高了光波导的制备效率。

参考图9及图11所示，本申请实施例还提供了一种几何光波导，该几何光波导包括***以及第一光学材料层40；其中，第一光学材料层40覆盖在***相对的两个表面。具体的，***以及第一光学材料层40可参考上述制备方法中步骤001至步骤004中形成的***以及第一光学材料层40。

***的结构可具体单排排列的光学基板切片110以及分布在任意相邻的光学基板切片110之间的平板片切片210，也即光学基板切片110与平板片切片210交替排列。另外，平板片切片210与相邻的光学基板110通过光学胶310粘接连接，从而形成一整体。

其中的平板片切片210包括沿光学基板切片110的排列方向层叠的平板片基底切片211以及光学膜片切片212。在平板片21与光学基板切片110连接时，平板片基底切片211及光学膜切片212分别与相邻的光学基板切片110通过光学胶30一一对应粘接连接。也即该***中各部分结构排列方式如下：光学基板切片110、光学胶30、光学膜切片212及平板片基底切片211、光学胶30、光学基板切片110……。

其中的光学膜切片212为镀在平板片基底切片211的膜层，该光学膜切片212具体为多角度分光膜。具体可参考步骤002中的相关描述。

在具体设置时，平板片基底切片211、光学胶30与光学基板切片110的折射率大致相同，且光学膜切片212与相邻的光学基板切片110相对的两个表面中，光学膜切片212的表面的粗糙度小于光学基板切片110的表面的粗糙度。其中，平板片基底切片211、光学胶30与光学基板切片110的折射率即为平板片基底21、光学胶30及光学基板10的折射率。示例性的，平板片基底切片211与光学基板切片110的折射率偏差小于1.54%；光学胶30与光学基板切片110的折射率偏差小于1.54%。具体参考步骤001~步骤003中的相关描述，在此不再详细赘述。

在设置第一光学材料层40时，第一光学材料层40覆盖平板片基板切片211、光学膜切片212、光学胶30及光学基板切片110，并与***形成三明治结构。另外，该第一光学材料层40与光学基板切片110的折射率大致相同。作为一个可选的方案，第一光学材料层40背离***的表面的粗糙度小于***的粗糙度。具体可参考步骤004中的相关描述，在此不再赘述。

在一个可选的方案中，光波导还可包括光学平板片50和第二光学材料层60。其中，光学平板片50通过第一光学材料层40与***固定连接；且光学平板片50与***分列在第一光学材料层40相对的两侧。其中，光学平板平60的折射率与光学基板切片110的折射率大致相同，如两者的折射率偏差小于1.54%。具体可参考步骤005及步骤006中的相关描述。

在具体设置第二光学材料层60时，第二光学材料层60料覆盖光学平板片50背离第一光学材料层40的一侧；其中，第二光学材料层60的折射率、第一光学材料层40的折射率与光学基板切片110的折射率大致相同；示例性的，光学平板片50的折射率与光学基板切片110的折射率偏差小于1.54%。另外，第二光学材料层60背离光学平板片50的表面的粗糙度小于光学平板片50的粗糙度。具体可参考步骤005及步骤006中的相关描述。

通过上述描述可看出，本申请实施例提供的光波导中，通过平板片基板承载光学膜，在光学基板切割后的毛糙表面填充相近折射率的光学胶，将光学基板与平板片粘接固定。而相近折射率的光学胶材料具有很好的流动性，可以无死角的填充每一处坑洼表面，达到了冷加工的抛光目的，因此无需再对光学基板进行抛光，简化了光波导的制备工艺，以更简洁方式制成实现几何光波导。

本说明书一个或多个实施例旨在涵盖落入所附权利要求的宽泛范围之内的所有这样的替换、修改和变型。因此，凡在本说明书一个或多个实施例的精神和原则之内，所做的任何省略、修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。

以上，仅为本申请的具体实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本申请的保护范围之内。因此，本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种几何光波导的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将光学基板单排排列；

