CN116061574A - 捕集装置和包括其的基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

提供了一种能够稳定地控制弯液面位置的基板处理装置。该基板处理装置包括：头单元，用于排放液态化学品；贮存器，用于贮存液态化学品，并向头单元供应液态化学品；压力调节单元，用于调节贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在贮存器和压力调节单元之间，并用于捕集从贮存器中产生的雾气。

Description

捕集装置和包括其的基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种捕集装置和包括该捕集装置的基板处理装置。
背景技术
为了制造LCD面板、PDP面板、LED面板等显示装置，利用喷墨头在基板上进行印刷。喷墨头的喷嘴中的弯液面位置是决定墨的喷射特性的重要因素之一。这种弯液面位置可以通过弯液面压力控制器(MPC；Meniscus Pressure Controller)来控制。
发明内容
解决的技术问题
本发明要解决的技术问题是，提供一种能够在不发生错误操作的情况下稳定地控制弯液面位置的基板处理装置。
本发明要解决的另一技术问题是，提供一种用于上述基板处理装置的捕集装置。
本发明的课题不限于上述课题，本领域的技术人员通过下面的描述可以清楚地理解未提及的其他课题。
解决方法
为解决上述技术问题，根据本发明一个方面的基板处理装置包括：头单元，用于排放液态化学品；贮存器，用于贮存液态化学品，并向所述头单元供应所述液态化学品；压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并用于捕集从所述贮存器中产生的雾气。
为解决上述技术问题，根据本发明另一个方面的基板处理装置包括：台，用于处理基板；门架，横跨所述台布置；以及喷墨头模块，设置在所述门架上，并用于向所述基板排放墨，以及其中，所述喷墨头模块包括：头单元，用于排放墨；贮存器，用于贮存墨，并向所述头单元供应所述墨；压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并捕集在所述贮存器中产生的雾气，其中，所述捕集单元包括：主体；第一管线，设置在所述主体内，与所述贮存器连接，并沿第一方向延伸；第二管线，设置在所述主体内，与所述压力调节单元连接，并沿第二方向延伸；第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集所述雾气。
为解决上述另一技术问题，根据本发明的一个方面的捕集装置包括：主体；第一管线，设置在所述主体内，与入口连接，并沿一个方向延伸；第二管线，设置在所述主体内，与出口连接，并沿所述一个方向延伸；第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集雾气。
其他实施例的具体事项包含在详细的说明及附图中。
附图说明
图1是用于说明根据本发明的一些实施例的基板处理装置的框图。
图2是详细示出图1的供应贮存器、捕集单元和压力调节单元的图。
图3是用于说明根据本发明的第一实施例的捕集单元的剖视图。
图4是用于说明图3的捕集单元中的雾气的运动的图。
图5是用于说明根据本发明的第二实施例的捕集单元的剖视图。
图6是用于说明根据本发明的第三实施例的捕集单元的剖视图。
图7是用于说明根据本发明的第四实施例的捕集单元的剖视图。
图8是用于说明根据本发明的第五实施例的捕集单元的剖视图。
图9是用于说明应用了根据本发明的一些实施例的基板处理装置的设备的示例图。
图10是用于说明根据本发明的一些实施例的基板处理方法的流程图。
具体实施方式
在下文中，将参考附图详细描述本发明的优选实施例。参考结合附图在下文详细叙述的实施例，本发明的优点和特征以及实现优点和特征的方法将变得明确。然而，本发明并不受限于在下文中公布的实施例，而是可以以各种不同的形式实现，并且本实施例仅是为了使本发明的公开内容完整并向本发明所属技术领域的普通技术人员完整告知发明的范围而提供的，并且本发明仅由权利要求的范围限定。在整个说明书中，相同的参考标号指代相同的构成要素。
