CN115997482A - 活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 - Google Patents

活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115997482A
CN115997482A CN202180046623.0A CN202180046623A CN115997482A CN 115997482 A CN115997482 A CN 115997482A CN 202180046623 A CN202180046623 A CN 202180046623A CN 115997482 A CN115997482 A CN 115997482A
Authority
CN
China
Prior art keywords
active oxygen
ultraviolet light
induced flow
treated
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180046623.0A
Other languages
English (en)
Inventor
古川匠
山内一浩
小泽雅基
高岛健二
菊池裕一
金子翔太
本乡将嗣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2021094894A external-priority patent/JP7140885B2/ja
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of CN115997482A publication Critical patent/CN115997482A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A61L2/202—Ozone
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/2406—Generating plasma using dielectric barrier discharges, i.e. with a dielectric interposed between the electrodes
    • H05H1/2439—Surface discharges, e.g. air flow control
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/02—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using physical phenomena
    • A61L2/08—Radiation
    • A61L2/10—Ultraviolet radiation
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16—Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20—Gaseous substances, e.g. vapours
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
    • A61L9/015—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using gaseous or vaporous substances, e.g. ozone
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/02—Preparation of oxygen
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B13/00—Oxygen; Ozone; Oxides or hydroxides in general
    • C01B13/10—Preparation of ozone
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2245/00—Applications of plasma devices
    • H05H2245/30—Medical applications
    • H05H2245/36—Sterilisation of objects, liquids, volumes or surfaces

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

提供了可以更高效地将活性氧供给到被处理物的表面的活性氧供给装置、可以更高效地使用活性氧处理被处理物的表面的利用活性氧的处理装置、以及可以更高效地使用活性氧处理被处理物的表面的利用活性氧的处理方法。活性氧供给装置是在具有至少一个开口的壳体中配备有等离子体发生器和紫外光源的等离子体激励器，等离子体发生器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极并通过在这两个电极之间施加电压来产生包含臭氧的诱导流，其中等离子体激励器被定位成使得诱导流从开口流到壳体外，并且紫外光源用紫外线照射诱导流并在诱导流中生成活性氧。另外，提供了利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法。

Description

活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法
技术领域
本发明涉及活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法。
背景技术
已知有紫外光和臭氧作为用于对物品等进行灭菌的方法。专利文献1公开了如下的方法，该方法使用具有臭氧供给装置、紫外光生成灯和搅拌装置的灭菌装置，以通过搅拌通过用由紫外光生成灯发射的紫外光照射臭氧所生成的活性氧来对样品的甚至阴影部分进行灭菌，由此解决利用紫外光的灭菌局限于灭菌对象的被紫外光照射的部分这一问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平1-25865
发明内容
发明要解决的问题
当本发明的发明人研究根据专利文献1的灭菌方法的灭菌性能时，存在灭菌性能与仅使用臭氧的传统灭菌方法的灭菌性能几乎相同的情况。由于据说活性氧的灭菌能力本质上远优于臭氧的灭菌能力，因此这种研究结果是出乎意料的。
本发明的一个方面涉及提供能够将活性氧高效地供给到被处理物的表面的活性氧供给装置、能够利用活性氧更高效地处理被处理物的表面的利用活性氧的处理装置、以及能够利用活性氧更高效地处理被处理物的表面的利用活性氧的处理方法。
用于解决问题的方案
根据本发明的至少一个方面，提供了一种活性氧供给装置，其在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，
所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及
所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧。
此外，根据本发明的至少一个方面，提供了一种利用活性氧的处理装置，用于利用活性氧处理被处理物的表面，
其中，所述利用活性氧的处理装置在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，
所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及
所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧。
此外，根据本发明的至少一个方面，提供了一种利用活性氧的处理方法，用于利用活性氧处理被处理物的表面，所述处理方法包括以下步骤：
提供利用活性氧的处理装置，所述利用活性氧的处理装置在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧；
将所述利用活性氧的处理装置和所述被处理物放置在当使所述诱导流从所述开口流出时所述被处理物的表面被暴露的相对位置处；以及
使所述诱导流从所述开口流出以利用活性氧处理所述被处理物的表面。
发明的效果
根据本发明的一个实施例，可以获得能够将活性氧高效地供给到被处理物的表面的活性氧供给装置、能够利用活性氧更高效地处理被处理物的表面的利用活性氧的处理装置、以及能够利用活性氧更高效地处理被处理物的表面的利用活性氧的处理方法。
附图说明
图1是示出根据本发明的一个实施例的活性氧供给装置的结构的示意截面图。
图2是示出根据本发明的一个实施例的等离子体发生器的机构的示意截面图。
图3是根据本发明的一个实施例的等离子体激励器的说明图。
图4是根据本发明的一个实施例的活性氧供给装置的尺寸说明图。
图5是根据本发明的另一实施例的活性氧供给装置的平面图。
图6是沿着图5中的线AA截取的截面图。
图7是根据本发明的另一实施例的使用活性氧供给装置的处理方法的示意说明图。
具体实施方式
在下文，将参考附图来说明用于执行本发明的实施例的具体示例。然而，实施例中描述的组件的尺寸、材料、形状和相对布置应根据应用了本发明的构件的结构以及各种条件而适当地改变。也就是说，本发明的范围不旨在局限于以下实施例。
另外，在本发明中，除非另外说明，否则表示数值范围的“XX以上且YY以下”或者“XX至YY”的描述意味着包括作为端点的下限和上限的数值范围。在逐步陈述数值范围的情况下，可以任意组合各数值范围的上限和下限。
