CN116322947A - 超纯水制造***及超纯水制造方法 - Google Patents

超纯水制造***及超纯水制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种超纯水的制造***及制造方法，该超纯水的制造***在使用超纯水后将含有过氧化氢的使用完的超纯水作为超纯水制造的被处理水进行再利用的超纯水制造中，通过简易的构成，可有助于装置及被处理水的清洁化。一种超纯水制造***(1)，其是具有前处理部(2)、一次纯水制造部(3)及二次纯水制造部(4)、且用于制造超纯水的超纯水制造***，其具有：贮存部(5)，该贮存部(5)设置于前处理部(2)的前段或前处理部(2)与一次纯水制造部(3)之间，能够贮存原水或被处理水；回收处理部(6)，该回收处理部(6)对于超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水；和循环机构(7)，该循环机构(7)将由该回收处理部(6)得到的回收水送回至贮存部(5)并使其循环。

Description

超纯水制造***及超纯水制造方法
技术领域
本发明涉及将使用后的超纯水作为超纯水制造的被处理水进行再利用的超纯水制造***及超纯水制造方法。
背景技术
超纯水一般将原水通过前处理部和一次纯水制造部除去杂质而制成纯水，将该纯水进一步通过二次纯水制造部进行清洁化处理来制造，该制造的超纯水被供给至使用点(POU)。
一般，前处理部是将凝聚沉淀、砂过滤、活性炭吸附、pH调整等处理装置中的几个组合来构成，一次纯水制造部是将过滤分离处理装置、吸附处理装置、反渗透膜(RO)装置、紫外线氧化装置、脱气装置、离子交换处理装置等组合来构成，二次纯水制造部是将紫外线氧化装置、离子交换处理装置、超滤装置等组合来构成。
此外，在使用点使用后的超纯水(使用完的超纯水)中没有大量地混入药品等的情况下，有时也为了再次利用于超纯水制造而被回收。此时，从使用完的超纯水中除去混入的杂质并进行清洁化、回收处理，制成回收水，被送回至一次纯水制造部。
例如，在半导体制造***中，在用于半导体晶圆的洗涤的超纯水中，作为其洗涤药品，添加SC-2、SPM、FPM等药液而使用。因此，在使用完的超纯水中，含有硫酸、磷酸、氢氟酸等酸、过氧化氢等。因此，在将半导体洗涤中使用后的超纯水回收的情况下，通过将来源于该洗涤药液并因使用而混入的杂质除去的除去装置进行了回收处理。
作为这样的回收处理中使用的杂质的除去装置，例如已知有下述超纯水制造***：其具有用于除去过氧化氢的活性炭和用于除去酸成分等的离子交换装置，其中，作为活性炭，将相对于过氧化氢的分解能力高的活性炭和低的活性炭这2种活性炭组合使用，将过氧化氢完全除去(例如参照专利文献1)。
该除去装置是在回收处理部中在离子交换装置的处理之前设置有活性炭的构成。这是由于，离子交换装置相对于过氧化氢的耐性低，此外，由于在离子交换装置中通水中因过氧化氢分解而产生的氧而产生离子交换装置的故障，因此为了维持该装置寿命、能够有效地实施离子交换处理，将在离子交换装置的前段设置除去过氧化氢的活性炭设定为必须的构成。
若进行使用了这样的活性炭的回收处理，则在循环至一次纯水制造部的回收水中，包含过氧化氢的杂质基本被除去，再次作为超纯水制造的被处理水来使用的情况下，能够不考虑因使用时的杂质混入而产生的影响地继续制造超纯水，从而优选。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-181364号公报
发明内容
发明所要解决的课题