可以使用“下方”、“下面”、“下部”、“上方”、“上部”等空间相对术语以便于描述如图中所示的一个元件或构成要素与其他元件或构成要素的相互关系。空间相对术语应当理解为除了图中所示的方向之外还包括元件在使用时或操作时的不同方向的术语。例如，在图中所示的元件翻转的情况下，被描述为在另一元件的“下方”或“下面”的元件可以定位成在另一元件的“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包括下方和上方两种方向。元件也可以定向为另外的方向，且因此空间相对术语可以依据定向进行解释。
虽然使用了第一、第二等来叙述各种元件、构成要素和/或部分，但显然这些元件、构成要素和/或部分不受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件、构成要素或部分与其他元件、构成要素或部分区分开。因此，在本发明的技术思想内，下文中提到的第一元件、第一构成要素或第一部分显然也可以是第二元件、第二构成要素或第二部分。
在下文中，将参考附图详细描述本发明的实施例，并且在参考附图进行描述时，与图号无关地，相同或对应的构成要素给予相同的参考标号，并省略对其的重复描述。
图1是根据本发明的一些实施例的基板处理装置的框图。图2是详细示出图1的供应贮存器、捕集单元和压力调节单元的图。
首先，参照图1，根据本发明的一些实施例的基板处理装置1包括头单元210、供应贮存器220、压力调节单元230、缓冲贮存器240和捕集单元100。
头单元210从供应贮存器220接收液态化学品，并将所接收的液态化学品排放到基板上。头单元210具有用于将液态化学品排放到基板上的多个喷嘴。供应到头单元210的液态化学品可以通过重力从位于头单元210上方的供应贮存器220提供，但不限于此。
供应贮存器220设置在头单元210的上方。供应贮存器220从位于供应贮存器220上方的缓冲贮存器240接收和贮存液态化学品。
压力调节单元230连接到供应贮存器220，以调节供应贮存器220内部的压力。压力调节单元230可以是弯液面压力控制器(MPC；Meniscus Pressure Controller)。
压力调节单元230通过向供应贮存器220提供正压和/或负压来调节供应贮存器220内部的压力。
具体地，压力调节单元230可以通过调节供应贮存器220内部的压力来控制从供应贮存器220到头单元210的液态化学品的供应。例如，通过重力来实现从供应贮存器220到头单元210的液态化学品的供应，并且通过由压力调节单元230向供应贮存器220的内部提供负压来停止液态化学品的供应。
此外，压力调节单元230进行调节使得液态化学品在设置于头单元210的多个喷嘴的端部处呈凹陷形状的弯液面状态(即，液态化学品的表面由于表面张力而呈中央部高于***部的状态)。当液态化学品处于凹陷形状的弯液面状态时，液态化学品不会从喷嘴端部流出，从而能够减少基板缺陷。
另一方面，缓冲贮存器240从外部的液态化学品供应源(未图示)接收和液态化学品并贮存，并将所接收的液态化学品供应给供应贮存器220。当液态化学品从液态化学品供应源(未图示)供应到缓冲贮存器240时，液态化学品供应源的内部被加压。如果液态化学品供应源直接连接到供应贮存器220，则供应贮存器220的内部压力受液态化学品供应源的影响。然而，由于液态化学品供应源与供应贮存器220之间存在缓冲贮存器240，因此可阻断液态化学品供应源对供应贮存器220的影响。
捕集单元100设置在供应贮存器220和压力调节单元230之间。捕集单元100捕集在供应贮存器220中产生的雾气。
在此，参照图2，在供应贮存器220上设置有加热器222，以用于调节液态化学品的温度。虽然在图2中示出了加热器222设置在供应贮存器220的底表面上的情况，但并不限于此。即，加热器222也可以设置在供应贮存器220的侧壁或上表面上。
压力调节单元230通过管状件229和239连接到供应贮存器220。在管状件239上设置有互锁传感器(interlock sensor)232。例如，互锁传感器232可以是液体检测传感器。压力调节单元230易受液体(即，液态化学品等)的影响。当压力调节单元230暴露于液体时，可能出现故障或弯液面控制可能变得不准确。因此，在液体到达压力调节单元230之前，如果互锁传感器232检测到液体，则会发生用于停止操作的互锁。
另外，捕集单元100布置在供应贮存器220和压力调节单元230之间。也就是说，捕集单元100通过管状件229连接到供应贮存器220，并通过管状件239连接到压力调节单元230。