此外，作为根据本发明的“灭菌”的对象的“菌”是指微生物，并且微生物包括真菌、细菌、单细胞藻类、病毒和原生动物等、以及动物或植物细胞(干细胞、去分化细胞和分化细胞)、组织培养物、通过基因工程获得的融合细胞(包括杂交瘤)、去分化细胞和转化体(微生物)。病毒的示例例如包括诺如病毒、轮状病毒、流感病毒、腺病毒、冠状病毒、麻疹病毒、风疹病毒、肝炎病毒、疱疹病毒和HIV病毒等。细菌的示例包括葡萄球菌、大肠杆菌、沙门氏菌、铜绿假单胞菌、霍乱弧菌、志贺氏菌、炭疽、结核分枝杆菌、肉毒梭菌、破伤风和链球菌等。此外，真菌的示例包括毛癣菌属、曲霉属和念珠菌属等。
此外，在以下的说明中，具有相同功能的结构在附图中被赋予相同的编号，并且可以省略其说明。
此外，在本说明书中，本发明的活性氧供给装置和本发明的活性氧处理装置被简单地统称为“活性氧供给装置”。
根据本发明人的研究，根据专利文献1的灭菌装置的灭菌能力有限的原因被假定如下。
在专利文献1中，通过用紫外光照射来激发臭氧以生成具有极高灭菌能力的活性氧。这里，活性氧是高活性氧活性物质(诸如超氧阴离子自由基(·O2-)和羟基自由基(·OH)等)的泛称。活性氧由于其自身的高反应性，因此可以立即氧化和分解细菌和病毒。
然而，由于臭氧很好地吸收紫外光，因此在根据专利文献1的灭菌装置中，活性氧的生成被认为局限于紫外光生成灯附近。也就是说，认为紫外光不足以到达存在于远离紫外光生成灯的位置处的臭氧，并且在远离紫外光生成灯的位置处几乎没有生成活性氧。
另外，活性氧极不稳定，其中·O2 -的半衰期为10-6秒并且·OH的半衰期为10-9秒，这两者快速转化为稳定的氧和水。因此，认为难以用在紫外光生成灯附近生成的活性氧被动地填充灭菌装置的本体内部。换句话说，认为利用根据专利文献1的灭菌方法的灭菌实质由臭氧进行。因此，认为根据专利文献1的灭菌方法的灭菌性能与仅使用臭氧的传统灭菌方法的灭菌性能大致相同。
基于这些考虑，本发明的发明人已认识到，当使用寿命短的活性氧处理被处理物时，需要更主动地将被处理物或被处理面放置在活性氧气氛中。本发明的发明人基于这种认识所进行的研究的结果已表明：利用以下所述的活性氧供给装置，可以更主动地将被处理物放置在活性氧气氛中。在本发明中，利用活性氧的被处理物的“处理”包括可以通过活性氧实现的各种类型的处理，例如利用活性氧的被处理物的表面的表面改性(亲水化处理)、灭菌、除臭和漂白等。
以下将参考图1来说明根据本发明的一个实施例的活性氧供给装置101。根据本发明的一个实施例的活性氧供给装置101在具有至少一个开口106的壳体107内包括紫外光源102和等离子体发生器103。
紫外光源102用紫外光照射诱导流(induced flow)105以在诱导流105中生成活性氧。在图1中，附图标记104表示被处理物。
在图2中示出等离子体发生器103的一个实施例的截面结构。等离子体发生器是所谓的介质阻挡放电(DBD)等离子体激励器(下文中有时简称为“DBD-PA”)，其中在电介质201的一个表面(下文中称为“第一表面”)上设置有第一电极203，并且在与该第一表面相对的表面(下文中称为“第二表面”)上设置有第二电极205。在图2中，附图标记206表示介质基板，并且附图标记207表示电源。
在等离子体发生器103中，以夹持有电介质201的方式布置的第一电极203和第二电极205以存在偏移的状态倾斜地布置。通过在这些电极之间(在这两个电极之间)施加电压，从第一电极203朝向第二电极205生成等离子体202，并且由表面等离子体202从第一电极203的边缘204沿着电介质201的第一表面的暴露部(未被第一电极覆盖的部分)201-1诱导射流状流。同时，从容器内的空间朝向电极生成空气的吸入流。表面等离子体202中的电子与空气中的氧分子碰撞，由此引起氧分子的解离并生成氧原子。所生成的氧原子与未离解的氧分子碰撞以生成臭氧。因此，由于由表面等离子体202产生的射流状流与空气的吸入流的作用，因此从第一电极203的边缘204沿着电介质201的表面生成包含高浓度臭氧的诱导流105。
等离子体发生器103被布置成使得诱导流105从开口106流到壳体107外、并被供给到被处理物104的处理表面104-1。
也就是说，在根据本发明的一个实施例的活性氧供给装置中，来自等离子体发生器103的包含臭氧的诱导流105从开口106流到壳体107外并被供给到被处理物104的处理表面104-1。通过紫外光源102利用紫外光照射诱导流105以在诱导流105中生成活性氧，由此使得可以将活性氧主动供给到处理表面104-1附近的区域，具体为从该处理表面起的高度例如高达约1mm的空间区域(以下也称为“表面区域”)。因此，在所生成的活性氧被转换成氧和水之前，可以将该活性氧供给到被处理物的表面。结果，用活性氧更可靠地处理了被处理物104的处理表面104-1。
<电极和电介质>
没有特别限制用于形成第一电极和第二电极的材料，只要该材料是高导电材料即可。例如，可以使用金属(诸如铜、铝、不锈钢、金、银和铂等)、用这些金属镀覆或气相沉积的材料、导电碳材料(诸如炭黑、石墨和碳纳米管等)、以及作为这些与树脂的混合物的复合材料等。形成第一电极的材料和形成第二电极的材料可以相同或不同。
其中，从避免电极腐蚀和实现均匀放电的观点来看，优选构成第一电极的材料是铝、不锈钢或银。出于同样的原因，构成第二电极的材料也优选是铝、不锈钢或银。
此外，第一电极和第二电极的形状可以是板状、线状或针状等，而没有特别限制。优选地，第一电极的形状是扁平的。此外，优选地，第二电极的形状是扁平的。在第一电极和第二电极中的至少一个为扁平的情况下，该平板优选具有2或更大的长宽比(长边长度/短边长度)。
第一电极和第二电极中的至少一个优选具有45°或更小的顶角(即，电极是尖的)，但该特征不是限制性的。尽管附图示出第一电极和第二电极的顶角都为90°的情况，但本发明还包括顶角超过45°的实施例。
没有特别限制电介质，只要该电介质是具有高电绝缘性的材料即可。例如，可以使用树脂(诸如聚酰亚胺、聚酯、氟树脂、硅树脂、丙烯酸树脂和酚醛树脂等)、玻璃、陶瓷、以及作为这些与树脂的混合物的复合材料。其中，即使在电流泄露的情况下也不太可能延烧，因此优选电介质是陶瓷材料或玻璃。
<等离子体激励器>
没有特别限制等离子体激励器，只要可以通过以夹持有电介质方式提供第一电极和第二电极并在这些电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流即可。在等离子体激励器中，第一电极和第二电极之间的最短距离越短，生成等离子体越容易。因此，电介质的厚度优选尽可能小，只要不发生电击穿即可，并且可以为10μm至1000μm，优选为10μm至200μm。此外，第一电极和第二电极之间的最短距离优选为200μm或更小。
图3是作为臭氧发生器的等离子体激励器的第一电极203和第二电极205之间的重叠的说明图。这是等离子体激励器的截面图。
在彼此相对地倾斜布置的第一电极203和第二电极205中，当从截面图的上侧观看时，第一电极的边缘可以存在于以夹持有电介质的方式形成第二电极的部分处。也就是说，第一电极和第二电极可以被设置成以夹持有电介质的方式彼此重叠。在这种情况下，优选在第一电极和第二电极以夹持有电介质的方式彼此重叠的部分中在电压施加时防止介质击穿。
此外，在从截面图的上部观看时第一电极和第二电极彼此分离的情况下，优选增加电压，以补偿由于电极之间的距离增加而造成的电场减弱。假定重叠长度为正，当从截面图的上部观看时，第一电极的边缘和第二电极的边缘之间的重叠更优选为-100μm至+1000μm。
对于第一电极和第二电极这两者，电极的厚度不受特别限制，并且可以为10μm至1000μm。当厚度为10μm或更大时，阻抗变低并且容易生成等离子体。当厚度为1000μm或更小时，有可能发生电场集中，并且有可能生成等离子体。
对于第一电极和第二电极这两者，电极的宽度不受特别限制，并且可以为1000μm或更大。
此外，在第二电极的边缘暴露的情况下，还从第二电极的边缘生成等离子体，并且可以在与源自第一电极的诱导流105相反的方向上生成诱导流。在根据本实施例的活性氧供给装置中，优选使除被处理物的表面区域以外的活性氧供给装置的内部空间中的臭氧浓度保持得尽可能低。此外，优选不在容器中生成干扰诱导流105的流动的气体流动。因此，优选不生成源自第二电极的诱导流。为此，优选如图2和图3所示用诸如介质基板206等的电介质覆盖第二电极205、或者将第二电极嵌入在电介质201中，以防止来自第二电极的边缘的等离子体生成。
包含高浓度臭氧的诱导流105在由表面等离子体从第一电极203的边缘204沿着电介质201的第一表面的暴露部201-1诱导的射流状流的方向上(即，在从第一电极203的边缘204沿着电介质的第一表面的暴露部201-1的方向上)流动。该诱导流是包含高浓度臭氧且具有数m/s至数十m/s的速度的气体的流动。
没有特别限制在等离子体激励器的第一电极203和第二电极205之间施加的电压，只要可以在等离子体激励器中生成等离子体即可。此外，电压可以是DC电压或AC电压，但优选AC电压。此外，在优选实施例中，电压是脉冲电压。
此外，可以适当地设置电压的振幅和频率，以调整诱导流的流速和诱导流中的臭氧浓度。在这种情况下，从以下观点，可以适当地进行选择：在诱导流中生成与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或生成有效活性氧量所需的臭氧浓度，并且在维持与处理的目的相对应的活性氧浓度或有效活性氧量的状态下将所生成的活性氧供给到被处理物的表面区域。
例如，电压的振幅可以为1kV至100kV。此外，电压的频率优选为1kHz或更高，更优选为10kHz至100kHz。
在电压是交流电压的情况下，没有特别限制交流电压的波形，并且可以使用正弦波、矩形波或三角波等，但从电压的快速上升的观点来看，矩形波是优选的。
