CN116047862A - 一种新的纳米压印模具及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种新的纳米压印模具及其制备方法，属于压印模具领域，制备方法包括以下步骤：一体菲林制作，通过光绘机对光刻胶片进行光化学作用，制作可进行曝光的图案形成胶版；菲林曝光，将胶版放置在曝光机平台上，菲林置于胶版的上方，以UV灯管进行均速照射；胶版显影，将曝光好的胶版放到带有显影液的显影槽内，进行浸泡，使其充分反应；胶版镀膜，将显影后的胶版进行镀膜，为电镀做准备；胶版电镀，将胶版进行电镀，制作可以压印的模具；模具检验，检验制成的模具是否合格。本发明，不仅降低生产成本，还降低了生产周期，并在生产大尺寸模具时不需要拼接，可一体式直接曝光，加工方式简单。
Description
技术领域
本发明涉及一种压印模具，具体是一种新的纳米压印模具及其制备方法。
背景技术
纳米压印技术作为一种直接利用机械接触挤压，使被压印材料在模板和基底之间发生再分布的方法，具有高分辨率(＜10nm)、工艺简单、成本低、产率高、可大规模生产等优点，成为最具前景的下一代光科技术，在显示、半导体等领域具有广泛的应用。
现有的纳米压印模具多以玻璃光罩曝光的方式成型制作，但是，该制作方式不仅生产的成本较高，生产周期也较长，在生产大尺寸模具时还需要拼接。
因此，本领域技术人员提供了一种新的纳米压印模具及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种新的纳米压印模具及其制备方法，不仅降低生产成本，还降低了生产周期，并在生产大尺寸模具时不需要拼接，可一体式直接曝光，加工方式简单，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种新的纳米压印模具的制备方法，包括以下步骤：
一体菲林制作，通过光绘机对光刻胶片进行光化学作用，制作可进行曝光的图案形成胶版；
菲林曝光，将胶版放置在曝光机平台上，菲林置于胶版的上方，以UV灯管进行照射；
胶版显影，将曝光好的胶版放到带有显影液的显影槽内，进行浸泡，使其充分反应；
胶版镀膜，将显影后的胶版进行镀膜，为电镀做准备；
胶版电镀，将胶版进行电镀，制作可以压印的模具；
模具检验，检验制成的模具是否合格。
作为本发明进一步的方案：所述UV灯管的波长为365nm。
作为本发明再进一步的方案：所述UV灯管以匀速进行照射，照射速度为3m/min-5m/min。
作为本发明再进一步的方案：所述胶版的显影浸泡时间为90s。
作为本发明再进一步的方案：所述胶版镀膜采用真空镀膜，且胶版整面镀镍。
作为本发明再进一步的方案：所述胶版电镀的材料选用镍。
作为本发明再进一步的方案：所述模具检验的具体过程为：将制成的模具在日光灯下检验，异常点的位置通过显微镜确认检验规格是否合格。
本申请还公开了一种新的纳米压印模具，所述新的纳米压印模具采用上述的制备方法制造得到。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本申请制作的压印模具不需要先制作玻璃光罩，成本大幅度的下降。
2、本申请制作的模具不需要拼接和旋转曝光，可以一体式直接曝光，加工方式简单，在生产大尺寸模具时较为方便。
3、本申请制作的模具生产周期短，玻璃光罩制作需要七天，一体菲林制作一天就可以完成。
附图说明
图1为一种新的纳米压印模具的制备方法的流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
正如本申请的背景技术中提及的，发明人经研究发现，现有纳米压印模具多以玻璃光罩曝光的方式成型制作，但是这种制作方式存在不少的缺陷，具体如下：
①生产的成本较高，需要先制作玻璃光罩，玻璃光罩的价格占比高。
②生产周期长，玻璃光罩的制作需要7天，无形增加的产品的生产周期。
③不能制作大尺寸模具，制作无法一体曝光的方式，模具制作的过程需要先做小尺寸玻璃光罩，再将玻璃光罩进行拼接曝光。
为了解决上述缺陷，本申请公开了一种新的纳米压印模具及其制备方法，采用的是一体菲林的曝光的方式，模具成本降低，客户产品交货周期减小。
以下将结合附图对本申请的方案如何解决上述技术问题详细介绍。
请参阅图1，本发明实施例中，一种新的纳米压印模具的制备方法，包括以下步骤：
一体菲林制作，采用光绘机加工，将胶片安装在光绘机的滚筒上，通过光绘机内的图纸，激光光斑，对胶片进行光化学作用，制作可进行曝光的图案形成胶版；
菲林曝光，将胶版放置在曝光机平台上，菲林置于胶版的上方，UV灯管平行均匀移动，进行整面曝光，使所有的图案都可以均匀受到UV灯管的照射；
胶版显影，将曝光好的胶版放到带有显影液的显影槽内，进行浸泡，使其充分反应；
胶版镀膜，将显影后的胶版进行镀膜，为电镀做准备；
胶版电镀，将胶版进行电镀，制作可以压印的模具；
模具检验，检验制成的模具是否合格。
在本实施例中：所述UV灯管的波长为365nm，该波长的紫外光曝光效果更好，波长过短会导致胶版表面发粘，而波长过长则会导致胶版表面老化开裂。
在本实施例中：所述UV灯管的照射速度为3m/min-5m/min，该照射速度下UV灯管的曝光效果更好，照射速度太快会导致胶版表面无法得到有效的曝光，而照射速度太慢又会导致胶版表面受到的曝光量太多，容易使得胶版表面老化开裂。
在本实施例中：所述胶版的显影浸泡时间为90s，显影浸泡时间过短则会导致显影效果不佳，而显影浸泡时间过长则会导致产生显影雾翳，因此本申请选取的浸泡时间适中能够取得良好的显影效果。
在本实施例中：所述胶版镀膜采用真空镀膜，且胶版整面镀镍，真空镀膜可使用的材料较为广泛，且真空镀膜的性能优良，厚度较小，并节省材料，为此，本申请采用真空镀膜，并在胶版整面镀镍，镀镍的应用面很广，可作为防护装饰性镀层，并能保护基体材料不受腐蚀或起光亮装饰作用。
在本实施例中：所述胶版电镀的材料选用镍，电镀镍层在空气中的稳定性很高，由于金属镍具有很强的钝化能力，在表面能迅速生成一层极薄的钝化膜，能抵抗大气、碱和某些酸的腐蚀，电镀镍结晶极其细小，并且具有优良的抛光性能，镍镀层的硬度比较高，可以提高制品表面的耐磨性。
在本实施例中：所述模具检验的具体过程为：将制成的模具在日光灯下检验，异常点的位置通过显微镜确认检验规格是否合格。该检验方式先进行快速检验挑选出有异常的，再通过显微镜进一步确认，有效提高检验速度。
本申请还公开了一种新的纳米压印模具，所述新的纳米压印模具采用上述的制备方法制造得到。
本发明制作的压印模具不需要先制作玻璃光罩，成本大幅度的下降；制作的模具不需要拼接和旋转曝光，可以一体式直接曝光，加工方式简单，在生产大尺寸模具时较为方便；本申请制作的模具生产周期短，玻璃光罩制作需要七天，一体菲林制作一天就可以完成。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
以上所述的，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
一体菲林制作，通过光绘机对光刻胶片进行光化学作用，制作可进行曝光的图案形成胶版；
菲林曝光，将胶版放置在曝光机平台上，菲林置于胶版的上方，以UV灯管进行照射；
胶版显影，将曝光好的胶版放到带有显影液的显影槽内，进行浸泡，使其充分反应；
胶版镀膜，将显影后的胶版进行镀膜，为电镀做准备；
胶版电镀，将胶版进行电镀，制作可以压印的模具；
模具检验，检验制成的模具是否合格。
2.根据权利要求1所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述UV灯管的波长为365nm。
3.根据权利要求1或2所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述UV灯管以匀速进行照射，照射速度为3m/min-5m/min。
4.根据权利要求1所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述胶版的显影浸泡时间为90s。
5.根据权利要求1所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述胶版镀膜采用真空镀膜，且胶版整面镀镍。
6.根据权利要求1或5所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述胶版电镀的材料选用镍。
7.根据权利要求1所述的一种新的纳米压印模具的制备方法，其特征在于，所述模具检验的具体过程为：将制成的模具在日光灯下检验，异常点的位置通过显微镜确认检验规格是否合格。
8.一种新的纳米压印模具，其特征在于，所述新的纳米压印模具采用权利要求1～7中任一项所述的制备方法制造得到。
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2023
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