可是，在将这样的回收水进行再利用的情况下，一般回收水被暂且贮存在用于与前处理部中得到的前处理水混合的贮存部中，使用在该贮存部内混合而得到的混合水作为被处理水，但由于在这样的贮存部中，混合而得到的混合水会在贮存部内滞留一定时间，因此有时也产生微生物的增殖或来源于其的有机物等的含有等污染。一般而言，作为其应对，在贮存部或其前段的任意的部位添加次氯酸钠来应对，但由于有回收水，因此其添加量增加。
此外，作为不同于上述的另外的课题，不管有无回收水，次氯酸钠都会成为后段的反渗透装置或离子交换树脂装置的不良情况的原因，因此必须在到达这些装置之前除去，但若该除去变得不充分，则成为后段的装置的故障。作为这些原因之一，由于回收水的量增减，因此有时恰当的次氯酸钠的量发生变动。
此外，从除去的部分至反渗透膜装置等的经路成为可引起微生物的增殖的环境。因此，例如，在反渗透膜装置或其预过滤器等中经常因微生物增殖而产生故障。
本发明者们为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现本发明，从而完成。即，本申请发明的目的是提供一种超纯水的制造***及制造方法，该超纯水的制造***在使用超纯水后，在进行其回收时，通过以含有过氧化氢的状态进行回收，可通过简易的构成有助于装置的清洁化。
用于解决课题的手段
本发明的超纯水制造***的特征在于，其是具有前处理部、一次纯水制造部及二次纯水制造部、且用于制造超纯水的超纯水制造***，其具有：贮存部，该贮存部设置于上述前处理部的前段或上述前处理部与上述一次纯水制造部之间，能够贮存原水或被处理水；回收处理部，该回收处理部对于上述超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使上述过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水；和循环机构，该循环机构将由上述回收处理部得到的回收水送回至上述贮存部中进行循环。
本发明的超纯水制造方法的特征在于，其是将原水用前处理部、一次纯水制造部及二次纯水制造部进行处理来制造超纯水的超纯水制造方法，其中，具有设置于上述前处理部的前段或上述前处理部与上述一次纯水制造部之间、且能够贮存原水或被处理水的贮存部，将在上述超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水通过回收处理部进行处理，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使上述过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水，将上述回收水送回至上述贮存部中进行循环。
发明效果
根据本发明，将半导体制造等中使用的使用完的超纯水以含有其中包含的过氧化氢的状态进行回收，使其循环并再利用于超纯水的制造，由此，在超纯水制造工序中，通过简化的装置构成，能够抑制细菌的产生或增殖等，降低有机物的含量。
此外，由此，也可以不在回收处理部中设置以往回收时使用的活性炭装置，还能够缩小装置的设置空间，还能够谋求该部分的成本降低。
附图说明
图1是表示作为本发明的一个实施方式的超纯水制造***的概略构成的图。
具体实施方式
以下，对本发明的超纯水制造***及超纯水制造方法的实施方式参照附图进行说明。
(超纯水制造***)
本实施方式的超纯水制造***是如图1中所示的那样具有前处理装置2、一次纯水制造部3、二次纯水制造部4、贮存部5、回收处理部6、循环机构7而成的超纯水制造***1。以下，对各构成进行详细说明。
本实施方式中的前处理装置2可以为与以往公知的超纯水制造***中使用的前处理装置同样的构成，没有特别限定。