也可以适当地选择电压的占空比，但优选电压快速上升。优选地，施加电压，使得电压从波长的振幅的底部到峰的上升为400000V/秒或更大。
通过将在第一电极203和第二电极205之间施加的电压的振幅除以电介质201的膜厚度所获得的值(电压/膜厚度)优选为10kV/mm或更大。
<紫外光源和紫外光>
没有特别限制紫外光源，只要可以发射能够激发臭氧并生成活性氧的紫外光即可。此外，没有特别限制紫外光源，只要可以获得激发臭氧并获得与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量所需的紫外光的波长和照度即可。
由于臭氧的光吸收光谱的峰值例如为260nm，因此紫外光的峰波长优选为220nm至310nm，更优选为253nm至285nm，并且甚至更优选为253nm至266nm。
可以使用的具体紫外光源的示例包括低压汞灯(其中汞连同诸如氩或氖等的惰性气体一起被封入在石英玻璃中)、冷阴极管紫外灯(UV-CCL)以及紫外LED等。低压汞灯和冷阴极管紫外灯的波长可以选自254nm等。另一方面，从输出性能的观点来看，紫外LED的波长可以选自265nm、275nm和280nm等。
<等离子体发生器、紫外光源和被处理物的布置>
在活性氧供给装置101中，没有特别限制生成包含臭氧的诱导流的等离子体发生器103的位置，只要等离子体发生器被布置成使得诱导流105在通过从紫外光源102发射的紫外光维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下从开口流到壳体外并被供给到被处理物的表面即可。
例如，等离子体发生器和紫外光源可以被布置成使得包含由紫外光生成的活性氧的诱导流105以最短距离被供给到被处理物的表面。
此外，例如，该布置可以使得被处理物的处理表面104-1包括在从等离子体激励器的第一电极的边缘起的在沿着电介质的第一表面的暴露部201-1的方向上的延长线上。
此外，没有特别限制窄角θ(下文中也称为等离子体激励器入射角度或PA入射角度。参见图4)，只要该角度使得可以在维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下主动将诱导流供给到被处理物的表面区域或者利用活性氧进行处理即可，但该角度优选为0°至90°，并且更优选为30°至70°，其中该窄角θ是在活性氧供给装置的开口指向垂直向下的情况下、由从等离子体激励器的第一电极的边缘起的在沿着电介质的第一表面的暴露部201-1的方向上的延长线201-1-1与水平面(与垂直方向垂直的平面)形成的。
通过如上所述布置等离子体发生器和紫外光源，可以将包含活性氧且具有一定流速的诱导流局部供给到被处理物的表面附近的区域，或者可以进行利用活性氧的处理。
没有特别限制紫外光源，只要紫外光源被布置成使得如下即可：用紫外光照射诱导流，在诱导流中生成活性氧，并且可以在维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下进行被处理物的表面处的处理。
如上所述，将包含臭氧的诱导流主动供给到被处理物的表面附近的区域。此外，通过用紫外光照射诱导流，可以在诱导流中生成活性氧。因此，通过用紫外光照射诱导流，臭氧被激发，并且可以将生成了活性氧的诱导流主动供给到被处理物的表面。此外，被处理物的表面上的活性氧浓度或活性氧量可以显著增加。
没有特别限制紫外光源和等离子体发生器的相对位置，只要紫外光源和等离子体发生器被布置成使得如下即可：在诱导流中生成活性氧，并且可以在维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下进行被处理物的表面处的处理。
此外，由于紫外光源和等离子体发生器之间的距离根据处理的目的而改变，因此不能无条件地定义该距离，而是例如，该距离优选为10mm或更小，更优选为4mm或更小。然而，不需要将等离子体发生器放置在相对于紫外光源的约10mm内，并且没有特别限制紫外光源和等离子体发生器之间的距离，只要可以基于与下文中将说明的紫外光的照度或波长的关系将诱导流中的活性氧的浓度设置为与处理的目的相对应的有效值即可。
提供用于紫外光源和等离子体发生器中的至少一者的移动部件，使得紫外光源和等离子体发生器中的至少一者可移动以确保紫外光的均匀照度，这也是优选实施例。
关于活性氧供给装置和被处理物的相对位置，这些相对位置中的至少一个可以被布置成使得在诱导流中生成活性氧，并且使被处理物的表面暴露于维持了与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的诱导流。
此外，紫外光源可以布置在可以用紫外光照射被处理物的表面的位置处，或者可以布置在不能用紫外光照射被处理物的表面的位置处。即使在不能用来自紫外光源的紫外光照射被处理物的表面的情况下，如果使用根据本实施例的利用活性氧的处理装置，则可以通过使被处理面暴露于诱导流中的活性氧来进行处理。此外，在利用紫外光的灭菌处理中，仅对用紫外光照射的面进行灭菌。然而，在通过根据本发明的活性氧供给装置的灭菌处理中，可以对活性氧可以到达的位置处存在的菌进行灭菌。因此，例如，可以对甚至存在于纤维之间的(难以通过来自外部的紫外照射进行灭菌的)菌进行灭菌。
另一方面，在布置成使得可以通过来自紫外光源的紫外光经由开口照射放置在壳体外部的被处理物的表面的情况下，诱导流中存在的未分解臭氧在被处理面上被原位分解，并且可以在被处理面上生成活性氧。结果，可以进一步提高处理程度和处理效率。
在这种情况下，没有特别限制紫外光在被处理物的表面上的照度或紫外光在开口上的照度，而是优选地，即使在被处理物的表面或者开口上，例如，也可以设置紫外光的照度，使得诱导流中所包含的臭氧被分解，在诱导流中生成活性氧，并且可以生成与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量。具体地，例如，作为被处理物的表面上的紫外照度或开口上的紫外照度的具体示例，优选为40μW/cm2或更大，更优选为100μW/cm2或更大，甚至更优选为400μW/cm2或更大，并且特别优选为1000μW/cm2或更大。尽管没有特别限制照度的上限，但照度的上限例如可以为10000μW/cm2或更小。
此外，由于紫外光源和被处理物的表面之间的距离也根据处理的目的而改变，因此不能无条件地定义该距离，而是例如，该距离优选为10mm或更小，更优选为4mm或更小。然而，不需要将被处理物放置成使得被处理面在相对于紫外光源的约10mm内，并且没有特别限制紫外光源和被处理物之间的距离，只要可以基于与紫外光的照度等的关系将诱导流中的活性氧的浓度设置为与处理的目的相对应的有效值即可。
此外，等离子体激励器中的在诱导流未被紫外光照射的状态下的每单位时间的臭氧生成量优选为例如15μg/分(min)或更多。更优选地，为30μg/分或更多。臭氧生成量的上限不受特别限制，而是例如为1000μg/分或更小。
诱导流的流速例如可以使得可以在维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下将所生成的活性氧主动供给到被处理物的表面区域。例如，如上所述，流速约为0.01m/s至100m/s。
如上所述，由等离子体激励器生成的诱导流中的臭氧的浓度以及诱导流的流速可以通过电极和电介质的厚度和材料以及所施加的电压的类型、振幅和频率等来控制。
<壳体和开口>
本发明的活性氧供给装置包括具有至少一个开口106的壳体107、布置在该壳体中的紫外光源102、以及等离子体发生器103。
没有特别限制开口，只要允许从等离子体发生器103生成的诱导流105流到壳体107外即可。可以适当地选择开口的大小、开口的位置以及开口和被处理物的相对位置，使得可以在维持与处理的目的相对应的有效活性氧浓度或有效活性氧量的状态下将所生成的活性氧主动供给到被处理物的表面区域。
本发明的活性氧供给装置不仅可用于被处理物的灭菌，而且可用于通过向被处理物供给活性氧所实现的一般应用。例如，本发明的活性氧供给装置可用于对被处理物进行除臭、对被处理物进行漂白、以及使被处理物的表面亲水化等。
另外，本发明的利用活性氧的处理装置不仅可用于进行使被处理物灭菌的处理，而且例如可用于对被处理物进行除臭的处理、对被处理物进行漂白的处理、以及使被处理物亲水化的表面处理等。
在本发明中，“有效活性氧浓度或有效活性氧量”意味着用于实现与被处理物相关的目的(诸如灭菌、除臭、漂白或亲水化等)的活性氧浓度或活性氧量，并且可以根据目的通过使用构成等离子体激励器的电极、电介质的厚度和材料、要施加的电压的类型、振幅和频率、紫外光的照度和照射时间、以及PA入射角度等来适当地调整。
示例
以下将使用示例和比较例来更详细地说明本发明，但本发明的实施例不限于这些。
<示例1>
1.活性氧供给装置的制作
通过用压敏胶粘带将长度为2.5mm、宽度为15mm且厚度为100μm的铝箔贴附到作为电介质的玻璃板(长度为5mm、宽度为18mm(图1中的纸面的深度方向)、厚度为150μm)的第一面上，来形成第一电极。此外，通过用压敏胶粘带将长度为3mm、宽度为15mm且厚度为100μm的铝箔贴附到玻璃板的第二面上以倾斜地面向贴附到第一面的铝箔，来形成第二电极。另外，用聚酰亚胺胶带覆盖包括第二电极的第二面。这样，制作了等离子体激励器，其中第一电极和第二电极被设置成以夹持有电介质(玻璃板)的方式在0.5mm的宽度上彼此重叠。准备了两个这样的等离子体激励器。
接着，准备由ABS树脂制成且高度为25mm、宽度为20mm、长度为170mm、厚度为2mm并且具有如图1所示的大致梯形的截面形状的外壳作为活性氧供给装置101的壳体107。外壳在一侧具有宽度为7mm且长度为166mm的开口106。接着，将先前制作的两个等离子体激励器固定到壳体107的倾斜侧部的内壁。具体地，等离子体激励器103被定位成使得在沿着电介质201的第一表面的暴露部201-1的方向上的延长线201-1-1与被处理物的处理表面104-1的交点处的角θ(与上述PA入射角度相同的值)为45°。