如上所述，由于供应贮存器220上设置有加热器222，因此可以通过加热器222的加热操作来产生雾气(即，液态化学品雾气或汽化的液态化学品)。当这种雾气被传递到压力调节单元230时，可能会导致压力调节单元230发生故障。或者，互锁传感器232的目的本在于感测是否发生溢流，但如果互锁传感器232感测到雾气，则也可能会发生互锁。即使液态化学品没有从供应贮存器220溢流，互锁传感器232也可能识别为液态化学品溢流(即，互锁传感器232发生故障)。
因此，捕集单元100位于比互锁传感器232更低的位置处，以阻挡从供应贮存器220产生的雾气，从而防止雾气被传递到互锁传感器232或压力调节单元230。
捕集单元100相对于供应贮存器220的上表面220a以锐角θ倾斜。如下所述，这是为了通过提升雾气和捕集单元100之间的接触面，使捕集单元100能够捕集更多的雾气。此外，当在捕集单元100中被液化的液态化学品滴到供应贮存器220中时，液态化学品沿着倾斜的管状件229缓慢地流动，从而防止在供应贮存器220中产生气泡。
在下文中，将参照图3至图7描述捕集单元100的各种实施例。
图3是用于说明根据本发明的第一实施例的捕集单元的剖视图。图4是用于说明书图3的捕集单元中的雾气的运动的图。
首先，参照图3，根据本发明的第一实施例的捕集单元100包括主体105、第一管线110、第二管线120、第三管线130、第一捕集层116和第二捕集层126等。
主体105可以由例如金属构成，并且其内部可以设置有第一管线110、第二管线120、第三管线130等。
第一管线110连接到供应贮存器(图2的220)，并沿第一方向延伸。在第一管线110的内壁上设置有用于捕集雾气的第一捕集层116。例如，第一捕集层116可以包括网格结构、膜结构和过滤器结构中的至少一种，但不限于此。例如，网格结构可以由例如不锈钢(SUS)的金属构成。膜结构和过滤器结构可以在内部包括孔等，以容纳雾气，但不限于此。
第二管线120连接到压力调节单元230，并沿第二方向延伸。如图所示，第一方向和第二方向可以是实质上相同的方向(即，平行的方向)，但不限于此。在第二管线120的内壁上设置有用于捕集雾气的第二捕集层126。例如，第二捕集层126可以包括网格结构、膜结构和过滤器结构中的至少一种，但不限于此。
第三管线130将第一管线110和第二管线120彼此连接。例如，第三管线130可以从主体105的上表面贯穿第一管线110和第二管线120。盖140可以设置在主体105的上表面上，以打开或密封第三管线130的一侧。例如，盖140可以是螺钉，但不限于此。
第一管线110包括连接到第三管线130的第一连接口111。第一管线110包括入口118和第一缓冲区119，入口118布置在相对于第一连接口111的中心的第一侧(例如，左侧)，第一缓冲区119布置在相对于第一连接口111的中心的第二侧(例如，右侧)。在入口118处设置有用于与管状件229连接的第一连接构件110a。第一连接构件110a可以处于***/固定到主体105内部的状态。
类似地，第二管线120包括与第三管线130连接的第二连接口121。第二管线120包括出口128和第二缓冲区129，出口128布置在相对于第二连接口121的中心的第二侧(例如，右侧)，第二缓冲区129布置在相对于第二连接口121的中心的第一侧(例如，左侧)。在出口128处设置有用于与管状件239连接的第二连接构件120a。第二连接构件120a可以处于***/固定到主体105内部的状态。
如上所述，通过形成第一管线110、第二管线120和第三管线130，可以使雾气的运动路径最大化。在延长雾气的移动路径的情况下，可以使雾气在沿着移动路径移动期间在捕集单元100内部被液化。
这里，参照图4描述捕集单元100中的雾气的运动。将以第一捕集层116和第二捕集层126为由金属(SUS)形成的网格结构的情况为例进行说明。
从供应贮存器220产生的雾气通过第一连接构件110a和入口118被引入到捕集单元100中(参见附图标记G1)。
被引入捕集单元100内的雾气中的一部分上升至第一缓冲区119，并被限制在第一缓冲区119中(参见附图标记G2)。被限制在第一缓冲区119中的雾气在与温度相对低的第一捕集层116接触的同时被液化，液化的液态化学品沿着第一管线110的延伸方向向下流动从而流到入口118的外部。
另外，被引入捕集单元100内的雾气中的一部分到达第三管线130(参见附图标记G3)。为了沿第三管线130移动，雾气必须经过具有相对低的温度的第一捕集层116。在经过第一捕集层116的过程中，雾气的温度可能会降低或者可能会发生液化。