前处理部2将原水中的悬浮物质除去，生成前处理水，将该前处理水供给至一次纯水制造部3中。前处理部2例如适当选择用于除去原水中的悬浮物质的砂过滤装置、精密过滤装置等来构成，进一步根据需要具备进行原水的温度调整的换热器等来构成。需要说明的是，根据原水的水质，也可以省略前处理部2。
本实施方式中的一次纯水制造部3可以为与以往公知的超纯水制造***中使用的一次纯水制造部同样的构成，没有特别限定。
一次纯水制造部3将前处理水中的杂质除去来制造纯水。该一次纯水制造部3例如将反渗透膜装置、脱气装置(脱碳酸等、真空脱气装置、脱气膜装置等)、离子交换装置(阳离子交换树脂装置、阴离子交换树脂装置、混床式离子交换树脂装置等、电去离子装置等)、紫外线氧化装置中的1个以上适当组合来构成。一次纯水制造部12将前处理水中的离子成分及非离子成分、溶存气体除去而制造一次纯水，并将该一次纯水供给至二次纯水制造部4中。
作为一次纯水制造部3，例如可列举出强碱性阴离子交换树脂装置、2B3T型装置(强酸性阳离子交换树脂装置、脱碳酸塔、碱性阴离子交换装置)、反渗透膜装置、紫外线氧化装置、混床式离子交换树脂装置、脱气膜装置等，适当选择这些装置来构成。也可以进一步根据需要具备进行被处理水的温度调整的换热器等。
本实施方式中的二次纯水制造部4可以为与以往公知的超纯水制造***中使用的二次纯水制造部同样的构成，没有特别限定。
二次纯水制造部4将一次纯水中的微量杂质除去来制造超纯水。该二次纯水制造部4例如可列举出超滤膜装置、换热器、紫外线氧化装置、过氧化氢除去装置、脱气膜装置、非再生型混床式离子交换树脂装置(Polisher)等，适当选择这些装置来构成。也可以进一步根据需要具备进行被处理水的温度调整的换热器等。
本实施方式中的贮存部5是设置于前处理部2与一次纯水制造部3之间、被分别供给前处理部2中处理过的前处理水和后述的回收处理部6中得到的回收水、并将它们混合作为一次纯水制造部以后的被处理水进行贮存的罐或槽。
需要说明的是，贮存部5在图1中示出了设置于前处理部2与一次纯水制造部3之间的例子，但也可以设置于前处理部2的前段，将原水暂且供给至贮存部5中，将其与回收处理部6中得到的回收水进行混合。
本实施方式中的回收处理部6从含有过氧化氢的使用完的超纯水中除去因使用而混入的杂质，并且使过氧化氢透过，作为再次制造超纯水的被处理水进行回收。
这里使用的使用完的超纯水例如可列举出在半导体制造工厂等中用于半导体晶圆的洗涤等且混入有此时使用的药品等的超纯水。在半导体晶圆的洗涤时，作为其洗涤药品，添加SC-2、SPM、FPM等药液来使用。因此，在使用完的超纯水中，含有硫酸、磷酸、氢氟酸等酸、除此以外过氧化氢等。
该情况下，在回收处理部6中，只要设定为将使用完的超纯水中所含的硫酸、磷酸、氢氟酸等酸除去、且过氧化氢透过那样的装置构成即可。作为该回收处理部6，可例示出如图1中所示的那样将膜处理装置61和反渗透膜装置62(第一反渗透膜装置)依次配置的构成。
这里，作为膜处理装置61，可例示出精密过滤膜(MF)、超滤膜(UF)等，将使用完的超纯水中所含的微粒除去，配置于反渗透膜装置62的前段。需要说明的是，膜处理装置不是必须的要素。
此外，作为反渗透膜装置62，可列举出水处理中使用的公知的反渗透膜装置，没有特别限定。该反渗透膜装置62由于能够将酸来源的离子成分除去，并且过氧化氢不除去而透过，因此是适于本实施方式的回收处理部的装置。
这一点，在现有技术文献中记载的现有文献1中，使用了离子交换树脂装置，但由于通过该离子交换树脂装置而过氧化氢也被一定程度分解除去，因此在本实施方式的回收处理部中，优选不设置离子交换树脂装置。
在该回收处理部6中，优选不具有担载有活性炭或钯或铂的催化剂树脂等能够除去过氧化氢的装置。但是，即使是能够将过氧化氢部分除去的装置，也只要是其剩余部分能够透过的装置，则可以设置。