此外，在壳体中布置有紫外灯102(冷阴极管紫外灯，商品名：UW/9F89/9，由Stanley Electric Co.,Ltd.制造，直径为9mm的圆筒形状，峰波长＝254nm)。该布置使得：紫外灯102与等离子体激励器的电介质201的第一表面的暴露部201-1之间的距离(图4中的附图标记403)为2mm，并且在使平板接触壳体107的开口106时，紫外光源与平板的面向紫外光源的面之间的距离(图4中的附图标记401)为3mm。如此制作了根据本示例的活性氢供给装置(利用活性氧的处理装置)。
在活性氧供给装置101中的用作活性氧供给端口的开口106的位置处放置照度计(商品名：光谱辐照度计USR-45D，由Ushio Inc.制造)，以测量紫外光的照度。根据光谱的积分值，照度为1370μW/cm2。此时，不接通等离子体激励器的电源，以避免紫外光被从等离子体激励器生成的臭氧遮蔽的效果。由于被处理物例如放置在开口106的位置处，因此在这些条件下测量到的紫外光的照度被认为是被处理物的表面上的紫外光的照度。
随后，为了计算从等离子体激励器103生成的臭氧量，将活性氧供给装置101放置在容积为1升的密封容器(未示出)中。密封容器设置有可以用橡胶塞密封的孔，并且可以用注射器通过该孔吸引内部气体。在向等离子体激励器103施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压之后的一分钟，对密封容器中的气体取样100ml。取样的气体被吸引到臭氧检测管(商品名：182SB，由Komyo Rikagaku Kogyo K.K.制造)中，并且测量来自等离子体激励器103的诱导流中所包含的测量臭氧浓度(PPM)。使用该测量臭氧浓度值，从下式获得每单位时间的臭氧生成量。
[数学式1]
Figure BDA0004025926860000151
结果，每单位时间的臭氧生成量为39μg/分。此时，紫外光源没有接通，以避免臭氧被从紫外光源发射的紫外光分解的影响。
最后，在等离子体激励器103和紫外灯102这两者都在操作中的情况下测量臭氧生成量。等离子体激励器103的操作条件使得在仅等离子体激励器103进行操作的情况下生成39μg/分的臭氧。此外，紫外灯102的操作条件是在仅紫外灯102进行操作的情况下照度为1370μW/cm2。结果，在等离子体激励器103和紫外灯102这两者都在操作中的情况下的臭氧生成量为8μg/分。从39μg/分的31μg/分的减少被认为是转化成活性氧的臭氧量。
2-1.处理(亲水化)试验
将聚丙烯树脂试验片(由TP Giken Co.,Ltd.制造)切割成长度为15mm且宽度为15mm的正方形，以制备被处理物104。将被处理物布置在上文的在第1点中准备的活性氧供给装置101的开口106中，使得图4中的距离405为3mm。接着，将具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压施加到等离子体激励器，并且发射紫外光1小时以进行被处理物的表面处理(处理时间：1小时)。之后，测量聚丙烯树脂板的用诱导流处理的面的水接触角，并与处理之前的接触角进行比较。使用自动接触角计(商品名：DMo-602，由Kyowa InterfaceScience Co.,Ltd.制造)作为测量仪器，在23℃和50％RH的情况下测量接触角，使用0.5μL的水的液滴，在滴落之后500ms测量角度，并且采用通过对5个点求平均所获得的值。聚丙烯树脂板的表面的处理之前的接触角为102°。
2-2.处理(灭菌)试验
(1)灭菌试验用样品的制备
通过以下方法制备三个样品以用在灭菌性能的验证试验中。
将***(stamp)培养基(商品名：PETAN CHECK 25PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)以25g/cm2的压力按压未指定数量的人进出的场所中的一周内未用水、酒精等擦拭的门把手10秒，然后使该***培养基在温度为37℃的环境中静置12小时。使用无菌棉签收集在***培养基中生长的菌落，并分散在蒸馏水中以制备菌液。用0.1ml的通过用蒸馏水将该菌液稀释10倍所获得的稀释菌液涂抹新的***培养基(由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造的PETAN CHECK 25PT1025)，并使其在37℃的环境中静置12小时。结果，观察到200CFU/ml至300CFU/ml的菌的生长。然后，将0.1ml的稀释菌液涂抹在已用浓度为70％的酒精清洁的玻璃板(15mm长、15mm宽、2mm厚)的整个表面上。之后，将该玻璃板放置在温度为37℃的环境中1小时以除去水分。因此，制备了总共三个灭菌试验用样品。
(2)灭菌试验
将活性氧供给装置放置在各样品的被处理面上，使得图4中的距离405为3mm。此时，样品104的宽度方向(图4中的左右方向)上的中心位置与开口106的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品的深度方向(图4中的纸面的深度方向)上的中心位置和开口106的深度方向上的中心位置对齐。接着，向等离子体激励器103施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压，点亮紫外灯以使得等离子体激励器103的玻璃板201的面向紫外灯的表面上的照度为1370μW/cm2，用紫外光照射诱导流和被处理面10秒，使包含活性氧的诱导流从开口106流出，并且处理被处理面104-1(处理时间：10秒)。接着，将***培养基(商品名：PETAN CHECK 25PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)以25g/cm2的压力按压样品的被处理面10秒，然后使***培养基在温度为37℃的环境中静置12小时。根据在培养基上生长的菌落数计算活菌数。将从各样品获得的活菌数的平均值乘以10，并用作根据本示例的灭菌试验中的菌落数。基于所获得的菌落数，根据以下标准(Ten Cate判断显示方法)来评价灭菌性能。
-：无生长
±：菌落数<10
+：菌落数10至29
++：菌落数30至100
+++：菌落数>100
++++：无数的菌落
2-3.处理(漂白)试验
(1)漂白试验用样品的制备
将辣椒酱(商品名：PEPPER SAUCE，由Tabasco Co.制造)通过长纤维无纺布(商品名：BEMCOT M-3II，由Asahi Kasei Corporation制造)过滤以除去固体。将纸擦拭物(商品名：KIMWIPE S-200，由Nippon Paper Crecia Co.,Ltd.制造)浸入所获得的液体中10分钟。随后，取出纸擦拭物并用水清洗。重复用水清洗，直到清洗液从视觉上不再着色为止。之后，进行干燥。然后，从用辣椒酱染成红色的纸擦拭物切出长度为15mm且宽度为15mm的三个样品。
(2)漂白试验
将活性氧供给装置101布置在所获得的样品的处理面上以进行漂白试验，使得图4中的距离405为3mm。样品104的宽度方向上的中心位置与开口106的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品104的深度方向上的中心位置和开口106的长边方向上的中心位置对齐。接着，向等离子体激励器103施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压，点亮紫外灯使得等离子体激励器103的玻璃板201的面向紫外灯的表面上的照度为1370μW/cm2，用紫外光照射诱导流和被处理面10分钟，并且将包含活性氧的诱导流供给到被处理面104-1的一部分(处理时间：10分钟)。接着，将活性氧供给装置101从被处理面移除，并且与处理之前的样品相比从视觉上观察脱色程度，并根据以下标准进行评价。
A：完全漂白。
B：辣椒酱的红色残留很少量。
C：辣椒酱的红色残留一些量。
D：与未被供给活性氧的部分在颜色上没有差异。
2-4.处理(除臭)试验
(1)除臭试验用样品的制备
将纸擦拭物(KIMWIPE S-200，由Nippon Paper Crecia Co.,Ltd.制造)在织物雾(商品名：Fabric Mist-Linen，由SABON Co.制造)中浸渍10分钟，然后取出并使其自然干燥6小时。然后，将纸擦拭物切割成10mm长且10mm宽的大小以获得除臭试验用样品。
(2)除臭试验
将活性氧供给装置101布置在各样品的被处理面上，使得图4中的距离405为3mm。样品的宽度方向上的中心位置与开口的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品的深度方向上的中心位置和开口的长边方向上的中心位置对齐。接着，向等离子体激励器施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压，点亮紫外灯，使得等离子体激励器103的玻璃板201的面向紫外灯的表面上的照度为1370μW/cm2，用紫外光照射诱导流和被处理面10秒，并且将包含活性氧的诱导流供给到被处理面的一部分(处理时间：10秒)。接着，将活性氧供给装置从被处理面移除。根据以下强度标准与未用活性氧处理的样品相比较来评价经处理的样品中剩余的臭味。评价由5名被检者进行，并且采用由至少3名被检者选择的强度标准。
A：无臭。
B：几乎无法检测到的臭味(检测阈值)。
C：可以被识别为织物雾的臭味的弱臭味(认知阈值)。
D：与未处理样品没有差异。
<示例2>
除了使示例1的紫外灯102的电压从24V降低到12V并且使照度降低以外，以与示例1相同的方式制造和评价活性氧供给装置。