另外，被引入第三管线130内的雾气中的一部分到达第二管线120(参见附图标记G4和G5)。为了沿第二管线120移动，雾气必须经过具有相对低的温度的第二捕集层126。在经过第二捕集层126的过程中，雾气的温度可能会降低或者可能会发生液化。
到达第二管线120的雾气中的一部分到达第二缓冲区129，并被限制在第二缓冲区129中(参见附图标记G5)。被限制在第二缓冲区129中的雾气与温度相对低的第二捕集层126接触而被液化，液化的液态化学品可以汇集在第二缓冲区129中，或者可以通过第三管线130流出。
到达第二管线120的雾气中的一部分可以朝向出口128的方向移动(参见附图标记G4)。然而，雾气在经过较长移动路径时与温度相对低的捕集层116和126持续接触。因此，雾气中的大部分不能到达出口128，而是被液化。
另外，液化的液态化学品残留在捕集单元100内，或者通过管状件229移动到供应贮存器220。
当盖140被打开时，延伸到主体105的上表面的第三管线130的一侧被打开。因此，残留在捕集单元100内的液态化学品可以通过延伸到主体105的上表面的第三管线130排出。
此外，捕集单元100相对于供应贮存器220的上表面220a以锐角θ倾斜。因此，连接捕集单元100和供应贮存器220的管状件229也是倾斜的。由此，液化的液态化学品沿着倾斜的管状件229缓慢地流动，并落入供应贮存器220中。结果，不会在供应贮存器220中产生气泡(bubble)。
结果，捕集单元100阻挡从供应贮存器220产生的雾气，以防止雾气被传递到互锁传感器232或压力调节单元230。因此，可以防止互锁传感器232的故障，并且可以使压力调节单元230稳定地操作。
图5是用于说明根据本发明的第二实施例的捕集单元的剖视图。在下文中，将主要描述与参照图3和图4描述的内容不同之处。
参照图5，在根据本发明的第二实施例的捕集单元101中，第一捕集层116可以不设置在第一管线110的整个内壁上，而是可以仅设置在第一管线110的内壁的一部分上。第二捕集层126可以不设置在第二管线120的整个内壁上，而是可以仅设置在第二管线120的内壁的一部分上。
在图5中，示出了第一捕集层116设置在入口118附近而不设置在第一缓冲区119中的情况，但不限于此。例如，第一捕集层116可以不设置在入口118附近，而是可以设置在第一缓冲区119中。
虽然示出了第二捕集层126设置在出口128附近而不设置在第二缓冲区129中，但不限于此。例如，第二捕集层126可以不设置在出口128附近，而是可以设置在第二缓冲区129中。
即使捕集层116和126仅设置在第一管线110和第二管线120的一部分上，雾气也可以在经过长路径时被液化。
图6是用于说明根据本发明的第三实施例的捕集单元的剖视图。图7是用于说明根据本发明的第四实施例的捕集单元的剖视图。在下文中，将主要描述与参照图3至图5描述的内容不同之处。
参照图6，与根据第一实施例的捕集单元100不同，根据第三实施例的捕集单元102可以不具有第一缓冲区(参见图3的119)。参照图7，与根据第一实施例的捕集单元100不同，根据第四实施例的捕集单元103可以不具有第二缓冲区(参见图3的129)。
图8是用于说明根据本发明的第五实施例的捕集单元的剖视图。在下文中，将主要描述与参照图3和图4描述的内容不同之处。
参照图8，根据本发明的第五实施例的捕集单元104的第三管线131、132和135具有比图3所示的第三管线130长的路径。
例如，第一管线110和第二管线120可以彼此平行，第三管线131、132和135可以包括中间管线135、第一垂直管线131和第二垂直管线132。中间管线135布置在第一管线110和第二管线120之间，并与第一管线110和第二管线120平行。第一垂直管线131将中间管线135和第一管线110彼此连接。第二垂直管线132将中间管线135和第二管线120彼此连接。
进入入口118的雾气在通过第一管线110、第一垂直管线131、中间管线135、第二垂直管线132和第二管线120之后到达出口128。即，由于捕集单元100的内部路径变得相当长，因此在经过内部路径的过程中雾气被液化，而不会到达互锁传感器232或压力调节单元230。
图9是用于说明应用了根据本发明的一些实施例的基板处理装置的设备的示例图。
如图9所示，设备包括台PT、门架410、喷墨头模块420、控制单元450等。
台PT沿第一方向Y纵向延伸，且台PT能够沿第一方向Y移动基板G(参见附图标记S)。例如，多个孔可以形成在平台PT中，气体可以通过这些孔排出，从而可以使用于制造的基板悬浮。在用于制造的基板被悬浮的状态下，保持器可以夹持并移动基板，但不限于此。