因此，活性炭装置优选在回收处理部6中不使用，但假使在使用活性炭装置的情况下，通过在该活性炭装置中让使用完的超纯水以空间速度SV＝40hr-1以上透过，也能够使回收水中含有过氧化氢。
需要说明的是，以往在这样的回收操作中，除去过氧化氢也设定为必须，通常，在回收处理部中设置有活性炭装置，但如作为本实施方式的优选的方案所说明的那样，在不设置活性炭装置的情况下，能够缩小该部分装置的设置面积，能够谋求装置整体的简化，在这方面是优选的。
上述的回收处理部6中得到的回收水通过循环机构7向贮存部5中循环。该循环机构7由能够使回收水向贮存部5流通的配管构成。
这里，作为循环机构7，也可以具有调整向贮存部5供给的回收水的流量的流量调整机构。作为流量调整机构，例如可例示出如图1中所示的那样设置阀V1，在该情况下，能够调整从前处理部2供给的被处理水的量和从循环机构7供给的回收水的量，由此还能够调整混合水的过氧化氢浓度。作为该阀V1，只要是能够调整流量即可，可以使用公知的阀等。
(超纯水制造方法)
接着，对于作为本发明的一个实施方式的超纯水制造方法，以使用了图1中所示的超纯水制造***的情况为例进行说明。
首先，将原水供给至前处理部2中，将原水中的悬浮物质除去而得到前处理水。此时，作为原水，使用市水、井水、地下水、工业用水等。该前处理水被供给向贮存部5。
接着，从贮存部5将前处理水向一次纯水制造部送出，将前处理水中的总有机碳(TOC)成分、离子成分使用反渗透膜装置或离子交换装置除去来制造一次纯水。进而，将所得到的一次纯水向二次纯水制造部送出，将一次纯水中的极微量的杂质除去来制造超纯水(二次纯水)。
此时，所得到的一次纯水的水质例如电阻率为17MΩ·cm以上，所得到的超纯水(二次纯水)的水质例如电阻率为18MΩ·cm以上。
所得到的超纯水被供给至使用场所(使用点：POU)，根据各种目的来使用。此外，此时如上述那样，例如在用于半导体晶圆的洗涤的情况下，该使用完的超纯水含有过氧化氢，成为本实施方式中的回收对象。这样的使用完的超纯水被送出至本实施方式的超纯水制造装置的回收处理部，酸成分或其他的杂质被除去，成为回收水。在该回收水中含有过氧化氢。
将该回收水通过循环机构7向贮存部5送出，使其循环。按照向贮存部5循环的方式供给的回收水与前处理水混合，再次作为超纯水制造的被处理水来利用。需要说明的是，如上述那样，由于本实施方式中的回收水含有过氧化氢，因此在使其循环的贮存部内，通过该杀菌作用，能够有效地抑制细菌的产生、增殖。
此外，在本实施方式中，在贮存部5中，将前处理水与回收水混合，但在前处理水中，通常含有用于杀菌的次氯酸盐(例如次氯酸钠(NaClO)等)，此外，在回收水中含有过氧化氢(H2O2)，都含有具有杀菌作用的成分，在贮存部5内，成为能够抑制细菌的产生或增殖的状态。
可是，前处理水中所含的次氯酸盐是已经在前处理中被利用于杀菌处理后的残留成分，过氧化氢与次氯酸盐相比杀菌作用弱。此外，由于将前处理水与回收水混合，因此各自的浓度根据混合的量而降低。
然而，本发明者们发现：如本实施方式那样，在将前处理水与回收水混合的情况下，可超过将这些成分单纯相加的作用而得到优选的杀菌作用。该杀菌作用提高的理由如以下那样考虑。
如上述那样，在贮存部5中，通过前处理水与回收水的混合，在该混合水中，次氯酸盐和过氧化氢共存，这些化合物发生反应，产生单态氧(1O2)或OH自由基(·OH)。由于单态氧(1O2)和OH自由基(·OH)都活性高，具有有机物的分解等作用，因此贮存部5内的杀菌处理与次氯酸盐单独、过氧化氢单独相比显著提高，可表现出优选的杀菌作用。
进而，所产生的单态氧(1O2)或OH自由基(·OH)与水中的有机物(TOC成分)发生部分反应。其结果是，成为通过反渗透膜装置或离子交换装置容易除去的形态，因此还可期待反渗透膜装置或离子交换装置的处理水的TOC的降低。