<示例3至6>
除了紫外光源的波长以及等离子体激励器的电介质的厚度和材料如表1所示改变以外，以与示例1相同的方式制作和评价活性氧供给装置。在示例6中，使用紫外LED(峰波长：280nm)作为紫外光源。
<比较例1至3>
除了进行了以下改变之外，比较例1至3的条件与示例1的条件相同。
比较例1：不向等离子体激励器施加电压，并且不进行紫外光照射。
比较例2：向等离子体激励器施加电压，并且不进行紫外光照射。
比较例3：不向等离子体激励器施加电压，并且进行紫外光照射。
<示例7>
1.利用活性氧的处理装置的制作以及特性的评价
首先，准备图6所示的活性氧供给装置600的壳体601。图5是从壳体601的具有开口605的一侧观看到的图6所示的活性氧供给装置的平面图。壳体的大小在以开口605面向垂直下方的状态放置时，是高度为20mm、深度为150mm且宽度为20mm。开口605的宽度为7mm且其长度为15mm。如图5所示，开口605被设置成使得其长边方向与壳体的深度方向一致。
此外，以与示例1中相同的方式制作等离子体激励器103。然后，如图6所示，将等离子体激励器103固定到壳体601的内壁。具体地，等离子体激励器103的第一电极203的一端在与紫外光源102的中心水平对齐的位置处，并且被固定，使得来自等离子体激励器103的诱导流105从开口605流出。这里，等离子体激励器103的面向紫外光源的面与紫外光源102之间的距离(图7中的附图标记607)被设置为2mm，并且等离子体激励器103的下端与开口605的下端(壳体的外侧)之间的距离(图7中的附图标记609)被设置为1mm。作为紫外光源102，以与示例1中相同的方式使用冷阴极紫外灯(商品名：UW/9F89/9，由Stanley ElectricCo.,Ltd.制造，峰波长＝254nm)。
对于如此获得的活性氧供给装置600，将照度计(商品名：光谱辐照度计USR-45D，由Ushio Inc.制造)放置在等离子体激励器103的玻璃板201的面向紫外灯的表面上，并且测量紫外光的照度。根据光谱的积分值，照度为1370μW/cm2。此外，当将照度计放置成与开口605接触时的紫外光的照度为0.3μW/cm2。据此，证实了实质上没有紫外光从开口泄漏。
接着，在没有接通紫外灯的电源以避免臭氧被紫外光分解的影响的情况下，在等离子体激励器103的两个电极之间施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压。在5分钟之后，取样从开口流出的诱导流中的50ml。所取样的气体被吸入到臭氧检测管(商品名：182SB，由Komyo Rikagaku Kogyo K.K.制造)中，并且来自等离子体激励器的诱导流中所包含的臭氧浓度被测量为70ppm(读取值×2)。
接着，在等离子体激励器的两个电极之间施加具有振幅为2.4kV且频率为80kHz的正弦波形的电压，并且点亮紫外灯，使得等离子体激励器103的玻璃板201的面对紫外灯的表面上的照度为1370μW/cm2。然后，以与上述相同的方式测量此时从开口流出的诱导流中的臭氧浓度。结果为18ppm。基于这些结果，认为该诱导流包括通过用紫外光分解52ppm的臭氧所生成的活性氧。
2.处理试验
使用上文在第1点中准备的活性氧供给装置，以与示例1中描述的处理(表面改性、灭菌、除臭、漂白)试验相同的方式进行处理试验。
2-1.表面改性(亲水化处理)试验
将根据本实施例的活性氧供给装置布置在各样品的被处理面上，使得壳体的具有开口的外表面与被处理面之间的距离(图7中的附图标记611)为2mm。此时，样品的宽度方向(图7中的左右方向)上的中心位置与开口的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品的深度方向(图7中的纸面的深度方向)上的中心位置和开口的长边方向上的中心位置对齐。除此之外，以与示例1中所述的亲水化处理试验相同的方式进行亲水化处理试验。
2-2.灭菌试验
将根据本实施例的活性氧供给装置布置在各样品的被处理面上，使得壳体的具有开口的外表面与被处理面之间的距离(图7中的附图标记611)为2mm。此时，样品的宽度方向(图7中的左右方向)上的中心位置与开口的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品的深度方向(图7中的纸面的深度方向)上的中心位置和开口的长边方向上的中心位置对齐。此外，将利用紫外光的诱导流的照射时间设置为30秒(处理时间30秒)。除此之外，以与示例1中所述的灭菌试验相同的方式进行灭菌试验。
2-3.漂白试验
将活性氧供给装置布置在各样品上，使得壳体的具有开口的外表面与被处理面之间的距离(图7中的附图标记611)为2mm，并且除了利用紫外光的诱导流的照射时间为20分钟(处理时间20分钟)以外，以与示例1中所述的漂白试验相同的方式进行漂白试验。
2-4.除臭试验
将活性氧供给装置布置在各样品的被处理面上，使得其开口的下端与被处理面之间的距离为2mm。此时，样品的宽度方向(图7中的左右方向)上的中心位置与开口的宽度方向上的中心位置对齐，并且还与样品的深度方向(图7中的纸面的深度方向)上的中心位置和开口的长边方向上的中心位置对齐。此外，将利用紫外光的诱导流的照射时间设置为20秒(处理时间20秒)。除此之外，以与示例1中所述的除臭试验相同的方式进行除臭试验。
[表1]
表1
Figure BDA0004025926860000221
在该表中，PA表示等离子体激励器，并且UV表示紫外线。此外，臭氧浓度表示在紫外光源没有接通的情况下的臭氧浓度。
在表1中示出示例1至7和比较例1至3的活性氧供给装置的装置条件、在仅等离子体激励器进行操作的情况下的臭氧浓度、在仅UV冷阴极管进行操作的情况下的紫外光的照度、接触角的减小、以及灭菌/除臭/漂白处理的评价结果。
如比较例3所示，接触角的减小不是由于紫外光而发生的。此外，在如比较例2中那样生成臭氧的情况下，接触角减小。此外，在进行臭氧生成和紫外照射这两者的情况下，由于活性氧的高反应性，因此接触角进一步减小。
在比较例1中，等离子体激励器和活性氧都不进行操作，因此不存在利用紫外光、臭氧和活性氧的灭菌、除臭和漂白的效果。在比较例2中，在一定程度上观察到由臭氧引起的灭菌、除臭和漂白的效果，但不如示例1至7中那样高。在比较例3中，在一定程度上观察到利用紫外光的灭菌的效果，但没有观察到除臭和漂白的效果。
<示例8>
使用示例1中制作的活性氧供给装置，根据以下过程执行大肠杆菌灭菌试验。在该灭菌试验中使用的所有仪器都使用高压釜用高压蒸汽灭菌。此外，该灭菌试验在清洁工作台中进行。
首先，将大肠杆菌(商品名“KWIK-STIK(Escherichia coli ATCC8739)”，由Microbiologics制造)置于含有LB培养基的锥形瓶中(将蒸馏水加入到2g胰蛋白胨、1g酵母提取物和1g氯化钠中以制备200ml)并在37℃的温度下以80rpm振荡培养48小时。培养后的大肠杆菌菌悬液为9.2×109(CFU/ml)。
使用微量移液管，将0.010ml培养的菌悬液滴到长度为3cm、宽度为1cm、厚度为1mm的载玻片(Matsunami玻璃，型号：S2441)上，并用微量移液管的尖端将菌悬液涂覆在载玻片一侧的整个面上，以制备样品No.8-1。以类似的方式制作样品No.8-2和No.8-3。
接着，将样品No.8-1在含有10ml缓冲溶液(商品名“Gibco PBS”，Thermo FisherScientific Inc.)的试管中浸渍1小时。为了防止载玻片上的菌悬液干燥，将从将菌悬液滴到载玻片上到将其浸渍在缓冲溶液中的时间设置为60秒。
接着，将样品No.8-1浸渍于的1ml缓冲溶液(以下称为“1/1液”)放入含有9ml缓冲溶液的试管中以制备稀释液(以下称为“1/10稀释液”)。除了利用缓冲溶液的稀释比改变以外，1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液是以相同的方式制备的。
接着，从1/1液中取样0.050ml并涂抹在***培养基(PETAN CHECK 25,PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)上。重复该操作以制备用1/1液涂抹的两种***培养基。将两个***培养基置于恒温器(商品名：IS600，由Yamato Scientific Co.,Ltd.制造)中，并在37℃的温度下培养24小时。对在两个***培养基上产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
对于1/10稀释液、1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液，以与上述相同的方式针对各稀释液，制备并培养两个已涂抹***培养基。然后，对各稀释液在各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。表2示出结果。
[表2]
表2
Figure BDA0004025926860000241
从上表2所示的结果，发现当培养1/10000稀释液时菌落数为21，因此，与样品No.8-1相关的1/1液的0.050ml中存在的菌数为21×104＝210000(CFU)。
接着，对样品No.8-2和No.8-3进行以下操作。
在长度为30cm、宽度为30cm且厚度为5mm的塑料平板的中央设置长度为3.5cm、宽度为1.5cm且深度为2mm的凹部，并将载玻片放入凹部中，使得各样品的载玻片的与涂覆有菌液的一侧相对的面与凹部的底面接触。然后，将活性氧供给装置放置在塑料板的上面上，使得活性氧供给装置的开口的长边方向上的中心与凹部的长边方向上的中心一致，并且还使得活性氧供给装置的开口的宽度方向上的中心与凹部的横向方向上的中心一致。由于凹部的深度为2mm并且载玻片的厚度为1mm，因此各样品的粘附有菌液的面不会与活性氧供给装置的开口直接接触。