门架410布置在台PT上方。门架410横跨台PT而布置。门架410布置成沿不同于第一方向Y的第二方向X延伸。
喷墨头模块420设置在门架410上，并且可以沿着门架410在第二方向X上移动(参照附图符号W)。喷墨头模块420对应于参照图1至图8描述的装置1。
即，喷墨头模块420包括用于喷射墨的头单元、用于贮存墨并将墨(即，液态化学品)供应到头单元的贮存器、用于调节贮存器内部的压力的压力调节单元、以及布置在贮存器和压力调节单元之间并用于捕集在贮存器中产生的雾气的捕集单元。
在此，捕集单元可以包括：主体；第一管线，设置在主体内，与贮存器连接，并沿第一方向延伸；第二管线，设置在主体内，与压力调节单元连接，并沿第二方向延伸；第三管线，设置为从主体的上表面贯穿第一管线和第二管线；以及捕集层，设置在第一管线的内壁或第二管线的内壁上，并用于捕集雾气。这里，主体相对于贮存器的上表面以锐角倾斜。
第一管线包括连接到第三管线的第一连接口，第一管线还包括布置在相对于第一连接口的中心的第一侧的入口和布置在相对于第一连接口的中心的第二侧的第一缓冲区。第二管线包括连接到第三管线的第二连接口，第二管线还包括布置在相对于第二连接口的中心的第二侧的出口和布置在相对于第二连接口的中心的第一侧的第二缓冲区。
另外，在台PT上的基板G沿第一方向Y移动(即，条式移动(swath))期间，喷墨头模块420沿第二方向X移动的同时将液滴排放到基板G上。
控制单元450控制台PT、喷墨头模块420等。控制单元450连接到存储器(未示出)，该存储器中存储有用于操作台PT、喷墨头模块420等的指令(instructions)。
图10是用于说明本发明的一些实施例的基板处理方法的流程图。
参照图1至图3以及图10，准备包括头单元210、供应贮存器220、压力调节单元230和捕集单元100等的基板处理装置1。
接着，利用设置于供应贮存器220的加热器222来调节供应贮存器220内的液态化学品的温度(S401)。
通过该加热器222的加热操作产生雾气(即，液态化学品雾气或汽化的液态化学品)(S403)。
接着，从供应贮存器220产生的雾气通过管状件229传递到捕集单元100。雾气在沿着捕集单元100内部的路径移动的同时被液化。也就是说，雾气可以通过捕集层116和126和/或长移动路径(即，第一管线110、第二管线120和第三管线130)被液化。液化的液态化学品沿着管状件229返回到供应贮存器220内，或者被捕集在捕集单元100内(S405)。
接着，去除残留在捕集单元100内的液态化学品(S407)。当打开用于封闭第三管线130的一侧的盖140时，延伸到主体105的上表面的第三管线130的一侧被打开。因此，可以通过延伸到主体105的上表面的第三管线130将残留在捕集单元100内的液态化学品排出。
以上参照附图对本发明的实施例进行了说明，但本发明所属技术领域的普通技术人员应当理解，本发明在不变更其技术思想或必要特征的情况下，能够以其他具体形态实施。因此，应理解为上述实施例在所有方面都是示例性的，而不是限制性的。

Claims (20)

1.一种基板处理装置，包括：
头单元，用于排放液态化学品；
贮存器，用于贮存所述液态化学品，并向所述头单元供应所述液态化学品；
压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及
捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并捕集从所述贮存器中产生的雾气。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述捕集单元包括：
主体；
第一管线，设置在所述主体内，与所述贮存器连接，并沿第一方向延伸；
第二管线，设置在所述主体内，与所述压力调节单元连接，并沿第二方向延伸；以及
第三管线，设置在所述主体内，连接所述第一管线和所述第二管线。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上设置有用于捕集所述雾气的捕集层。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，所述捕集层包括网格结构、膜结构和过滤器结构中的至少一种。
5.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述主体相对于所述贮存器的上表面以锐角倾斜。