需要说明的是，此时回收水的过氧化氢的浓度优选为2～50ppm，更优选为4～20ppm。如果浓度为该范围内，则通过与前处理水中的次氯酸盐的反应，能够有效地产生单态氧或OH自由基。此时，前处理水的次氯酸盐的浓度优选为0.05～10ppm，更优选为0.1～2ppm。即使是该量的添加量，由于次氯酸盐与过氧化氢发生反应，因此次氯酸盐也基本消失。需要说明的是，次氯酸盐的添加量适当调整为通过利用过氧化氢的分解而次氯酸不会残留的程度为宜。
此外，贮存部5中的前处理水的供给量与回收水的供给量优选设定为将它们混合而成的混合水的过氧化氢的浓度成为1～10ppm的量(该过氧化氢浓度可以通过前处理水与回收水的混合比例来算出)。为了设定为这样的浓度，例如优选将回收水的供给量相对于前处理水的供给量之比(回收水的供给量/前处理水的供给量)设定为10/90～50/50，更优选设定为20/80～40/60。
通过使用以上那样的超纯水的制造装置及制造方法，能够将使用完的超纯水中所含的过氧化氢利用于杀菌处理，并且也能够作为用于制造超纯水的被处理水来再利用，从而优选。此外，由于得到这样的作用，因此相对于以往的将使用完的超纯水再利用的超纯水的制造装置，例如可省略活性炭装置等能够将回收处理部的装置构成简化。
(变形例)
需要说明的是，上述中，对次氯酸盐通过与过氧化氢的反应而基本消失的情况进行了提及，但根据条件或不良情况等，也考虑次氯酸盐残留而含有于一次纯水制造部中的情况。
因此，在上述说明的第一实施方式中，进而，在一次纯水制造部中，为了除去次氯酸盐，优选设置活性炭装置。此时，在一次纯水制造部中，通常设置有反渗透膜装置(以下，称为第二反渗透膜装置)，活性炭装置设置于该第二反渗透膜装置的前段。通过设定为这样的配置，能够抑制因从贮存部5向一次纯水制造部供给的被处理水中的次氯酸盐而引起的第二反渗透膜装置的劣化。
作为该活性炭装置，可以使用水处理中使用的公知的活性炭，例如可例示出椰壳活性炭、煤系活性炭等。这些活性炭在内部形成有无数
Figure BDA0004165695890000091
Figure BDA0004165695890000092
左右(其大半为
Figure BDA0004165695890000093
)的细孔，具有500～1500m2左右的比表面积。为了设定为高分解能力，也可以担载铂、钯、银那样的分解催化剂。需要说明的是，本说明书中的活性炭的细孔分布及比表面积是通过利用氮气(N2)、氩气(Ar)等的吸附法或汞压入法而测定得到的值。
需要说明的是，就一次纯水制造部而言，只要是可除去次氯酸盐，则在该活性炭装置中可以使过氧化氢透过，也可以除去。次氯酸盐其大半在贮存部5及其后段与过氧化氢反应而消失，只要将稍微残留的次氯酸盐除去即可，因此容易利用活性炭装置来除去。因此，该活性炭装置中的空间速度可以在SV＝5～40hr-1的范围内使用。在通常使用的SV＝5～10hr-1的情况下，过氧化氢也与次氯酸盐一起被很好地除去，在高流速的SV＝10～40hr-1的情况下，将次氯酸盐除去，另一方面，过氧化氢变得容易透过。因此，通过变更该活性炭装置中的处理条件，还能够调整后段中流动的被处理水中的过氧化氢浓度。通过将后段中流动的被处理水中的过氧化氢浓度设定为0.1～1ppm，能够进行活性炭装置与后段的反渗透膜装置等之间的细菌的产生或增殖等抑制，能够实现后段的反渗透膜装置等的稳定运转。
在该活性炭装置中，在以高流速的SV＝10～40hr-1进行处理的情况下，作为使用的活性炭装置，优选将
Figure BDA0004165695890000094
的细孔的比例提高至10体积％以上、优选20体积％以上、或制成担载有铂、钯、银那样的分解催化剂的具有高分解能力的活性炭。