在相邻的光学基板之间***平板片，并将相邻的光学基板及平板片通过光学胶粘接成光学模块；其中，所述平板片包括沿所述光学基板的排列方向层叠的平板片基底以及光学膜；所述光学基板、所述平板片基底、所述光学胶的折射率大致相同；且所述光学膜的粗糙度小于所述光学基板的粗糙度；

将所述光学模块切割形成***；其中，切割方向沿多个所述光学基板的排列方向；

在所述***上由切割形成的两个相对的表面分别涂覆第一光学材料层；其中，所述第一光学材料层与所述光学基板的折射率偏差介于0.4%~1.54%之间；所述涂覆方式可包括滚涂、喷涂、浸涂、旋涂或印刷中的一种；

在所述***上由切割形成的两个相对的表面分别涂覆第一光学材料层时，所述第一光学材料层背离所述***的表面的粗糙度小于所述***的粗糙度；具体的，在涂覆的过程中，涂覆的第一光学材料层的表面的粗糙度低于***的粗糙度。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光学基板、所述平板片基底、所述光学胶的折射率大致相同，具体为：

所述平板片基底与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%；

所述光学胶与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光学膜为多角度分光膜。

4.根据权利要求1~3任一项所述的制备方法，其特征在于，还包括以下步骤：

在所述***相对的两个表面分别层叠光学平板片，并通过所述第一光学材料层将所述第一光学材料层与所述***固定连接；其中，所述光学平板片的折射率与所述光学基板的折射率大致相同；

在所述光学平板片背离所述***的一侧涂覆第二光学材料层；其中，所述第二光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同，且所述第二光学材料层背离所述光学平板片的表面的粗糙度小于所述光学平板片背离所述***的粗糙度。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述第二光学材料层与所述光学基板的折射率大致相同，具体为：

所述光学平板片的折射率与所述光学基板的折射率偏差小于1.54%。

6.一种几何光波导，其特征在于，包括***以及第一光学材料层，且所述第一光学材料层覆盖在所述***相对的两个表面；其中，

所述***包括单排排列的光学基板切片以及分布在任意相邻的光学基板切片之间的平板片切片；其中，所述平板片切片与相邻的光学基板通过光学胶粘接连接；

所述平板片切片包括沿所述光学基板切片的排列方向层叠的平板片基底切片以及光学膜片切片；

所述平板片基底切片、所述光学胶与所述光学基板切片的折射率大致相同；

所述光学膜切片与相邻的光学基板切片相对的两个表面中，所述光学膜切片的表面的粗糙度小于所述光学基板切片的表面的粗糙度；

所述第一光学材料层与所述光学基板切片的折射率不同，且所述第一光学材料层与所述光学基板切片的折射率偏差介于0.4%~1.54%之间；

所述第一光学材料层背离所述***的表面的粗糙度小于所述***的粗糙度；具体的，在涂覆的过程中，涂覆的第一光学材料层的表面的粗糙度低于***的粗糙度。

7.根据权利要求6所述的几何光波导，其特征在于，

所述平板片基底切片与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%；

所述光学胶与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%。

8.根据权利要求6所述的几何光波导，其特征在于，所述光学膜切片具体为多角度分光膜切片。

9.根据权利要求6~8任一项所述的几何光波导，其特征在于，还包括光学平板片以及第二光学材料层；其中，

所述光学平板片通过所述第一光学材料层与所述***固定连接；且所述光学平板片与所述***分列在所述第一光学材料层相对的两侧；

所述第二光学材料层料覆盖所述光学平板片背离所述第一光学材料层的一侧；其中，所述第二光学材料层的折射率与所述光学基板切片的折射率大致相同；

所述第二光学材料层背离所述光学平板片的表面的粗糙度小于所述光学平板片背离所述***的表面的粗糙度。

10.根据权利要求9所述的几何光波导，其特征在于，

所述光学平板片的折射率与所述光学基板切片的折射率偏差小于1.54%。