接着，启动活性氧供给装置，并且用包含活性氧的诱导流处理载玻片的涂覆有菌液的面。处理时间对于样品No.8-2为2秒，并且对于样品No.8-3为10秒。另外，将从将菌液滴到载玻片上到浸渍在缓冲溶液中的时间设置为60秒，使得在使用活性氧供给装置的处理过程中载玻片上的菌液不干燥。
将经处理的样品No.8-2和No.8-3在含有10ml缓冲溶液(商品名“Gibco PBS”，Thermo Fisher Scientific Inc.)的试管中浸渍1小时。接着，将各样品浸渍于的1ml缓冲溶液(以下称为“1/1液”)放入含有9ml缓冲溶液的试管中以制备稀释液(1/10稀释液)。除了利用缓冲溶液的稀释比改变之外，1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液是以相同方式制备的。
接着，从各样品的1/1液中取样0.050ml并涂抹在***培养基(PETAN CHECK 25,PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)上。重复该操作以制备对于各样品用1/1液涂抹的两个***培养基。将总共四个***培养基置于恒温器(商品名：IS600，由YamatoScientific Co.,Ltd.制造)中，并在37℃的温度下培养24小时。对在两个***培养基上产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
对于1/10稀释液、1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液，以与上述相同的方式针对各稀释液，制备并培养两个已涂抹***培养基。然后，对各样品的各稀释液在各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。表3示出结果。
[表3]
表3
Figure BDA0004025926860000251
如上所述，与样品No.8-1相关的1/1液的0.050ml中的菌数为210000(CFU)。与灭菌处理之后的样品No.8-2和No.8-3相关的1/1液中的菌数为0(CFU)。由此，可以理解，即使在处理时间为2秒的情况下，根据本实施例的活性氧供给装置也可以以99.999％((210000-1)/210000×100)或更高的高效率对大肠杆菌进行灭菌。
<比较例4>
以与示例8中所述的用于制备样品No.8-1的方法相同的方式制备样品No.C4-1和No.C4-2。除了不向活性氧供给装置的等离子体激励器施加电压以外，以与示例8中相同的方式处理这些样品No.C4-1和No.C4-2。处理时间对于样品No.C4-1为2秒并且对于样品No.C4-2为10秒。对于处理后的样品No.C4-1和C4-2，以与示例8的样品No.8-1相同的方式进行缓冲溶液中的浸渍。接着，针对各样品的1/1液，制备并培养已涂抹***培养基。对在与各样品的1/1液相关的各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。表4示出结果。
表4
Figure BDA0004025926860000261
从对处理之后的样品No.C4-1的1/1稀释液进行培养的结果，发现与处理之后的样品No.C4-1相关的1/1液的0.050ml中存在的菌数为52(CFU)。另一方面，与样品No.C4-2相关的1/1液的0.050ml中存在的菌数为0(CFU)。因此，在本比较例中，在处理时间为2秒的情况下的大肠杆菌的灭菌率为99.98％(＝(210000-52)/210000×100)。
在示例8中，如上所述，在处理时间为2秒的情况下，灭菌率为99.999％或更高。结果，证实了仅使用紫外光的处理的灭菌效率劣于使用紫外光和活性氧这两者的处理的灭菌效率。
<比较例5>
以与示例8中所述的用于制备样品No.8-1的方法相同的方法制备样品No.C5-1和C5-2。除了活性氧供给装置的紫外灯没有点亮以外，以与示例8中相同的方式处理这些样品No.C5-1和No.C5-2。因此，在诱导流中用臭氧处理样品No.C5-1和No.C5-2。处理时间对于样品No.C5-1为2秒，并且对于样品No.C5-2为10秒。对于处理后的样品No.C5-1和No.C5-2，以与示例8中的样品No.8-1相同的方式进行在缓冲溶液中的浸渍和稀释。接着，以与示例8的样品No.8-1相同的方式，针对与各个样品相关的1/1液、1/10稀释液、1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液各自，制备并培养两个已涂抹***培养基。然后，对各样品的与1/1液和各稀释液相关的各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。表5示出结果。
[表5]
表5
Figure BDA0004025926860000271
在上述结果中，从对处理之后的样品No.C5-1的1/10000稀释液进行培养的结果，发现与处理之后的样品No.C5-1相关的0.050ml的1/1液中存在的菌数为19×104＝190000(CFU)。因此，在使用样品No.C5-1的试验示例中，大肠杆菌的灭菌率为9.5％(＝(210000-190000)/210000×100)。
此外，从培养样品No.C5-2的1/10000稀释液的结果，发现与处理之后的样品No.C5-2相关的1/1液的0.050ml中存在的菌数为8×104＝80000(CFU)。因此，在使用样品No.C5-2的试验示例中，大肠杆菌的灭菌率为61.9％(＝(210000-80000)/210000×100)。
在示例8中，即使在处理时间为2秒的情况下，灭菌率也为99.999％或更高。结果，证实了仅使用臭氧的处理的灭菌效率劣于使用紫外光和活性氧这两者的处理的灭菌效率。
<示例9>
将示例8中的样品No.8-1的制备中所使用的载玻片改变为长度为3cm且宽度为1cm的定性滤纸(产品编号：No.5C，由Advantec Co.,Ltd.制造)。另外，菌液仅滴在滤纸的一侧上。除此之外，以与样品No.8-1相同的方式制备样品No.9-1。
接着，对样品No.9-1进行以下操作。
在长度为30cm、宽度为30cm且厚度为5mm的塑料平板的中央设置长度为3.5cm长、宽度为1.5cm且深度为2mm的凹部。将长度为3.5cm且宽度为1.5cm的滤纸放置在凹部中。将样品No.9-1布置在滤纸上，使得其菌液滴落面面向放置在凹部底部的滤纸。然后，将活性氧供给装置放置在塑料板的上面上，使得活性氧供给装置的开口的长边方向上的中心与凹部的长边方向上的中心一致，并且还使得活性氧供给装置的开口的宽度方向上的中心与凹部的横向方向上的中心一致。由于凹部的深度为2mm并且滤纸的厚度为1mm或更小，因此各样品的粘附有菌液的面不会与活性氧供给装置的开口直接接触。接着，启动活性氧供给装置，并且用包含活性氧的诱导流处理滤纸的菌液滴液面的表面。处理时间为10秒。另外，将从将菌液滴到滤纸上到浸渍在缓冲溶液中的时间设置为60秒，使得滴有菌液的滤纸在使用活性氧供给装置的处理过程中不会干燥。
将经处理的样品No.9-1在含有10ml缓冲溶液(商品名“Gibco PBS”，ThermoFisher Scientific Inc.)的试管中浸渍1小时。接着，将浸渍之后的缓冲溶液1ml(以下称为“1/1液”)置于含有9ml的缓冲溶液的试管中以制备稀释液(1/10稀释液)。除了利用缓冲溶液的稀释比改变以外，以相同的方式制备1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液。
接着，从1/1液中取样0.050ml并涂抹在***培养基(商品名：PETAN CHECK 25,PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)上。重复该操作以制备用1/1液涂抹的两个***培养基。将总共两个***培养基置于恒温器(商品名：IS600，由Yamato Scientific Co.,Ltd.制造)中，并在37℃的温度下培养24小时。对在与1/1液相关的各***培养基上产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
对于1/10稀释液、1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液，以与上述相同的方式针对各稀释液，制备并培养两个已涂抹***培养基。然后，对各稀释液在各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
<比较例6>
以与样品No.9-1相同的方式制备样品No.C9。
除了不向活性氧供给装置的等离子体激励器施加电压以外，该样品No.C9是以与示例9相同的方式处理的。也就是说，仅用UV光照射样品No.C9。处理时间为10秒。对于处理后的样品No.C9，以与示例9的样品No.9相同的方式进行缓冲溶液中的浸渍。除了使用所获得的浸渍之后的缓冲溶液以外，以与示例9中相同的方式制备1/1液和1/10至1/10000稀释液。除了使用所制备的1/1液和1/10至1/10000稀释液以外，以与示例9中相同的方式制备和培养***培养基，对与1/1液和各稀释液相关的各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
<参考例1>
以与样品No.9-1相同的方式制备样品No.R1。