作为改变细孔分布而提高了相对于过氧化氢的分解能力的活性炭，例如可例示出由Calgon Carbon Japan销售的CENTAUR(商品名)。此外，作为担载有过氧化氢高分解催化剂的活性炭，可例示出Kuraray Chemical株式会社制T-SB(商品名)。
需要说明的是，为了调整过氧化氢浓度，也可以设置活性炭以外的过氧化氢除去装置(H2O2除去装置)。该过氧化氢除去装置是将水中的过氧化氢分解除去的装置，例如可列举出通过钯(Pd)或铂(Pt)担载树脂将过氧化氢分解除去的金属催化剂担载树脂装置、填充有在表面具有亚硫酸基和/或亚硫酸氢基的还原性树脂的还原性树脂装置等。
此外，在流入活性炭装置的水中基本不存在次氯酸的情况下，也可以在活性炭装置中设置旁路管线，使用该旁路管线来调整过氧化氢浓度。
残留的过氧化氢只要在反渗透膜装置等的后段进一步使用过氧化氢除去机构来除去即可。作为该过氧化氢除去机构，例如可列举出通过钯(Pd)或铂(Pt)担载树脂将过氧化氢分解除去的金属催化剂担载树脂装置、填充有在表面具有亚硫酸基和/或亚硫酸氢基的还原性树脂的还原性树脂装置、或上述回收处理部和一次纯水制造部中说明的活性炭装置等。
实施例
以下，对于本发明参照实施例及比较例进行说明。需要说明的是，本发明不受该实施例的限定性解释。
(实施例1)
使用图1中所示的超纯水制造装置，制造超纯水，将其用于半导体制造装置中的半导体晶圆的洗涤(SPM洗涤)。洗涤后的使用完的超纯水含有硫酸、磷酸、过氧化氢等，将其通过回收处理部进行处理而得到回收水。需要说明的是，回收处理部中使用的装置如以下那样。
<回收处理部>
膜处理装置61：3M公司制袋式过滤器1μm
反渗透膜装置62：低压RO(Toray株式会社制、商品名：TM720D)
运转压0.6MPa
在膜处理装置61、反渗透膜装置62(第一反渗透膜装置)中依次进行处理而得到的回收水中的过氧化氢浓度为20ppm，将该回收水循环、供给至贮存部5中。在贮存部5中，前处理部中得到的前处理水与回收水混合，将其作为被处理水继续进行了超纯水的制造。混合比为前处理水：回收水＝4：1。
需要说明的是，将此时的前处理水的次氯酸钠浓度、回收水的过氧化氢浓度示于表1中。此外，分别测定贮槽部5内的混合水和设置于一次纯水制造部中的反渗透膜装置(第二反渗透膜装置)的入口处的活菌数、原水和第二反渗透膜装置的出口的TOC浓度，示于表1中。
次氯酸钠浓度的测定：对于前处理水，使用残留氯计(DPD(二乙基对苯二胺法)法、柴田科学株式会社制、简易水质试剂盒)进行测定。
过氧化氢浓度：对于回收水，使用在线过氧化氢测定装置(NOXIA)(Nomura MicroScience株式会社制)进行测定。
活菌数的测定：使用原水和在第二反渗透膜装置的入口处采集的样品，使用培养法(标准琼脂培养基、32度培养7天)进行测定。
TOC的测定：在原水和第二反渗透膜装置的出口处，使用Sievers M9e(Suez公司制)进行测定。
(比较例1)
相对于实施例1，将回收处理部设定为将活性炭装置(三菱化学制、商品名：DIAHOPE 006和Calgon Carbon Japan制、商品名：CENTAUR的复床、体积比率2：1)、弱碱性阴离子交换装置(DowDuPont制、商品名：A368D)依次连接而成的装置构成，除此以外，与实施例1同样地将回收水混合来进行超纯水的制造。
与实施例1同样地对水质进行测定，一并示于表1中。
(比较例2)
在前处理水中添加亚硫酸，除去次氯酸钠，除此以外，与实施例1同样地将回收水混合来进行超纯水的制造。
与实施例1同样地对水质进行测定，一并示于表1中。
表1
Figure BDA0004165695890000111
由以上获知，在将含有过氧化氢的使用完的超纯水回收进行再利用的超纯水制造装置中，在回收处理时，通过在硬要含有过氧化氢的状态下使其循环并制成被处理水，从而在与原水或前处理水混合后，能够抑制活菌数、TOC等。
此时，可以省略在回收处理时通常设置的活性炭装置，能够将装置简化，并且还能够缩小设置面积。
符号的说明
1…超纯水制造***、2…前处理部、3…一次纯水制造部、4…二次纯水制造部、5…贮存部、6…回收处理部、7…循环机构、61…膜处理装置、62…第一反渗透膜装置

Claims (14)

1.一种超纯水制造***，其特征在于，其是具有前处理部、一次纯水制造部及二次纯水制造部、且用于制造超纯水的超纯水制造***，其具有：
贮存部，该贮存部设置于所述前处理部的前段或所述前处理部与所述一次纯水制造部之间，能够贮存原水或被处理水；
回收处理部，该回收处理部对于所述超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使所述过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水；和
循环机构，该循环机构将由所述回收处理部得到的回收水送回至所述贮存部并使其循环。
2.根据权利要求1所述的超纯水制造***，其特征在于，所述回收处理部具有第一反渗透膜装置。
3.根据权利要求1或2所述的超纯水制造***，其特征在于，所述回收处理部不具有活性炭装置。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的超纯水制造***，其特征在于，所述一次纯水制造部具有第二反渗透膜装置，在该第二反渗透膜装置的前段具有次氯酸除去装置。
5.根据权利要求4所述的超纯水制造***，其中，所述次氯酸除去装置为活性炭装置。
6.根据权利要求5所述的超纯水制造***，其中，所述活性炭装置为高分解型活性炭装置。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的超纯水制造***，其特征在于，在所述贮存部中，具有能够将所述回收水的供给量相对于所述原水或被处理水的供给量调整为10/90～50/50而供给的流量调整机构。
8.一种超纯水制造方法，其特征在于，其是将原水用前处理部、一次纯水制造部及二次纯水制造部进行处理来制造超纯水的超纯水制造方法，
其中，具有贮存部，该贮存部设置于所述前处理部的前段或所述前处理部与所述一次纯水制造部之间，能够贮存原水或被处理水，
将所述超纯水的使用后得到的含有过氧化氢的使用完的超纯水通过回收处理部进行处理，将混入该使用完的超纯水中的杂质除去，并且使所述过氧化氢的一部分或全部透过而制成回收水，
将所述回收水送回至所述贮存部并使其循环。
9.根据权利要求8所述的超纯水制造方法，其特征在于，所述回收处理部具有第一反渗透膜装置。
10.根据权利要求8或9所述的超纯水制造方法，其特征在于，所述回收水的过氧化氢浓度为2～50ppm。
11.根据权利要求8～10中任一项所述的超纯水制造方法，其特征在于，在所述贮存部内，将用所述前处理装置处理而得到的前处理水与所述回收水混合而得到的混合水的过氧化氢浓度为1～10ppm。
12.根据权利要求8～11中任一项所述的超纯水制造方法，其特征在于，所述一次纯水制造部具有第二反渗透膜装置和其前段的次氯酸除去装置，
通过所述次氯酸除去装置，将所述回收水中所含的次氯酸盐除去。
13.根据权利要求12所述的超纯水制造方法，其特征在于，所述次氯酸除去装置为活性炭装置。
14.根据权利要求13所述的超纯水制造方法，其特征在于，在所述活性炭装置中，将被处理水以SV＝5～40h-1进行通水。
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