6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述第三管线设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中，所述捕集单元还包括：
盖，所述盖设置于所述主体的上表面，并用于打开或封闭所述第三管线的一侧。
8.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述第一管线包括连接到所述第三管线的第一连接口、布置在相对于所述第一连接口的中心的第一侧的入口以及布置在相对于所述第一连接口的中心的第二侧的第一缓冲区。
9.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述第二管线包括连接到所述第三管线的第二连接口、布置在相对于所述第二连接口的中心的第二侧的出口以及布置在相对于所述第二连接口的中心的第一侧的第二缓冲区。
10.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，
所述第一管线和所述第二管线彼此平行，以及
所述第三管线包括：
中间管线，布置在所述第一管线和所述第二管线之间，并与所述第一管线和所述第二管线平行；
第一垂直管线，连接所述中间管线和所述第一管线；以及
第二垂直管线，连接所述中间管线和所述第二管线。
11.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述贮存器中设置有加热器，所述加热器用于调节所述液态化学品的温度。
12.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，在连接所述捕集单元和所述压力调节单元的管状件处设置有互锁传感器。
13.一种基板处理装置，包括：
台，用于处理基板；
门架，横跨所述台布置；以及
喷墨头模块，设置在所述门架上，并用于向所述基板排放墨，以及
其中，所述喷墨头模块包括：
头单元，用于排放所述墨；
贮存器，用于贮存所述墨，并向所述头单元供应所述墨；
压力调节单元，用于调节所述贮存器内部的压力；以及
捕集单元，布置在所述贮存器和所述压力调节单元之间，并用于捕集从所述贮存器中产生的雾气，
其中，所述捕集单元包括：
主体；
第一管线，设置在所述主体内，与所述贮存器连接，并沿第一方向延伸；
第二管线，设置在所述主体内，与所述压力调节单元连接，并沿第二方向延伸；
第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及
捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集所述雾气。
14.根据权利要求13所述的基板处理装置，其中，所述主体相对于所述贮存器的上表面以锐角倾斜。
15.根据权利要求13所述的基板处理装置，其中，
所述第一管线包括连接到所述第三管线的第一连接口、布置在相对于所述第一连接口的中心的第一侧的入口以及布置在相对于所述第一连接口的中心的第二侧的第一缓冲区，以及
所述第二管线包括连接到所述第三管线的第二连接口、布置在相对于所述第二连接口的中心的第二侧的出口以及布置在相对于所述第二连接口的中心的第一侧的第二缓冲区。
16.一种捕集装置，包括：
主体；
第一管线，设置在所述主体内，与入口连接，并沿一个方向延伸；
第二管线，设置在所述主体内，与出口连接，并沿所述一个方向延伸；
第三管线，设置成从所述主体的上表面贯穿所述第一管线和所述第二管线；以及
捕集层，设置在所述第一管线的内壁或所述第二管线的内壁上，并用于捕集雾气。
17.根据权利要求16所述的捕集装置，还包括：
盖，设置于所述主体的上表面，并用于打开或密封所述第三管线的一侧。
18.根据权利要求16所述的捕集装置，其中，所述捕集层包括网格结构、膜结构和过滤器结构中的至少一种。
19.根据权利要求16所述的捕集装置，其中，
所述第一管线包括连接到所述第三管线的第一连接口、布置在相对于所述第一连接口的中心的第一侧的所述入口以及布置在相对于所述第一连接口的中心的第二侧的第一缓冲区。
20.根据权利要求16所述的捕集装置，其中，
所述第二管线包括连接到所述第三管线的第二连接口、布置在相对于所述第二连接口的中心的第二侧的所述出口以及布置在相对于所述第二连接口的中心的第一侧的第二缓冲区。
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