将未处理的样品No.R1在含有10ml的缓冲溶液(商品名“Gibco PBS”，ThermoFisher Scientific Inc.)的试管中浸渍1小时。接着，将浸渍之后的1ml的缓冲溶液(以下称为“1/1液”)置于含有9ml的缓冲溶液的试管中以制备稀释液(1/10稀释液)。除了改变利用缓冲溶液的稀释比以外，以相同的方式制备1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液。
接着，从1/1液中取样0.050ml并涂抹在***培养基(PETAN CHECK 25,PT1025，由Eiken Chemical Co.,Ltd.制造)上。重复该操作以制备用1/1液涂抹的两个***培养基。将总共两个***培养基置于恒温器(商品名：IS600，由Yamato Scientific Co.,Ltd.制造)中，并在37℃的温度下培养24小时。对在与样品No.R1的1/1液相关的各***培养基上产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
对于1/10稀释液、1/100稀释液、1/1000稀释液和1/10000稀释液，以与上述相同的方式针对各稀释液，制备并培养两个已涂抹***培养基。然后，对针对各稀释液在各***培养基中产生的菌落数进行计数，并计算平均值。
表6示出示例9、比较例6和参考例1的结果。
[表6]
表6
Figure BDA0004025926860000291
从参考例1的1/1000稀释液的培养结果，发现样品No.R1的1/1液的0.050ml中存在的菌数为5×103＝5000(CFU)。此外，示例9中的处理之后的1/1液的0.050ml中的菌数为0(CFU)。据此，发现示例9中的大肠杆菌的灭菌率为99.98％((5000-1/5000)×100)或更高。另一方面，从比较例6的1/1000稀释液的培养结果，发现与处理之后的样品No.C6相关的1/1液的0.050ml中存在的菌数量为2×103＝2000(CFU)。因此，发现比较例6中的大肠杆菌的灭菌率为60％((5000-2000)/5000)×100)。
这里，在与样品No.9-1相关的滤纸的菌液滴液面相对的面上用活性氧处理样品No.9-1。从示例9和比较例6的结果，理解了通过向被处理物主动供给活性氧的灭菌处理不仅可以更可靠地对滤纸的表面上存在的大肠杆菌进行灭菌，而且可以更可靠地对滤纸内部存在的大肠杆菌进行灭菌。在这方面，根据本发明的灭菌方法优于仅对用UV光照射的面进行灭菌的仅使用UV的灭菌方法。
本发明不限于上述实施例，并且在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可以进行各种修改和改变。因此，添加了所附权利要求书以公开本发明的范围。
本申请基于2020年6月30日提交的日本专利申请2020-113518、2020年10月21日提交的日本专利申请2020-176934、2021年4月26日提交的日本专利申请2021-074076和2021年6月7日提交的日本专利申请2021-094894的优先权而要求优先权，这些申请的全部内容均被并入本文。
附图标记说明
101活性氧供给装置(利用活性氧的处理装置)
102紫外光源(紫外光灯)
103等离子体发生器(等离子体激励器)
104被处理物
104-1被处理物的处理表面
105诱导流
106开口
107壳体

Claims (11)

1.一种活性氧供给装置，其在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，
所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及
所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧。
2.根据权利要求1所述的活性氧供给装置，其中，从所述紫外光源发射的紫外光具有220nm至310nm的峰波长。
3.根据权利要求1或2所述的活性氧供给装置，其中，所述开口中的紫外光具有40μW/cm2或更大的照度。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的活性氧供给装置，其中，所述等离子体激励器中的在所述诱导流未被所述紫外光照射的状态下的每单位时间的臭氧生成量为15μg/分或更多。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的活性氧供给装置，其中，在所述活性氧供给装置的开口指向垂直向下的情况下，从所述等离子体激励器的所述第一电极的边缘起在沿着所述电介质的未被所述第一电极覆盖的部分的方向上的延长线与水平面所形成的窄角θ为0°至90°。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的活性氧供给装置，其中，所述紫外光源和所述等离子体发生器之间的距离为10mm或更小。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的活性氧供给装置，其中，所述紫外光源被布置成能够经由所述开口照射放置在所述壳体外部的被处理物。
8.一种利用活性氧的处理装置，用于利用活性氧处理被处理物的表面，
其中，所述利用活性氧的处理装置在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，
所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及
所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧。
9.根据权利要求8所述的利用活性氧的处理装置，其中，所述紫外光源被布置成能够照射所述被处理物的表面。
10.一种利用活性氧的处理方法，用于利用活性氧处理被处理物的表面，所述处理方法包括以下步骤：
提供利用活性氧的处理装置，所述利用活性氧的处理装置在具有至少一个开口的壳体中包括等离子体发生器和紫外光源，
所述等离子体发生器是等离子体激励器，所述等离子体激励器设置有夹持有电介质的第一电极和第二电极，并且通过在这两个电极之间施加电压来生成包含臭氧的诱导流，所述等离子体激励器被布置成使得所述诱导流从所述开口流到所述壳体外，以及所述紫外光源用紫外光照射所述诱导流并且在所述诱导流中生成活性氧；
将所述利用活性氧的处理装置和所述被处理物放置在当使所述诱导流从所述开口流出时所述被处理物的表面被暴露的相对位置处；以及
使所述诱导流从所述开口流出以利用活性氧处理所述被处理物的表面。
11.根据权利要求10所述的利用活性氧的处理方法，其中，所述紫外光源和所述被处理物的表面之间的距离为10mm或更小。
CN202180046623.0A 2020-06-30 2021-06-30 活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法 Pending CN115997482A (zh)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-113518 2020-06-30
JP2020113518 2020-06-30
JP2020-176934 2020-10-21
JP2020176934 2020-10-21
JP2021-074076 2021-04-26
JP2021074076 2021-04-26
JP2021-094894 2021-06-07
JP2021094894A JP7140885B2 (ja) 2020-06-30 2021-06-07 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
PCT/JP2021/024688 WO2022004771A1 (ja) 2020-06-30 2021-06-30 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115997482A true CN115997482A (zh) 2023-04-21

Family

ID=79316314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180046623.0A Pending CN115997482A (zh) 2020-06-30 2021-06-30 活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20230146111A1 (zh)
EP (1) EP4174019A1 (zh)
JP (1) JP2022023131A (zh)
KR (1) KR20230013108A (zh)
CN (1) CN115997482A (zh)
WO (1) WO2022004771A1 (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240035569A (ko) * 2021-07-30 2024-03-15 캐논 가부시끼가이샤 활성 산소 공급 장치 및 활성 산소에 의한 처리 방법
WO2023127836A1 (ja) * 2021-12-28 2023-07-06 キヤノン株式会社 気体処理装置、及び気体処理方法
JP2023098527A (ja) * 2021-12-28 2023-07-10 キヤノン株式会社 気体処理装置、及び気体処理方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5510158A (en) * 1993-11-26 1996-04-23 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Process for oxidation of an article
JPH1190370A (ja) * 1997-09-22 1999-04-06 Iwasaki Electric Co Ltd 表面処理装置及びその処理方法
JP2005336492A (ja) * 2005-05-26 2005-12-08 Ushio Inc 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法
CN1997773A (zh) * 2002-02-19 2007-07-11 于西纳公司 等离子清洗附有机物质的材料表面的方法和实现该方法的装置
US20120111359A1 (en) * 2007-08-10 2012-05-10 Leibniz-Institut Fuer Plasmaforschung Und Technologie E.V. Process for textile cleaning and disinfection by means of plasma and plasma lock
JP2013154145A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Panasonic Corp 空気浄化装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6164971A (ja) 1984-09-06 1986-04-03 日本鋼管株式会社 低温二重殻貯槽の施工法
JP2555613B2 (ja) 1987-07-21 1996-11-20 岩崎電気株式会社 オゾンと紫外線による殺菌装置
US20070119699A1 (en) * 2005-11-30 2007-05-31 Airocare, Inc. Apparatus and method for sanitizing air and spaces
EP2175894B1 (en) * 2007-08-07 2013-04-10 Lee Antimicrobial Solutions LLC Uv air treatment method and device
US20110212185A1 (en) * 2008-09-16 2011-09-01 Kenichiro Tanaka Water that expresses pathogen-resistance genes (pr gene clusters) to encode plant immunoproteins, a method of preventing plant diseases using the water, and a device for producing the water
JP2015085297A (ja) * 2013-11-01 2015-05-07 国立大学法人東京工業大学 液体処理装置および随伴水処理方法
US10232076B2 (en) * 2014-05-05 2019-03-19 Synexis Llc Purified hydrogen peroxide gas generation methods and devices
JP7186369B2 (ja) 2019-01-17 2022-12-09 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 照明装置
JP7151607B2 (ja) 2019-04-19 2022-10-12 日本電信電話株式会社 温度測定装置および温度測定方法
JP2021074076A (ja) 2019-11-06 2021-05-20 株式会社ニトリホールディングス 清掃具ユニット
JP2021094894A (ja) 2019-12-13 2021-06-24 本田技研工業株式会社 スプリングベース取付構造

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5510158A (en) * 1993-11-26 1996-04-23 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Process for oxidation of an article
JPH1190370A (ja) * 1997-09-22 1999-04-06 Iwasaki Electric Co Ltd 表面処理装置及びその処理方法
CN1997773A (zh) * 2002-02-19 2007-07-11 于西纳公司 等离子清洗附有机物质的材料表面的方法和实现该方法的装置
JP2005336492A (ja) * 2005-05-26 2005-12-08 Ushio Inc 誘電体バリヤ放電ランプを使用した処理方法
US20120111359A1 (en) * 2007-08-10 2012-05-10 Leibniz-Institut Fuer Plasmaforschung Und Technologie E.V. Process for textile cleaning and disinfection by means of plasma and plasma lock
JP2013154145A (ja) * 2012-02-01 2013-08-15 Panasonic Corp 空気浄化装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022023131A (ja) 2022-02-07
US20230146111A1 (en) 2023-05-11
EP4174019A1 (en) 2023-05-03
KR20230013108A (ko) 2023-01-26
WO2022004771A1 (ja) 2022-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN115997482A (zh) 活性氧供给装置、利用活性氧的处理装置和利用活性氧的处理方法
US9101043B2 (en) Microplasma source and sterilization system including the same
JP2006205085A (ja) プラズマ処理装置
Rtimi et al. First unambiguous evidence for distinct ionic and surface-contact effects during photocatalytic bacterial inactivation on Cu–Ag films: Kinetics, mechanism and energetics
US20230139536A1 (en) Sterilization device, sterilization method, active oxygen supply device, and device for treatment with active oxygen
JP7140885B2 (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
CN116568139A (zh) 一种用于表面消毒的共振抗微生物涂料
JP2008135286A (ja) プラズマ表面処理装置
JP2022013730A (ja) 除菌装置、除菌方法、活性酸素供給装置及び活性酸素による処理装置
WO2023127833A1 (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023127831A1 (ja) 活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023127839A1 (ja) 活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
JP2023098676A (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023008316A1 (ja) 活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023127823A1 (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
JP4386650B2 (ja) 殺菌装置
Rodríguez-Méndez et al. Inactivation of Bacillus subtilis in water by direct and indirect nonthermal plasma treatments
WO2023127822A1 (ja) 気体処理装置、及び気体処理方法
WO2023127832A1 (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
JP2023020953A (ja) 活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023008421A1 (ja) 活性酸素供給装置及び活性酸素による処理方法
WO2023127838A1 (ja) 活性酸素供給装置
WO2023127837A1 (ja) 活性酸素供給装置、活性酸素による処理装置及び活性酸素による処理方法
WO2023127836A1 (ja) 気体処理装置、及び気体処理方法
CN117730052A (zh) 活性氧供给装置和用活性氧的处理方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination