CN115775514A - 显示装置和操作显示装置的方法 - Google Patents

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车东勳
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Abstract

公开了显示装置和操作显示装置的方法。该显示装置和方法通过使用位于显示面板下方或下部部分处并与显示区域中的光学区域部分地交叠的光学电子装置实时监测劣化来准确地补偿子像素的劣化。即使在所述显示装置被使用的情况下，也可以使用这种光学元件或装置实时地执行这种劣化的监测，并且可以根据监测的结果来实时地执行劣化的补偿。

Description

显示装置和操作显示装置的方法
技术领域
本公开涉及电子装置，并且更具体地涉及显示装置和操作显示装置的方法。
背景技术
在典型的显示装置中，为了补偿设置在显示面板中的子像素中包括的元件(诸如，发光元件、晶体管等)的劣化，在制造显示面板的工艺期间使用摄像头等来执行光学补偿。在这种光学补偿方法中，可以使用摄像头来准确地测量来自子像素的亮度，并且因此可以准确地确定在制造显示面板时的对应劣化的水平。
在制造显示面板并且启动显示装置之后，随着显示装置被使用，包括在子像素中的元件老化并且变得较低效。然而，不能监测子像素中发光元件等的劣化，结果，根据这些元件被使用的情况来补偿对应劣化存在问题。
发明内容
在当前显示技术的领域中，在制造显示装置之后，在显示面板或包括显示面板的显示装置被用户使用的情况下，使用光学元件或装置来监测包括在显示面板的子像素中的元件(诸如，发光元件、晶体管等)的劣化水平是无法实现的，而是仅在显示装置的制造期间可以实现。因此，在当前显示技术的领域中，越来越需要在制造显示面板之后使用具有高准确度的光学元件或装置来实时地监测和补偿这些元件的劣化。
为了解决这些问题，公开了一种显示装置和操作显示装置的方法，其用于即使在制造显示装置之后用户使用显示装置的情况下也使用光学元件或装置来实时监测子像素的劣化，并且用于根据监测结果来实时补偿劣化。
在一个实施方式中，一种显示装置包括：显示面板，该显示面板包括显示区域和位于显示区域外部的非显示区域，显示区域包括与多个子像素相对应的多个发光区域；一个或更多个光学电子装置，该一个或更多个光学电子装置位于显示面板下方或下部部分处；以及数据驱动电路，该数据驱动电路被配置成向显示面板提供与输入图像数据相对应的数据电压，其中，显示区域包括与一个或更多个光学电子装置部分地交叠的一个或更多个光学区域，以及位于一个或更多个光学区域外部的非光学区域，其中，一个或更多个光学区域包括多个发光区域中的多个第一发光区域以及多个光透射区域，并且非光学区域包括多个发光区域中的多个第二发光区域，并且其中，一个或更多个光学电子装置与一个或更多个光学区域中的多个第一发光区域的至少一部分交叠，并且在不使用显示装置的第一时段和通过与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段中的一个时段期间，通过一个或更多个光学区域来执行图像拍摄操作或感测操作。
在一个实施方式中，一种操作显示装置的方法，该显示装置包括：显示面板，该显示面板包括显示区域和位于显示区域外部的非显示区域，显示区域包括与多个子像素相对应的多个发光区域；数据驱动电路，该数据驱动电路被配置成向显示面板提供与输入图像数据相对应的数据电压；以及一个或更多个光学电子装置，该方法包括以下步骤：确定显示装置是否在不使用显示装置的第一时段中或在通过与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段中操作；以及在第一时段或第二时段期间，由一个或更多个光学电子装置通过一个或更多个光学区域执行图像拍摄操作或感测操作，其中，显示区域包括与一个或更多个光学电子装置部分地交叠的一个或更多个光学区域，以及位于一个或更多个光学区域外部的非光学区域，其中，一个或更多个光学区域包括多个发光区域中的多个第一发光区域以及多个光透射区域，并且非光学区域包括多个发光区域中的多个第二发光区域，并且其中，一个或更多个光学电子装置与一个或更多个光学区域中的多个第一发光区域的至少一部分交叠。
在一个实施方式中，一种显示装置包括：显示面板，该显示面板包括被配置成显示图像的第一光学区域和非光学区域，第一光学区域包括多个第一发光区域和多个第一光透射区域，并且非光学区域包括多个第二发光区域；以及第一电子装置，该第一电子装置被配置成感测穿过多个第一光透射区域的光，第一电子装置在显示面板下方或位于显示面板的下部部分处并且与第一光学区域交叠但不与非光学区域交叠。
附图说明
附图被包括以提供对本公开的进一步理解并且附图被包含在本公开中并构成本公开的一部分，并且附图例示了本公开的实施方式，与说明书一起用于解释本公开的原理。在附图中：
图1A、图1B和图1C是例示根据本公开的实施方式的显示装置的平面图；
图2例示了根据本公开的实施方式的显示装置的***配置；
图3例示了根据本公开的实施方式的显示面板中的子像素的等效电路；
图4例示了根据本公开的实施方式的在显示面板的显示区域中包括的三个区域中的子像素的布置；
图5A例示了根据本公开的实施方式的显示面板中的第一光学区域和非光学区域中的每一者中的信号线的布置；
图5B例示了根据本公开的实施方式的显示面板中的第二光学区域和非光学区域中的每一者中的信号线的布置；
图6和图7是根据本公开的实施方式的包括在显示面板的显示区域中的第一光学区域、第二光学区域和非光学区域中的每一者的截面图；
图8是根据本公开的实施方式的显示面板的边缘的截面图；
图9是表示根据本公开的实施方式的显示面板中根据一个或更多个子像素的使用的劣化程度的曲线；
图10是根据本公开的实施方式的显示装置中的实时劣化补偿***的框图；
图11是根据本公开的实施方式的显示装置中的实时劣化补偿***中的实时劣化建模电路的框图；
图12和图13例示了根据本公开的实施方式的使用显示装置中的一个或更多个光学电子装置的劣化监测结构；
图14例示了根据本公开的实施方式的显示装置中的实时劣化补偿处理；
图15是根据本公开的实施方式的在显示装置中实时监测劣化的方法的流程图；
图16是根据本公开的实施方式的在显示装置中实时补偿劣化的方法的流程图；
图17是表示根据本公开的实施方式的显示装置中的通过基于实时劣化监测的劣化监测优化而改变的劣化程度的曲线；以及
图18例示了根据本公开的实施方式的使用包括在显示装置中的多个光学电子装置来监测劣化的结构。
具体实施方式
在本公开的示例或实施方式的以下描述中，将参照附图，在附图中，通过例示的方式示出了可以实现的特定示例或实施方式，并且在附图中，即使当在彼此不同的附图中示出相同的附图标记和符号时，也可以使用相同的附图标记和符号来指示相同或相似的部件。此外，在本公开的示例或实施方式的以下描述中，当确定本文并入的公知功能和部件的详细描述可能使本公开的一些实施方式中的主题不清楚时，将省略该详细描述。本文所使用的诸如“包括”、“具有”、“含有”、“构成”、“由…组成”和“由…形成”之类的用语通常旨在允许添加其它组分，除非该用语与用语“仅”一起使用。如本文所用，除非上下文另外明确指出，否则单数形式旨在包括复数形式。
本文可能使用诸如“第一”、“第二”、“A”、“B”、“(A)”或“(B)”之类的用语来描述本公开的元件。这些用语中的每一者不用于限定元件的本质、顺序、序列或数量等，而仅仅用于将对应元件与其它元件区分开。
当提到第一元件“连接或联接到”，“接触或交叠”等第二元件时，应解释为不仅第一元件可以“直接连接或联接到”或“直接接触或交叠”第二元件，而且第三元件也可以“插置”在第一元件与第二元件之间，或者第一元件和第二元件可以经由第四元件彼此“连接或联接”、“接触或交叠”等。这里，第二元件可以包括在彼此“连接或联接”、“接触或交叠”等的两个或更多个元件中的至少一个元件中。
当诸如“在…之后”、“在…后”、“接下来…”、“在…之前”等的时间相关用语用于描述元件或配置的过程或操作或者操作、处理、制造方法中的流程或步骤时，这些用语可以用于描述非连续或非顺序的过程或操作，除非一起使用用语“直接”或“立即”。
另外，当提及任何尺寸、相对尺寸等时，即使未指定相关描述，也应认为元件或特征的数值或对应信息(例如，水平、范围等)包括可能由各种因素(例如，工艺因素、内部或外部冲击、噪声等)导致的公差或误差范围。此外，用语“可以”完全涵盖用语“可能”的所有含义。
在下文中，将参照附图详细描述本公开的各种实施方式。
图1A、图1B和图1C是例示根据本公开的实施方式的显示装置100的平面图。
参照图1A、图1B和图1C，根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括用于显示图像的显示面板110和一个或更多个光学电子装置(11、12)。
显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。
多个子像素可以布置在显示区域DA中，并且用于驱动多个子像素的多种类型的信号线可以布置在显示区域DA中。
非显示区域NDA可以指显示区域DA之外的区域。多种类型的信号线可以布置在非显示区域NDA中，并且多种类型的驱动电路可以与多种类型的信号线连接。非显示区域NDA的至少一部分可以被弯曲以从显示面板的前面不可见，或者可以被显示面板110或显示装置100的壳体(未示出)覆盖。非显示区域NDA也可以被称为边框或边框区域。
参照图1A、图1B和图1C，在根据本公开的实施方式的显示装置100中，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以位于显示面板110的下方或下部部分(与显示面板110的观看表面相反的侧)。
光可以进入显示面板110的前表面(观看表面)，穿过显示面板110，到达位于显示面板110下方或下部部分(与观看表面相反的侧)的一个或更多个光学电子装置(11、12)。
一个或更多个光学电子装置(11、12)可以接收或检测透过显示面板110的光，并基于接收到的光来执行预定功能。例如，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以包括诸如摄像头(图像传感器)等的图像拍摄装置和诸如接近传感器、照度传感器等的传感器中的一者或更多者。
参照图1A、图1B和图1C，在一些实施方式中，显示面板110的显示区域DA可以包括一个或更多个光学区域(OA1、OA2)和非光学区域NA。
参照图1A、图1B和图1C，一个或更多个光学区域(OA1、OA2)可以是与一个或更多个光学电子装置(11、12)交叠的一个或更多个区域。非光学区域NA是不与一个或更多个光学电子装置(11、12)交叠的区域，并且也可以被称为正常区域。
根据图1A的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1和非光学区域NA。在一些实施方式中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠。
根据图1B的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和非光学区域NA。在图1B的示例中，非光学区域NA的至少一部分可以存在于第一光学区域OA1与第二光学区域OA2之间。在一些实施方式中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
根据图1C的示例，显示区域DA可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和非光学区域NA。在图1C的示例中，非光学区域NA可以不存在于第一光学区域OA1与第二光学区域OA2之间。例如，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以彼此接触。在一些实施方式中，第一光学区域OA1的至少一部分可以与第一光学电子装置11交叠，并且第二光学区域OA2的至少一部分可以与第二光学电子装置12交叠。
需要在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中形成图像显示结构和光透射结构两者。在一些实施方式中，由于一个或更多个光学区域(OA1、OA2)是显示区域DA的一个或更多个部分，因此需要在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中设置用于显示图像的子像素。此外，为了使光能够透过到一个或更多个光学电子装置(11、12)，需要在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中形成光透射结构。
根据上述实施方式，尽管需要一个或更多个光学电子装置(11、12)来接收或检测光，但是一个或更多个光学电子装置(11、12)有时位于显示面板110的背面(显示面板110下方或下部部分中，即，与观看表面相对的侧)，并且由此可以接收已经透过显示面板110的光。
例如，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以不暴露在显示面板110的前表面(观看表面)中。因此，当用户观看显示装置100的前面时，一个或更多个光学电子装置(11、12)对于用户是不可见的。
在一个实施方式中，第一光学电子装置11可以是摄像头，并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器等的传感器。例如，传感器可以是能够检测红外线的红外传感器。
在另一实施方式中，第一光学电子装置11可以是传感器，并且第二光学电子装置12可以是摄像头。
在下文中，为了便于描述，将对第一光学电子装置11是摄像头并且第二光学电子装置12是诸如接近传感器、照度传感器、红外传感器等的传感器的实施方式进行讨论。例如，摄像头可以是摄像头透镜、图像传感器或包括摄像头透镜和图像传感器中的至少一者的单元。
在第一光学电子装置11是摄像头的情况下，该摄像头可以位于显示面板110的背面(在显示面板110的下方或下部部分中)，并且是能够拍摄在显示面板110的前面方向上的对象的前摄像头。因此，用户可以在观看显示面板110的观看表面的同时通过在观看表面上不可见的摄像头来拍摄图像。
尽管在图1A至图1C中的每个图中包括在显示区域DA中的非光学区域NA和一个或更多个光学区域(OA1、OA2)是可以显示图像的区域，但是非光学区域NA是不需要形成光透射结构的区域，而一个或更多个光学区域(OA1、OA2)是包括光透射结构的区域。
因此，一个或更多个光学区域(OA1、OA2)可以具有大于或等于预定水平的透射率(例如，相对高的透射率)，并且非光学区域NA可以不具有光透射率或者具有小于预定水平的透射率(例如，相对低的透射率)。
例如，一个或更多个光学区域(OA1、OA2)可以具有不同于非光学区域NA的分辨率、子像素排列结构、每单位面积的子像素数量、电极结构、线结构、电极排列结构、线排列结构等。
在一个实施方式中，一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的每单位面积的子像素数量可以小于非光学区域NA中的每单位面积的子像素数量。例如，一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的分辨率可以比非光学区域NA的分辨率小。这里，每单位面积的子像素数量可以是用于测量分辨率的单位，例如，被称为每英寸像素(PPI)，其表示1英寸内的像素数量。
在一个实施方式中，在图1A至图1C中的每个图中，第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素数量可以小于非光学区域NA中的每单位面积的子像素数量。在一个实施方式中，在图1B和图1C中的每个图中，第二光学区域OA2中的每单位面积的子像素数量可以大于或等于第一光学区域OA1中的每单位面积的子像素数量。
在图1A至图1C中的每个图中，第一光学区域OA1可以具有各种形状，诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。在图1B至图1C中的每个图中，第二光学区域OA2可以具有各种形状，诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有相同的形状或不同的形状。
参照图1C，在第一光学区域OA1和第二光学区域OA2彼此接触的情况下，包括第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的整个光学区域也可以具有各种形状，诸如圆形、椭圆形、四边形、六边形、八边形等。
在下文中，为了便于描述，将基于第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者具有圆形形状的实施方式进行讨论。
这里，在根据本公开的实施方式的显示装置100具有其中定位成覆盖在显示面板110的下方或下部部分中而不暴露于外部的第一光学电子装置11是摄像头的结构的情况下，显示装置100可以被称为应用了屏下摄像头(UDC，under-display camera)技术的显示器(或显示装置)。
由于不需要在显示面板110中形成用于暴露摄像头的凹口或摄像头孔，因此根据该配置的显示装置100可以具有防止显示区域DA的尺寸减小的优点。
由于不需要在显示面板110中形成用于摄像头暴露的凹口或摄像头孔，因此显示装置100可以具有减小边框区域的尺寸以及因为消除了对设计的限制而提高设计自由度的进一步优点。
尽管在根据本公开的实施方式的显示装置100中，一个或更多个光学电子装置(11、12)覆盖在显示面板110的背面上(在显示面板110的下方或下部部分中)，也就是说，被隐藏而不暴露于外部，但是需要一个或更多个光学电子装置(11、12)来接收或检测光以正常执行预定功能。
此外，在根据本公开的实施方式的显示装置100中，尽管一个或更多个光学电子装置(11、12)覆盖在显示面板110的背面上(在显示面板110的下方或下部部分中)并且被定位成与显示区域DA交叠，但是需要在显示区域DA中的与一个或更多个光学电子装置(11、12)交叠的一个或更多个光学区域(OA1、OA1)中正常地执行图像显示。
图2例示了根据本公开的实施方式的显示装置100的***配置。
参照图2，显示装置100可以包括显示面板110和显示驱动电路作为用于显示图像的部件。
显示驱动电路是用于驱动显示面板110的电路，并且可以包括数据驱动电路220、选通驱动电路230、显示控制器240等。
显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和不显示图像的非显示区域NDA。非显示区域NDA可以是显示区域DA之外的区域，并且也可以被称为边缘区域或边框区域。非显示区域NDA的全部或一部分可以是从显示装置100的前表面可见的区域，或者是弯曲且从显示装置100的前表面不可见的区域。
显示面板110可以包括基板SUB和设置在基板SUB上的多个子像素SP。显示面板110还可以包括各种类型的信号线以驱动多个子像素SP。
在一些实施方式中，本文的显示装置100可以是液晶显示装置等，或者从显示面板110自身发射光的自发光显示装置。在一些实施方式中，当显示装置100是自发光显示装置时，多个子像素SP中的每个子像素可以包括发光元件。
在一些实施方式中，显示装置100可以是其中使用有机发光二极管(OLED)来实现发光元件的有机发光显示装置。在一些实施方式中，显示装置100可以是其中使用基于无机材料的发光二极管来实现发光元件的无机发光显示装置。在一些实施方式中，显示装置100可以是其中使用量子点来实现发光元件的量子点显示装置，量子点是自发光半导体晶体。
多个子像素SP中的每个子像素的结构可以根据显示装置100的类型而变化。例如，当显示装置100是包括自发光子像素SP的自发光显示装置时，每个子像素SP可以包括自发光发光元件、一个或更多个晶体管以及一个或更多个电容器。
布置在显示装置100中的各种类型的信号线可以包括例如用于承载数据信号(也称为数据电压或图像信号)的多条数据线DL、用于承载选通信号(也称为扫描信号)的多条选通线GL等。
多条数据线DL和多条选通线GL可以彼此交叉。多条数据线DL中的每条数据线可以被设置成在第一方向上延伸。多条选通线GL中的每条选通线可以被设置成在第二方向上延伸。
例如，第一方向可以是列方向或垂直方向，并且第二方向可以是行方向或水平方向。在另一示例中，第一方向可以是行方向，并且第二方向可以是列方向。
数据驱动电路220是用于驱动多条数据线DL的电路，并且可以向多条数据线DL提供数据信号。选通驱动电路230是用于驱动多条选通线GL的电路，并且可以向多条选通线GL提供选通信号。
显示控制器240是用于控制数据驱动电路220和选通驱动电路230的装置，并且可以控制多条数据线DL的驱动定时和多条选通线GL的驱动定时。
显示控制器240可以向数据驱动电路220提供数据驱动控制信号DCS以控制数据驱动电路220，并且向选通驱动电路230提供选通驱动控制信号GCS以控制选通驱动电路230。
显示控制器240可以从主机***250接收输入图像数据，并基于输入图像数据来将图像数据Data提供给数据驱动电路220。
数据驱动电路220可以根据显示控制器240的驱动定时控制来向多条数据线DL提供数据信号。
数据驱动电路220可以从显示控制器240接收数字图像数据Data，将接收到的图像数据Data转换成模拟数据信号，并将得到的模拟数据信号提供给多条数据线DL。
选通驱动电路230可以根据显示控制器240的定时控制来向多条选通线GL提供选通信号。选通驱动电路230可以与各种选通驱动控制信号GCS一起接收与导通电平电压相对应的第一选通电压和与截止电平电压相对应的第二选通电压，生成选通信号，并将生成的选通信号提供给多条选通线GL。
在一些实施方式中，数据驱动电路220可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到显示面板110的导电焊盘(例如，接合焊盘)，或者以膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。
在一些实施方式中，选通驱动电路230可以以带式自动接合(TAB)类型连接到显示面板110，或者以玻璃上芯片(COG)类型或面板上芯片(COP)类型连接到显示面板110的导电焊盘(例如，接合焊盘)，或者以膜上芯片(COF)类型连接到显示面板110。在另一实施方式中，选通驱动电路230可以以面板内栅极(GIP)类型设置在显示面板110的非显示区域NDA中。选通驱动电路230可以设置在基板上或上方，或者连接到基板。也就是说，在GIP类型的情况下，选通驱动电路230可以设置在基板的非显示区域NDA中。在玻璃上芯片(COG)类型、膜上芯片(COF)类型等的情况下，选通驱动电路230可以连接到基板。
数据驱动电路220和选通驱动电路230中的至少一者可以设置在显示面板110的显示区域DA中。例如，数据驱动电路220和选通驱动电路230中的至少一者可以被设置成不与子像素SP交叠，或者被设置成与子像素SP中的一个或更多个子像素或者所有子像素交叠。
数据驱动电路220也可以仅位于显示面板110的一个侧或部分(例如，上边缘或下边缘)上，但不限于此。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，数据驱动电路220可以位于显示面板110的两个侧或部分(例如，上边缘和下边缘)或者显示面板110的四个侧或部分(例如，上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两个侧或部分中，但不限于此。
选通驱动电路230可以仅位于显示面板110的一个侧或部分(例如，左边缘或右边缘)上，但不限于此。在一些实施方式中，根据驱动方案、面板设计方案等，选通驱动电路230可以位于显示面板110的两个侧或部分(例如，左边缘和右边缘)或者显示面板110的四个侧或部分(例如，上边缘、下边缘、左边缘和右边缘)中的至少两个侧或部分上，但不限于此。
显示控制器240可以以与数据驱动电路220分离的部件来实现，或者可以与数据驱动电路220集成并因此以集成电路来实现。
显示控制器240可以是在典型的显示技术中使用的定时控制器，或者可以是除了典型定时控制器的功能之外能够另外执行其它控制功能的控制器或控制装置。在一些实施方式中，显示控制器140可以是与定时控制器不同的控制器或控制装置，或者包括在控制器或控制装置中的电路或部件。显示控制器240可以用诸如集成电路(IC)、现场可编程门阵列(FPGA)、专用集成电路(ASIC)、处理器等的各种电路或电子部件来实现。
显示控制器240可以安装在印刷电路板、柔性印刷电路等上，并且可以通过印刷电路板、柔性印刷电路等电连接到选通驱动电路230和数据驱动电路220。
显示控制器240可以经由一个或更多个预定义接口向数据驱动电路220发送信号以及从数据驱动电路220接收信号。在一些实施方式中，这样的接口可以包括低压差分信令(LVDS)接口、EPI接口、串行***接口(SP)等。
在一些实施方式中，为了进一步提供触摸感测功能以及图像显示功能，显示装置100可以包括至少一个触摸传感器和触摸感测电路，触摸感测电路能够通过对触摸传感器进行感测来检测诸如手指、笔等的触摸对象是否发生触摸事件，或者能够检测对应的触摸位置。
触摸感测电路可以包括：触摸驱动电路260，该触摸驱动电路能够通过驱动和感测触摸传感器来生成和提供触摸感测数据；触摸控制器270，该触摸控制器能够使用触摸感测数据来检测触摸事件的发生或检测触摸位置；等。
触摸传感器可以包括多个触摸电极。触摸传感器还可以包括多条触摸线，用于将多个触摸电极电连接到触摸驱动电路260。
触摸传感器可以在显示面板110外部以触摸面板的形式实现，或者在显示面板110内部实现。当触摸传感器在显示面板110外部以触摸面板的形式实现时，这种触摸传感器被称为附加型。当设置附加型触摸传感器时，触摸面板和显示面板110可以在组装工艺期间单独制造和组合。附加型触摸面板可以包括触摸面板基板和位于触摸面板基板上的多个触摸电极。
当触摸传感器在显示面板110内部实现时，在制造显示面板110的工艺期间，触摸传感器可以与和显示驱动相关的信号线和电极一起设置在基板SUB上方。
触摸驱动电路260可以向多个触摸电极中的至少一个触摸电极提供触摸驱动信号，并且对多个触摸电极中的至少一个触摸电极进行感测以生成触摸感测数据。
触摸感测电路可以使用自电容感测方法或互电容感测方法来执行触摸感测。
当触摸感测电路以自电容感测方法来执行触摸感测时，触摸感测电路可以基于每个触摸电极与触摸对象(例如，手指、笔等)之间的电容来执行触摸感测。
根据自电容感测方法，多个触摸电极中的每个触摸电极可以用作驱动触摸电极和感测触摸电极两者。触摸驱动电路260可以驱动多个触摸电极中的所有触摸电极或者一个或更多个触摸电极，并且对多个触摸电极中的所有触摸电极或者一个或更多个触摸电极进行感测。
当触摸感测电路以互电容感测方法执行触摸感测时，触摸感测电路可以基于触摸电极之间的电容来执行触摸感测。
根据互电容感测方法，多个触摸电极被划分成驱动触摸电极和感测触摸电极。触摸驱动电路260可以对驱动触摸电极进行驱动并对感测触摸电极进行感测。
包括在触摸感测电路中的触摸驱动电路260和触摸控制器270可以以单独的装置中或以单个装置来实现。此外，触摸驱动电路260和数据驱动电路220可以以单独的装置中或以单个装置来实现。
显示装置100还可以包括电源电路，用于向显示驱动电路和/或触摸感测电路供应各种类型的电力。
在一些实施方式中，显示装置100可以是诸如智能电话、平板电脑等之类的移动终端或者监测器、电视(TV)等。这种装置可以是各种类型、尺寸和形状。根据本公开的实施方式的显示装置100不限于此，并且包括用于显示信息或图像的各种类型、尺寸和形状的显示器。
如上所述，显示面板110的显示区域DA可以包括非光学区域NA和一个或更多个光学区域(OA1、OA2)，例如，如图1A至图1C所示。
非光学区域NA和一个或更多个光学区域(OA1、OA2)是可以显示图像的区域。然而，非光学区域NA是不需要实现光透射结构的区域，并且一个或更多个光学区域OA1、OA2是需要实现光透射结构的区域。
如上文关于图1A至图1C的示例所讨论的，尽管显示面板110的显示区域DA除了非光学区域NA之外还可以包括一个或更多个光学区域(OA1、OA2)，但是为了便于描述，除非另有明确说明，否则在下面的讨论中，假设显示区域DA包括第一光学区域和第二光学区域(OA1、OA2)以及非光学区域NA，并且其非光学区域NA包括图1A至图1C中的非光学区域NA，并且其第一光学区域和第二光学区域(OA1、OA2)分别包括图1A至图1C中的第一光学区域OA1以及图1B和图1C中的第二光学区域OA2。
图3例示了根据本公开的实施方式的显示面板110中的子像素SP的等效电路。
设置在显示面板110的显示区域DA中包括的非光学区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的子像素SP中的每个子像素可以包括发光元件ED、用于驱动发光元件ED的驱动晶体管DRT、用于将数据电压Vdata传输到驱动晶体管DRT的第一节点N1的扫描晶体管SCT、用于在一帧期间将电压维持在近似恒定电平的存储电容器Cst等。
驱动晶体管DRT可以包括施加有数据电压的第一节点N1、电连接到发光元件ED的第二节点N2、以及通过驱动电压线DVL施加有驱动电压ELVDD的第三节点N3。在驱动晶体管DRT中，第一节点N1可以是栅极节点，第二节点N2可以是源极节点或漏极节点，并且第三节点N3可以是漏极节点或源极节点。
发光元件ED可以包括阳极AE、发光层EL和阴极CE。阳极AE可以是设置在每个子像素SP中的像素电极，并且可以电连接到每个子像素SP的驱动晶体管DRT的第二节点N2。阴极CE可以是共同地设置在多个子像素SP中的公共电极，并且例如低电平电压的基极电压ELVSS可以施加到阴极CE。
例如，阳极AE可以是像素电极，并且阴极CE可以是公共电极。在另一示例中，阳极AE可以是公共电极，并且阴极CE可以是像素电极。为了便于描述，除非另有明确说明，否则在下面的讨论中，假设阳极AE是像素电极，并且阴极CE是公共电极。
发光元件ED可以是例如有机发光二极管(OLED)、无机发光二极管、量子点发光元件等。在有机发光二极管用作发光元件ED的情况下，包括在发光元件ED中的发光层EL可以包括包含有机材料的有机发光层。
扫描晶体管SCT可以通过扫描信号SCAN导通和截止，扫描信号SCAN是通过选通线GL施加的选通信号，并且扫描晶体管SCT电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1与数据线DL之间。
存储电容器Cst可以电连接在驱动晶体管DRT的第一节点N1与第二节点N2之间。
如图3所示，每个子像素SP可以包括两个晶体管(2T：DRT和SCT)和一个电容器(1C：Cst)(称为“2T1C结构”)，并且在一些情况下，还可以包括一个或更多个晶体管，或者还可以包括一个或更多个电容器。
存储电容器Cst可以是有意设计成位于驱动晶体管DRT外部的外部电容器，而不是例如可以存在于驱动晶体管DRT的第一节点N1与第二节点N2之间的寄生电容器(例如，Cgs、Cgd)的内部电容器。
驱动晶体管DRT和扫描晶体管SCT中的每一者可以是n型晶体管或p型晶体管。
由于每个子像素SP中的电路元件(具体地，发光元件ED)容易受到外部湿气或氧气的影响，所以可以在显示面板110中设置封装层ENCAP，以便防止外部湿气或氧气渗透到电路元件(具体地，发光元件ED)中。封装层ENCAP可以被设置成覆盖发光元件ED。
图4例示了根据本公开的实施方式的在显示面板110的显示区域DA中包括的三个区域(NA、OA1和OA2)中的子像素SP的布置。
参照图4，多个子像素SP可以设置在显示区域DA中包括的非光学区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者中。
多个子像素SP可以包括例如发射红光的红色子像素(红色SP)、发射绿光的绿色子像素(绿色SP)和发射蓝光的蓝色子像素(蓝色SP)。
因此，非光学区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者可以包括一个或更多个红色子像素(红色SP)的一个或更多个发光区域EA、一个或更多个绿色子像素(绿色SP)的一个或更多个发光区域EA以及一个或更多个蓝色子像素(蓝色SP)的一个或更多个发光区域EA。
参照图4，非光学区域NA可以不包括光透射结构，但是可以包括没有光透射结构的发光区域EA。
然而，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2包括发光区域EA和光透射结构两者。
因此，第一光学区域OA1可以包括发光区域EA和第一透射区域TA1(例如，光透射区域)，并且第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2(例如，光透射区域)。
发光区域EA和透射区域(TA1、TA2)可以根据是否允许光的透射而不同。也就是说，发光区域EA可以是不允许光透射的区域，并且透射区域TA1、TA2可以是允许光透射的区域。
发光区域EA和透射区域TA1、TA2也可以根据是否包括特定金属层而不同。例如，阴极CE可以设置在发光区域EA中，而阴极CE可以不设置在透射区域(TA1、TA2)中。此外，遮光层可以设置在发光区域EA中，而遮光层可以不设置在透射区域(TA1、TA2)中。
由于第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1并且第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，所以第一光学区域OA1和第二光学区域OA2两者是光可以通过的区域。
在一个实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(透射度)和第二光学区域OA2的透射率(透射度)可以基本上相等。
例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有基本上相同的形状或尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有不同的形状或尺寸时，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率以及第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以基本上相等。
在另一实施方式中，第一光学区域OA1的透射率(透射度)和第二光学区域OA2的透射率(透射度)可能不同。
例如，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2可以具有不同的形状或尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本上相等的形状或尺寸时，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率以及第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率也可以彼此不同。
例如，在与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11是摄像头并且与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12是用于检测图像的传感器的情况下，摄像头可能需要比传感器多的光量。
因此，第一光学区域OA1的透射率(透射度)可以比第二光学区域OA2的透射率(透射度)大。
在这种情况下，第一光学区域OA1的第一透射区域TA1可以具有比第二光学区域OA2的第二透射区域TA2大的尺寸。在另一示例中，即使当第一光学区域OA1的第一透射区域TA1和第二光学区域OA2的第二透射区域TA2具有基本上相等的尺寸时，第一透射区域TA1与第一光学区域OA1的比率也可以比第二透射区域TA2与第二光学区域OA2的比率大。
为了便于描述，基于第一光学区域OA1的透射率(透射度)比第二光学区域OA2的透射率(透射度)大的实施方式来进行以下讨论。
此外，如图4中所示的透射区域(TA1、TA2)可以被称为透明区域，并且术语透射率可以被称为透明度。
此外，除非另有明确说明，否则在下面的讨论中，如图4所示，假设第一光学区域OA1和第二光学区域OA2位于显示面板110的显示区域DA的上边缘中，并且第一光学区域OA1和第二光学区域OA2被设置成彼此水平邻近，例如沿上边缘延伸的方向设置。
参照图4，设置有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的水平显示区域被称为第一水平显示区域HA1，而没有设置第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的另一水平显示区域被称为第二水平显示区域HA2。
参照图4，第一水平显示区域HA1可以包括非光学区域NA的一部分、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。第二水平显示区域HA2可以包括非光学区域NA的另一部分而没有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。
图5A例示了根据本公开的实施方式的显示面板110中的第一光学区域OA1和非光学区域NA中的每一者中的信号线的布置，并且图5B例示了根据本公开的实施方式的显示面板110中的第二光学区域OA2和非光学区域NA中的每一者中的信号线的布置。
图5A和图5B中所示的第一水平显示区域HA1是显示面板110的第一水平显示区域HA1的部分，并且其中的第二水平显示区域HA2是显示面板110的第二水平显示区域HA2的部分。
图5A中所示的第一光学区域OA1是显示面板110的第一光学区域OA1的一部分，并且图5B中所示的第二光学区域OA2是显示面板110的第二光学区域OA2的一部分。
参照图5A和图5B，第一水平显示区域HA1可以包括第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和非光学区域NA的一部分。第二水平显示区域HA2可以包括非光学区域NA的另一部分而没有第一光学区域OA1和第二光学区域OA2。
各种类型的水平线HL1、HL2和各种类型的垂直线VLn、VL1、VL2可以设置在显示面板110中。
在本文中，用语“水平”和用语“垂直”用于指与显示面板相交的两个方向。然而，应当注意，水平方向和垂直方向可以根据观看方向而改变。水平方向可以指例如其中一条选通线GL被设置成延伸的方向，垂直方向可以指例如其中一条数据线DL设置成延伸的方向。因此，用语水平和用语垂直用于表示两个方向。
参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的水平线可以包括设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2上的第二水平线HL2。
设置在显示面板110中的水平线可以是选通线GL。也就是说，第一水平线HL1和第二水平线HL2可以是选通线GL。根据一个或更多个子像素SP的结构，选通线GL可以包括各种类型的选通线。
参照图5A和图5B，设置在显示面板110中的垂直线可以包括仅设置在非光学区域NA中的典型垂直线VLn、延伸通过第一光学区域OA1和非光学区域NA两者的第一垂直线VL1、延伸通过第二光学区域OA2和非光学区域NA两者的第二垂直线VL2。
设置在显示面板110中的垂直线可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。也就是说，典型垂直线VLn、第一垂直线VL1和第二垂直线VL2可以包括数据线DL、驱动电压线DVL等，并且还可以包括参考电压线、初始化电压线等。
在一些实施方式中，应当注意，第二水平线HL2中的用语“水平”可以仅意指信号从显示面板的左侧传送到右侧(或从右侧传送到左侧)，并且可以不意指第二水平线HL2仅在直接水平方向上以直线延伸。例如，在图5A和图5B中，虽然第二水平线HL2以直线例示，然而第二水平线HL2中的一条或更多条可以包括与其配置不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，一条或更多条第一水平线HL1也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。
在一些实施方式中，应当注意，典型垂直线VLn中的用于语“垂直”可以仅意指信号从显示面板的上部部分传送到下部部分(或从下部部分传送到上部部分)，并且可以不意指典型垂直线VLn仅在直接垂直方向上以直线延伸。例如，在图5A和图5B中，虽然典型垂直线VLn以直线示出，然而典型垂直线VLn中的一条或更多条可以包括与其配置不同的一个或更多个弯曲或折叠部分。同样，一条或更多条第一垂直线VL1以及一条或更多条第二垂直线VL2也可以包括一个或更多个弯曲或折叠部分。
参照图5A，包括在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1可以包括发光区域EA和第一透射区域TA1。在第一光学区域OA1中，第一透射区域TA1的相应外部区域可以包括对应的发光区域EA。
参照图5A，为了提高第一光学区域OA1的透射率，第一水平线HL1可以通过避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1而延伸通过第一光学区域OA1。
因此，延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每条第一水平线可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个第一透射区域的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1和设置在第二水平显示区域HA2中的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。例如，延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1和不延伸通过第一光学区域OA1的第二水平线HL2可以具有不同的形状或长度。
此外，为了提高第一光学区域OA1的透射率，第一垂直线VL1可以通过避开第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1而延伸通过第一光学区域OA1。
因此，延伸通过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1中的每条第一垂直线可以包括围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个第一透射区域的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，延伸通过第一光学区域OA1的第一垂直线VL1和设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
参照图5A，包括在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以沿对角方向布置。
参照图5A，在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以设置在两个水平邻近的第一透射区域TA1之间。在第一水平显示区域HA1中的第一光学区域OA1中，一个或更多个发光区域EA可以设置在两个垂直邻近的第一透射区域TA1之间。
参照图5A，设置在第一水平显示区域HA1中的第一水平线HL1(也就是说，延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1)各自可以包括围绕第一透射区域TA1的中的一个或更多个第一透射区域的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
参照图5B，包括在第一水平显示区域HA1中的第二光学区域OA2可以包括发光区域EA和第二透射区域TA2。在第二光学区域OA2中，第二透射区域TA2的相应外部区域可以包括对应的发光区域EA。
在一个实施方式中，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1基本上相同的位置和布置。
在另一实施方式中，如图5B中所示，第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2可以具有与图5A的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
例如，参照图5B，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以沿水平方向(左至右方向或右至左方向)布置。发光区域EA可以不设置在水平方向上彼此邻近的两个第二透射区域TA2之间。此外，第二光学区域OA2中的发光区域EA中的一个或更多个发光区域可以设置在垂直方向(上至下方向或下至上方向)上彼此邻近的第二透射区域TA2之间。例如，一个或更多个发光区域EA可以设置在两行第二透射区域之间。
当在第一水平显示区域HA1中，延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2邻近的非光学区域NA时，在一个实施方式中，第一水平线HL1可以具有与图5A的第一水平线HL1基本相同的布置。
在另一实施方式中，如图5B所示，当在第一水平显示区域HA1中，延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2邻近的非光学区域NA时，第一水平线HL1可以具有与图5A中的第一水平线HL1不同的布置。
这是因为图5B中的第二光学区域OA2中的发光区域EA和第二透射区域TA2具有与图5A中的第一光学区域OA1中的发光区域EA和第一透射区域TA1不同的位置和布置。
参照图5B，当在第一水平显示区域HA1中，第一水平线HL1延伸通过第二光学区域OA2和与第二光学区域OA2邻近的非光学区域NA时，第一水平线HL1可以在垂直邻近的第二透射区域TA2之间以直线延伸而不具有弯曲或弯折部分。
例如，一条第一水平线HL1可以在第一光学区域OA1中具有一个或更多个弯曲或弯折部分，但在第二光学区域OA2中可以不具有弯曲或弯折部分。
为了提高第二光学区域OA2的透射率，第二垂直线VL2可以通过避开第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2而延伸通过第二光学区域OA2。
因此，延伸通过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2中的每个第二垂直线可以包括围绕第二透射区域TA2中的一个或更多个第二透射区域的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，延伸通过第二光学区域OA2的第二垂直线VL2和设置在非光学区域NA中而不延伸通过第二光学区域OA2的典型垂直线VLn可以具有不同的形状或长度。
如图5A中所示，延伸通过第一光学区域OA1的第一水平线HL1中的每条第一水平线或者一条或更多条第一水平线可以具有围绕第一透射区域TA1中的一个或更多个第一透射区域的一个或更多个相应外边缘延伸的一个或更多个弯曲或弯折部分。
因此，延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的长度可以比设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的长度稍长。
因此，延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的电阻(其被称为第一电阻)可以比设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的电阻(其被称为第二电阻)稍大。
参照图5A和图5B，根据光透射结构，由于与第一光学电子装置11至少部分地交叠的第一光学区域OA1包括第一透射区域TA1，并且与第二光学电子装置12至少部分地交叠的第二光学区域OA2包括第二透射区域TA2，因此，第一光学区域OA1和第二光学区域OA2可以具有比非光学区域NA的每单位面积的子像素数量小的每单位面积的子像素数量。
因此，与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每条第一水平线或者一条或更多条第一水平线连接的子像素的数量可以不同于与仅设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每条第二水平线或者一条或更多条第二水平线连接的子像素的数量。
与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每条第一水平线或者一条或更多条第一水平线连接的子像素的数量(其被称为第一数量)可以比与仅设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每条第二水平线或者一条或更多条第二水平线连接的子像素的数量(其被称为第二数量)小。
第一数量与第二数量之间的差可以根据第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者的分辨率与非光学区域NA的分辨率之间的差而变化。例如，随着第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的每一者的分辨率与非光学区域NA的分辨率之间的差增大，第一数量和第二数量之间的差可以增大。
如上所述，由于与延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1中的每条第一水平线或者一条或更多条第一水平线连接的子像素的数量(第一数量)比与仅设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2中的每条第二水平线或者一条或更多条第二水平线连接的子像素的数量(第二数量)小，所以第一水平线HL1与邻近于第一水平线HL1的一个或更多个其它电极或线交叠的区域可以比第二水平线HL2与邻近于第二水平线HL2的一个或更多个其它电极或线交叠的区域小。
因此，在第一水平线HL1与邻近于第一水平线HL1的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容(其被称为第一电容)可以比在第二水平线HL2与邻近于第二水平线HL2的一个或更多个其它电极或线之间形成的寄生电容(其被称为第二电容)小得多。
考虑第一电阻与第二电阻之间的大小关系(第一电阻≥第二电阻)以及第一电容和第二电容之间的大小关系(第一电容<<第二电容)，延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第一水平线HL1的阻容(RC)值(其被称为第一RC值)可以比设置在非光学区域NA中而不延伸通过第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的第二水平线HL2的RC值(其被称为第二RC值)小得多，也就是说，导致第一RC值<<第二RC值。
由于第一水平线HL1的第一RC值与第二水平线HL2的第二RC值之间的这种差(其被称为RC负载差)，所以通过第一水平线HL1的信号传送特性可能不同于通过第二水平线HL2的信号传送特性。
图6和图7是根据本公开的实施方式的包括在显示面板110的显示区域DA中的第一光学区域OA1、第二光学区域OA2和非光学区域NA中的每一者的截面图。
图6示出了在触摸传感器以触摸面板的形式实现在显示面板110外部的情况下的显示面板110，并且图7示出了在触摸传感器TS实现在显示面板110内部的情况下的显示面板110。
图6和图7中的每个图示出了包括在显示区域DA中的非光学区域NA、第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的截面图。
将参照图6和图7来描述非光学区域NA的层叠结构。第一光学区域OA1和第二光学区域OA2的相应发光区域EA可以具有与非光学区域NA1的发光区域EA相同的层叠结构。
参照图6和图7，基板SUB可以包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2。层间绝缘层IPD可以插置在第一基板SUB1与第二基板SUB2之间。由于基板SUB包括第一基板SUB1、层间绝缘层IPD和第二基板SUB2，因此基板SUB可以防止或至少减少湿气的渗透。第一基板SUB1和第二基板SUB2可以是例如聚酰亚胺(PI)基板。第一基板SUB1可以被称为主PI基板，并且第二基板SUB2可以被称为辅PI基板。
参照图6和图7，用于设置诸如驱动晶体管DRT等的一个或更多个晶体管的各种类型的图案(ACT、SD1、GATE)，各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0)，以及各种类型的金属图案(TM、GM、ML1、ML2)可以设置在基板SUB上或上方。
参照图6和图7，多缓冲层MBUF可以设置在第二基板SUB2上，并且第一有源缓冲层ABUF1可以设置在多缓冲层MBUF上。
第一金属层ML1和第二金属层ML2可以设置在第一有源缓冲层ABUF1上。第一金属层ML1和第二金属层ML2可以是例如用于遮蔽光的遮光层LS。
第二有源缓冲层ABUF2可以设置在第一金属层ML1和第二金属层ML2上。驱动晶体管DRT的有源层ACT可以设置在第二有源缓冲层ABUF2上。
栅极绝缘层GI可以被设置成覆盖有源层ACT。
驱动晶体管DRT的栅极GATE可以设置在栅极绝缘层GI上。在这种情况下，栅极材料层GM可以在与设置有驱动晶体管DRT的位置不同的位置处与驱动晶体管DRT的栅极GATE一起设置在栅极绝缘层GI上。
第一层间绝缘层ILD1可以被设置成覆盖栅极GATE和栅极材料层GM。金属图案TM可以设置在第一层间绝缘层ILD1上。金属图案TM可以位于与形成有驱动晶体管DRT的位置不同的位置处。第二层间绝缘层ILD2可以被设置成覆盖第一层间绝缘层ILD1上的金属图案TM。
两个第一源极-漏极图案SD1可以设置在第二层间绝缘层ILD2上。两个第一源极-漏极图案SD1中的一个可以是驱动晶体管DRT的源极节点，并且另一个可以是驱动晶体管DRT的漏极节点。
两个第一源极-漏极图案SD1可以通过形成在第二层间绝缘层ILD2、第一层间绝缘层ILD1和栅极绝缘层GI中的接触孔分别电连接到有源层ACT的第一侧部和第二侧部。
有源层ACT的与栅极GATE交叠的部分可以用作沟道区域。两个第一源极-漏极图案SD1中的一个可以连接到有源层ACT的沟道区域的第一侧部，并且两个第一源极-漏极图案SD1中的另一个可以连接到有源层ACT的沟道区域的第二侧部。
钝化层PAS0可以被设置成覆盖两个第一源极-漏极图案SD1。平坦化层PLN可以设置在钝化层PAS0上。平坦化层PLN可以包括第一平坦化层PLN1和第二平坦化层PLN2。
第一平坦化层PLN1可以设置在钝化层PAS0上。
第二源极-漏极图案SD2可以设置在第一平坦化层PLN1上。第二源极-漏极图案SD2可以通过形成在第一平坦化层PLN1中的接触孔连接到两个第一源极-漏极图案SD1中的一个(与图3的子像素SP中的驱动晶体管DRT的第二节点N2相对应)。
第二平坦化层PLN2可以被设置成覆盖第二源极-漏极图案SD2。发光元件ED可以设置在第二平坦化层PLN2上。
根据发光元件ED的示例层叠结构，阳极AE可以设置在第二平坦化层PLN2上。阳极AE可以通过形成在第二平坦化层PLN2中的接触孔电连接到第二源极-漏极图案SD2。
堤部BANK可以被设置成覆盖阳极AE的一部分。堤部BANK的与子像素SP的发光区域EA相对应的一部分可以被开口。
阳极AE的一部分可以通过堤部BANK的开口(开口部分)暴露。发光层EL可以位于堤部BANK的侧表面上和堤部BANK的开口(开口部分)中。发光层EL的全部或至少一部分可以位于邻近的堤部之间。
在堤部BANK的开口中，发光层EL可以接触阳极AE。阴极CE可以设置在发光层EL上。
如上所述，发光元件ED可以通过包括阳极AE、发光层EL和阴极CE来形成。发光层EL可以包括有机层。
封装层ENCAP可以设置在发光元件ED的层叠体上。
如图6和图7中所示，例如，封装层ENCAP可以具有单层结构或多层结构，封装层ENCAP可以包括第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2。
第一封装层PAS1和第三封装层PAS2可以是例如无机层，第二封装层PCL可以是例如有机层。在第一封装层PAS1、第二封装层PCL和第三封装层PAS2当中，第二封装层PCL可以是最厚的并且用作平坦化层。
第一封装层PAS1可以设置在阴极CE上，并且可以被设置成最靠近发光元件ED。第一封装层PAS1可以包括能够使用低温沉积来沉积的无机绝缘材料。例如，第一封装层PAS1可以包括但不限于氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。由于第一封装层PAS1可以在低温气氛中沉积，因此在沉积工艺期间，第一封装层PAS1可以防止包含易受高温气氛影响的有机材料的发光层EL受到损坏。
第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1小的面积。例如，第二封装层PCL可以被设置成暴露第一封装层PAS1的两端或边缘。第二封装层PCL可以用作缓冲器，用于在显示装置100弯曲或弯折的同时释放对应的层之间的应力，并且还用于增强平坦化性能。例如，第二封装层PCL可以包括有机绝缘材料，诸如丙烯酸树脂、环氧树脂、聚酰亚胺、聚乙烯、碳氧化硅(SiOC)等。第二封装层PCL可以例如使用喷墨方案(inkjet scheme)来设置。
第三封装层PAS2可以设置在上方设置有第二封装层PCL的基板SUB上方，以覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。第三封装层PAS2可以最小化或防止或至少减少外部湿气或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。例如，第三封装层PAS2可以包括无机绝缘材料，诸如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氧化铝(Al2O3)等。
参照图7，在触摸传感器TS嵌入到显示面板110中的情况下，触摸传感器TS可以设置在封装层ENCAP上。下面将详细描述触摸传感器的结构。
触摸缓冲层T-BUF可以设置在封装层ENCAP上。触摸传感器TS可以设置在触摸缓冲层T-BUF上。
触摸传感器TS可以包括位于不同层中的触摸传感器金属TSM和至少一个桥接金属BRG。
触摸层间绝缘层T-ILD可以设置在触摸传感器金属TSM与桥接金属BRG之间。
例如，触摸传感器金属TSM可以包括彼此邻近设置的第一触摸传感器金属TSM、第二触摸传感器金属TSM和第三触摸传感器金属TSM。在第三触摸传感器金属TSM设置在第一触摸传感器金属TSM与第二触摸传感器金属TSM之间，并且第一触摸传感器金属TSM和第二触摸传感器金属TSM需要彼此电连接的实施方式中，第一触摸传感器金属TSM和第二触摸传感器金属TSM可以通过位于不同层中的桥接金属BRG彼此电连接。桥接金属BRG可以通过触摸层间绝缘层T-ILD与第三触摸传感器金属TSM电绝缘。
在触摸传感器TS设置在显示面板110上的同时，可能产生或引入在对应工艺中使用的化学溶液(显影剂或蚀刻剂等)或来自外部的湿气。通过将触摸传感器TS设置在触摸缓冲层T-BUF上，可以防止化学溶液或湿气在触摸传感器TS的制造工艺期间渗透到包括有机材料的发光层EL中。因此，触摸缓冲层T-BUF可以防止或至少减少对易受化学溶液或湿气影响的发光层EL的损坏。
为了防止或至少减少对包含易受高温影响的有机材料的发光层EL的损坏，触摸缓冲层T-BUF可以在小于或等于预定温度(例如，100度(℃))的低温下形成，并且使用具有1至3的低介电常数的有机绝缘材料来形成。例如，触摸缓冲层T-BUF可以包括丙烯酸基材料、环氧基材料或硅基材料。当显示装置100弯曲时，封装层ENCAP可能损坏，并且位于触摸缓冲层T-BUF上的触摸传感器金属可能破裂或断裂。即使当显示装置100弯曲时，作为有机绝缘材料的具有平坦化性能的触摸缓冲层T-BUF也可以防止封装层ENCAP的损坏和/或包括在触摸传感器TS中的金属(TSM、BRG)的破裂或断裂。
保护层PAC可以被设置成覆盖触摸传感器TS。保护层PAC可以是例如有机绝缘层。
接下来，将参照图6和图7来描述第一光学区域OA1的层叠结构。
参照图6和图7，第一光学区域OA1的发光区域EA可以具有与非光学区域NA中的发光区域EA相同的层叠结构。因此，在下面的讨论中，不再重复描述第一光学区域OA1中的发光区域EA，下面将详细描述第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的层叠结构。
阴极CE可以设置在包括在非光学区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中，但是可以不设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。例如，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以与阴极CE的开口相对应。
此外，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个的遮光层LS可以设置在包括在非光学区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中，但是可以不设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。例如，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以与遮光层LS的开口相对应。
基板SUB1、SUB2以及设置在包括在非光学区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中的各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、T-BUF、T-ILD、PAC)可以相等地、基本相等地或类似地设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
然而，设置在包括在非光学区域NA和第一光学区域OA1中的发光区域EA中的除了绝缘材料或层之外的具有电特性的一个或更多个材料层(例如，金属材料层、半导体层等)中的所有材料层或者一个或更多个材料层可以不设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
例如，参照图6和图7，与至少一个晶体管相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)和半导体层(ACT)中的所有层或者一个或更多个层可以不设置在第一透射区域TA1中。
此外，参照图6和图7，包括在发光元件ED中的阳极AE和阴极CE可以不设置在第一透射区域TA1中。在一些实施方式中，根据设计要求，发光元件ED的发光层EL可以设置或可以不设置在第一透射区域TA1中。
进一步地，参照图7，包括在触摸传感器TS中的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG可以不设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
因此，因为在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中没有设置具有电学性质的材料层(例如，金属材料层、半导体层等)，所以可以提供或改进第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的光透射率。因此，第一光学电子装置11可以通过接收透过第一透射区域TA1的光来执行预定功能(例如，图像感测)。
由于第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中的所有第一透射区域或者一个或更多个第一透射区域与第一光学电子装置11交叠，因此为了使第一光学电子装置11能够正常工作，需要进一步增大第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的透射率。
为此，在一些实施方式中，形成在显示装置100的显示面板110的第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以具有透射率改进结构TIS。
参照图6和图7，包括在显示面板110中的多个绝缘层可以包括至少一个基板(SUB1、SUB2)与至少一个晶体管(DRT、SCT)之间的缓冲层(MBUF、ABUF1、ABUF2)、晶体管DRT与发光元件ED之间的平坦化层(PLN1、PLN2)、发光元件ED上的封装层ENCAP等。
参照图7，包括在显示面板110中的多个绝缘层还可以包括位于封装层ENCAP上的触摸缓冲层T-BUF和触摸层间绝缘层T-ILD等。
参照图6和图7，第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1可以具有这样的结构(例如，凹槽、沟槽、凹部、突起等)，其中第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0具有从其相应表面向下朝向基板SUB延伸的凹陷部分，作为透射率改进结构TIS。
参照图6和图7，在多个绝缘层当中，第一平坦化层PLN1可以包括至少一个凹陷(或凹槽、沟槽、凹部、突起等)。第一平坦化层PLN1可以是例如有机绝缘层。
在第一平坦化层PLN1具有从其表面向下延伸的凹陷部分的情况下，第二平坦化层PLN2可以基本上用于平坦化。在一个实施方式中，第二平坦化层PLN2还可以具有从其表面向下延伸的凹陷部分。在这种情况下，第二封装层PCL可以基本上用于平坦化。
参照图6和图7，第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0的凹陷部分可以穿过用于形成晶体管DRT的诸如第一层间绝缘层ILD1、第二层间绝缘层ILD2、栅极绝缘层GI等的绝缘层，并且穿过位于绝缘层下方的诸如第一有源缓冲层ABUF1、第二有源缓冲层ABUF2、多缓冲层MBUF等的缓冲层，并且延伸至第二基板SUB2的上部部分。
参照图6和图7，基板SUB可以包括至少一个凹部部分或凹陷部分作为透射率改进结构TIS。例如，在第一透射区域TA1中，第二基板SUB2的上部部分可以向下凹进或凹陷，或者第二基板SUB2可以被穿孔。
参照图6和图7，包括在封装层ENCAP中的第一封装层PAS1和第二封装层PCL也可以具有透射率改进结构TIS，其中，第一封装层PAS1和第二封装层PCL具有从其相应表面朝向基板SUB向下延伸的凹陷部分。第二封装层PCL可以是例如有机绝缘层。
参照图7，为了保护触摸传感器TS，保护层PAC可以被设置成覆盖封装层ENCAP上的触摸传感器TS。
在一个实施方式中，保护层PAC可以在与第一透射区域TA1交叠的部分中具有至少一个凹陷(或凹槽、沟槽、凹部、突起等)作为透射率改进结构TIS。保护层PAC可以是例如有机绝缘层。
参照图7，触摸传感器TS可以包括具有网格类型的一个或更多个触摸传感器金属TSM。在触摸传感器金属TSM以网格类型形成的情况下，多个开口可以形成在触摸传感器金属TSM中。多个开口中的每个开口可以被定位成与子像素SP的发光区域EA相对应。
为了使第一光学区域OA1具有比非光学区域NA的透射率高的透射率，第一光学区域OA1中的每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或尺寸可以小于非光学区域NA中的每单位面积的触摸传感器金属TSM的面积或尺寸。
参照图7，触摸传感器TS可以设置在第一光学区域OA1中的发光区域EA中，但是可以不设置在第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1中。
接下来，将参照图6和图7来描述第二光学区域OA2的层叠结构。
参照图6和图7，第二光学区域OA2的发光区域EA可以具有与非光学区域NA中的发光区域EA相同的层叠结构。因此，在下面的讨论中，不再重复描述第二光学区域OA2中的发光区域EA，下面将详细描述第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的层叠结构。
阴极CE可以设置在包括在非光学区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中，但是可以不设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以与阴极CE的开口相对应。
此外，包括第一金属层ML1和第二金属层ML2中的至少一个金属层的遮光层LS可以设置在包括在非光学区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中，但是可以不设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。例如，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以与遮光层LS的开口相对应。
当第二光学区域OA2的透射率和第一光学区域OA1的透射率相同时，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的层叠结构可以与第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的层叠结构相同。
当第二光学区域OA2的透射率和第一光学区域OA1的透射率不同时，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的层叠结构可能与第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的层叠结构在至少一部分中不同。
例如，如图6和图7中所示，当第二光学区域OA2的透射率比第一光学区域OA1的透射率小时，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2可以不具有透射率改进结构TIS。结果，第一平坦化层PLN1和钝化层PAS0可以不凹进或凹陷。此外，第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的宽度可以比第一光学区域OA1中的第一透射区域TA1的宽度小。
基板(SUB1、SUB2)和设置在包括在非光学区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中的各种类型的绝缘层(MBUF、ABUF1、ABUF2、GI、ILD1、ILD2、PAS0、PLN(PLN1、PLN2)、BANK、ENCAP(PAS1、PCL、PAS2)、T-BUF、T-ILD、PAC)可以相同地、基本相同地或类似地设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
然而，设置在包括在非光学区域NA和第二光学区域OA2中的发光区域EA中的除了绝缘材料或层之外的具有电特性的一个或更多个材料层(例如，金属材料层、半导体层等)中的全部材料层或者一个或更多个材料层可以不设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
例如，参照图6和图7，与至少一个晶体管相关的金属材料层(ML1、ML2、GATE、GM、TM、SD1、SD2)以及半导体层(ACT)中的全部层或者一个或更多个层可以不设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
此外，参照图6和图7，包括在发光元件ED中的阳极AE和阴极CE可以不设置在第二透射区域TA2中。在一些实施方式中，根据设计要求，发光元件ED的发光层EL可以设置或可以不设置在第二透射区域TA2中。
此外，参照图7，包括在触摸传感器TS中的触摸传感器金属TSM和桥接金属BRG可以不设置在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中。
因此，因为在第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2中没有设置具有电学性质的材料层(例如，金属材料层、半导体层等)，所以可以提供或改进第二光学区域OA2中的第二透射区域TA2的光透射率。因此，第二光学电子装置12可以通过接收透过第二透射区域TA2的光来执行预定功能(例如，对象或人体的接近检测、外部照明检测等)。
图8是根据本公开的实施方式的显示面板110的边缘的截面图。
为了例示的简单起见，图8例示了包括第一基板SUB1和第二基板SUB2的单个基板SUB，并且也以简化的结构示出了位于堤部BANK下方的层或部分。同样地，图8例示了包括第一平坦化层PLN1和第二平坦化层PLN2的单个平坦化层PLN、以及位于平坦化层PLN下方的包括第二层间绝缘层ILD2和第一层间绝缘层ILD1的单个层间绝缘层INS。
参照图8，第一封装层PAS1可以设置在阴极CE上并且设置成最靠近发光元件ED。第二封装层PCL可以具有比第一封装层PAS1小的面积或尺寸。例如，第二封装层PCL可以被设置成暴露第一封装层PAS1的两个端或边缘。
第三封装层PAS2可以设置在上方设置有第二封装层PCL的基板SUB上方，使得第三封装层PAS2覆盖第二封装层PCL和第一封装层PAS1的相应顶表面和侧表面。
第三封装层PAS2可以减少或防止外部湿气或氧气渗透到第一封装层PAS1和第二封装层PCL中。
参照图8，为了防止或至少减少封装层ENCAP塌陷，显示面板110可以在封装层ENCAP的倾斜表面SLP的端部或边缘处或附近包括一个或更多个坝部(DAM1、DAM2)。一个或更多个坝部(DAM1、DAM2)可以存在于显示区域DA与非显示区域NDA之间的边界点处或附近。
一个或更多个坝部(DAM1、DAM2)可以包括与堤部BANK相同的材料DFP。
参照图8，在一个实施方式中，包括有机材料的第二封装层PCL可以仅位于坝部当中最靠近封装层ENCAP的倾斜表面SLP定位的第一坝部DAM1的内侧。例如，第二封装层PCL可以不位于所有的坝部(DAM1、DAM2)上。在另一实施方式中，包括有机材料的第二封装层PCL可以位于第一坝部DAM1和第二坝部DAM2中的至少第一坝部DAM1上。
例如，第二封装层PCL可以仅延伸至第一坝部DAM1的上部部分的全部或至少一部分。在另一实施方式中，第二封装层PCL可以延伸超过第一坝部DAM1的上部部分，并延伸至第二坝部DAM2的上部部分的全部或至少一部分。
参照图8，触摸驱动电路260所电连接到的触摸焊盘TP可以设置在基板SUB的位于一个或更多个坝部(DAM1、DAM2)外部的部分上。
触摸线TL可以将触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG电连接到触摸焊盘TP，触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG被包括在设置在显示区域DA中的触摸电极中，或者用作设置在显示区域DA中的触摸电极。
触摸线TL的一个端或边缘可以电连接到触摸传感器金属TSM或桥接金属BRG，并且触摸线TL的另一端或边缘可以电连接到触摸焊盘TP。
触摸线TL可以沿着封装层ENCAP的倾斜表面SLP向下延伸，沿着坝部DAM1、DAM2的相应上部部分延伸，并且延伸至设置在坝部((DAM1、DAM2)外部的触摸焊盘TP。
参照图8，在一个实施方式中，触摸线TL可以是桥接金属BRG。在另一实施方式中，触摸线TL可以是触摸传感器金属TSM。
图9是表示根据本公开的实施方式的显示面板110中根据一个或更多个子像素的使用的劣化程度的曲线900。这里，一个或更多个子像素的使用可以意味着已经使用一个或更多个子像素的时间或者已经使用一个或更多个子像素的程度。
此外，在本文中，虽然可以在显示面板的显示区域的非光学区域或者一个或更多个光学区域中的每一者中设置多个子像素，但是为了便于描述，有时可能基于单个子像素来描述实施方式或示例。因此，应当注意，虽然基于单个子像素来描述实施方式或示例，但是多个子像素同样适用于这样的实施方式或示例。
布置在显示面板110中的多个子像素SP中的每个子像素中包括的电路元件可能随着时间和使用而经受例如操作变化的劣化，这导致电路元件的独特特征的值变化。
例如，每个子像素SP可以包括发光元件ED和驱动晶体管DRT等作为这种电路元件。例如，电路元件的特征值可以包括发光元件ED的阈值电压、驱动晶体管DRT的阈值电压和迁移率等。
在电路元件的特征值随着多个子像素SP中的每个子像素中包括的电路元件的驱动时间增加而变化的情况下，多个子像素SP中的每个子像素的亮度值L可以变化，并且由此多个子像素SP之间可能出现亮度差。这样的亮度差可能导致显示面板110的亮度不均匀，结果，使图像质量劣化。
子像素SP中包括的电路元件的驱动时间的增加可以意指子像素SP的使用时间量(例如，子像素SP的使用)增加。例如，如果子像素SP的使用增加，则子像素SP的亮度值L可能减小。
随着子像素SP的使用增加，子像素SP中的电路元件的相应劣化水平可能增加。如果子像素SP中的电路元件的劣化水平增加，则子像素SP的亮度值L可能减小。
参照图9，在一些实施方式中，显示装置100可以预先针对多个子像素SP中的每个子像素存储相应的初始亮度值L0，或者预先针对多个子像素SP中的全部或部分子像素存储一个初始亮度值L0。
例如，初始亮度值L0可以在显示装置100上市(roll out)之前生成，并存储在显示装置100的存储器(未示出)中。
在另一示例中，当在显示装置100上市之后初始设置显示装置100时，初始亮度值L0可以由显示装置100生成并存储在显示装置100的存储器(未示出)中。在初始设置中，显示装置100可以使用光学电子装置(11、12)来测量光学区域(OA1、OA2)的亮度值，生成测量的亮度值作为初始亮度值L0并将其存储在存储器中。
随着子像素SP的使用增加，子像素SP中的电路元件的劣化水平可以增加，并且由此子像素SP的亮度值L可能比初始亮度值L0小。因此，通过将子像素SP的亮度值L除以子像素SP的初始亮度值L0而获得的值L/L0可以小于1。
这里，通过将子像素SP的亮度值L除以子像素SP的初始亮度值L0而获得的值L/L0可以是子像素SP的亮度指数。子像素SP的亮度指数L/L0可以表示子像素SP的相对于子像素SP的初始亮度值L0的亮度值L。子像素SP的亮度指数L/L0可以是1或更小的值(有理数)。
子像素SP的亮度指数L/L0可以随着子像素SP的驱动时间增加而降低(减小)。子像素SP的亮度指数L/L0可以随着子像素SP的使用时间量的增加而降低。子像素SP的亮度指数L/L0可以随着子像素SP中的电路元件(例如，发光元件ED、驱动晶体管DRT等)的相应劣化的发展而降低，也就是说，随着相应劣化水平增加而降低。
在下文中，为了便于描述，“子像素SP中的电路元件的劣化”可以被称为“子像素SP的劣化”或简称为“劣化”。
本公开的实施方式提供了一种实时劣化补偿方法和***，用于使用光学电子装置(11、12)来实时执行劣化监测，基于监测的结果来优化劣化建模，并且使用优化的劣化建模来实时补偿劣化。
在下文中，将参照附图详细描述根据本公开的实施方式的实时劣化补偿方法和***。
图10是根据本公开的实施方式的显示装置100的实时劣化补偿***1000的框图。图11是根据本公开的实施方式的显示装置100中的实时劣化补偿***1000中的实时劣化建模电路1030的框图。图12和图13例示了根据本公开的实施方式的使用显示装置100中的一个或更多个光学电子装置(11、12)的劣化监测结构。
参照图10，在一些实施方式中，显示装置100还可以包括实时劣化补偿***1000。
当根据预定条件确定劣化监测是能够使用的或需要劣化监测时，实时劣化补偿***1000可以控制一个或更多个光学电子装置(11、12)执行图像拍摄操作或感测操作，并且基于一个或更多个光学电子装置(11、12)的执行图像拍摄操作或感测操作的结果来测量一个或更多个光学电子装置(11、12)的亮度。这里，测量亮度的处理(亮度测量处理)可以被称为“实时劣化监测”。
劣化监测是能够使用的或需要劣化监测的情况可以包括用户不使用显示装置的情况或检测到来自用户的与屏幕设置相关的输入的情况。
实时劣化补偿***1000可以基于一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的相应亮度的测量结果，至少预测一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的至少一个子像素SP的劣化水平。在本文中，预测子像素SP的劣化水平的处理(劣化预测处理)也可以被称为“劣化建模优化处理”。
实时劣化补偿***1000可以基于预测的至少一个劣化水平来补偿包括在非光学区域NA和一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的每一者中的子像素的相应劣化。
参照图10，在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以包括劣化监测情况确定电路1010、显示控制电路1020、实时劣化建模电路1030、劣化补偿器1040等。
劣化监测情况确定电路1010可以被配置成确定劣化监测是否是能够使用的或是否需要劣化监测。
显示控制电路1020可以被配置成响应于确定劣化监测是能够使用的或需要劣化监测而进行控制使得图像不能显示在显示面板上。
实时劣化建模电路1030可以被配置成响应于确定劣化监测是能够使用的或需要劣化监测而控制一个或更多个光学电子装置(11、12)执行图像拍摄操作或感测操作，并且被配置成基于通过执行图像拍摄操作或感测操作的结果而测量的一个或更多个光学电子装置(11、12)的亮度来预测一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素的劣化水平。
劣化补偿器1040可以被配置成基于预测的劣化水平来补偿包括在非光学区域NA和一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的每一者中的子像素的劣化。
参照图10，在一个实施方式中，包括在实时劣化补偿***1000中的劣化监测情况确定电路1010、显示控制电路1020、实时劣化建模电路1030和劣化补偿器1040中的每一者可以被包括在显示控制器240中或与显示控制器240集成。
在另一实施方式中，劣化监测情况确定电路1010、显示控制电路1020、实时劣化建模电路1030和劣化补偿器1040中的至少一者可以被包括在与显示控制器240互连的主机***250中或与该主机***集成。
参照图11，包括在实时劣化补偿***1000中的实时劣化建模电路1030可以包括子像素使用计算器1110、亮度测量装置1120、子像素劣化预测器1130和劣化建模查找表管理器1140。例如，子像素使用计算器1110、亮度测量装置1120、子像素劣化预测器1130和劣化建模查找表管理器1140可以是由诸如计算机处理器之类的硬件执行的软件模块。
子像素使用计算器1110可以被配置成计算一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中子像素的使用。
亮度测量装置1120可以被配置成使用一个或更多个光学电子装置(11、12)的执行图像拍摄操作或感测操作的结果来测量一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的相应亮度。
子像素劣化预测器1130可以被配置成基于所计算的使用和所测量的亮度来预测一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素的劣化水平。
劣化建模查找表管理器1140可以被配置成基于预测的劣化水平来管理或更新劣化建模查找表。
在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以基于使用位于显示面板110下方或下部部分处的一个或更多个光学电子装置(11、12)通过与一个或更多个光学电子装置(11、12)至少部分地交叠的一个或更多个光学区域(OA1、OA2)而测量的亮度来执行劣化补偿。
更具体地，在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以基于使用一个或更多个光学电子装置(11、12)通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)而测量的亮度来监测关于设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素的相应劣化的信息。
在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以基于通过监测设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素而获得的劣化信息来预测关于设置在显示面板110上的多个子像素SP的相应劣化的信息，基于该信息生成实时劣化建模查找表，并且基于生成的劣化建模查找表来执行劣化补偿。
在典型的劣化补偿方法当中，已经引入了使用摄像头等的光学补偿方法，但是这种光学补偿方法是在显示装置的制造工艺中使用的。在这种典型的光学补偿方法中，由于在对应的显示装置被制造并上市之后无法应用光学补偿方法，因此，不能提供在显示装置被上市之后对产生的劣化的准确补偿。
与此相比，根据本公开的实施方式的显示装置100可以通过使用与显示区域DA中的一个或更多个光学区域(OA1、OA2)至少部分地交叠的一个或更多个光学电子装置(11、12)来监测设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP的劣化水平，以即使在显示装置100已经上市之后被使用的情况下，也实时地执行劣化补偿。
参照图12，在一些实施方式中，为了实时补偿劣化，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以使用与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11来监测与第一光学电子装置11至少部分地交叠的第一光学区域OA1中的子像素SP的劣化水平。
第一光学电子装置11例如可以是用于通过第一光学区域OA1来拍摄在显示面板110的前面方向上的对象或图像的摄像头。
参照图13，在一些实施方式中，为了实时补偿劣化，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以使用与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12来监测与第二光学电子装置12至少部分地交叠的第二光学区域OA2中的子像素SP的劣化水平。
第二光学电子装置12例如可以是诸如接近传感器、照度传感器等的传感器。例如，亮度传感器可以是用于检测透过第二光学区域OA2的外部光的亮度的照度传感器。
参照图12和图13，在一些实施方式中，为了实时补偿劣化，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以使用与第一光学区域OA1交叠的第一光学电子装置11来监测与第一光学电子装置11至少部分地交叠的第一光学区域OA1中的子像素SP的劣化水平，并且与此一起，使用与第二光学区域OA2交叠的第二光学电子装置12来监测与第二光学区域OA2至少部分地交叠的第二光学区域OA2中的子像素SP的劣化水平。
在下文中，将更详细地描述由如上简述的显示装置100的实时劣化补偿***1000执行的实时劣化补偿方法。
图14例示了根据本公开的实施方式的应用于显示装置100的实时劣化补偿处理。
根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括用于显示图像的显示面板110、一个或更多个光学电子装置(11、12)、数据驱动电路220等。
显示面板110可以包括显示图像的显示区域DA和位于显示区域DA外部的非显示区域NDA。
显示区域DA可以包括多个子像素SP和与多个子像素SP相对应的多个发光区域EP。
例如，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以位于显示面板110的下方或下部部分处。
数据驱动电路220可以将与从显示控制器240输入的图像数据Data相对应的数据电压Vdata输出到设置在显示面板110中的多条数据线DL。
显示区域DA可以包括与一个或更多个光学电子装置(11、12)至少部分地交叠的一个或更多个光学区域(OA1、OA2)，以及位于一个或更多个光学区域(OA1、OA2)外部的非光学区域NA。
一个或更多个光学区域(OA1、OA2)可以包括在整个显示区域DA中包括的多个发光区域EP中的多个第一发光区域EA，并且还可以包括多个透射区域(TA1、TA2)。
非光学区域NA可以包括在整个显示区域DA中包括的多个发光区域EP中的多个第二发光区域EA。
一个或更多个光学电子装置(11、12)可以位于显示面板110的下方或下部部分处，并且可以与一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的多个第一发光区域EA中的全部、一个或更多个交叠。
在一些实施方式中，当用户不使用显示装置100时，或者当检测到来自用户的诸如图像质量设置之类的与屏幕设置相关的输入时，实时劣化补偿***1000可以执行实时劣化补偿操作。
例如，在用户不使用显示装置的第一时段和通过来自用户的与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段中的一个时段期间，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以被配置成通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)执行图像拍摄操作或感测操作。
例如，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以包括诸如摄像头(图像传感器)等的图像拍摄装置和诸如接近传感器、照度传感器等的传感器中的一个或更多个。例如，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以包括第一光学电子装置和第二光学电子装置(11、12)中的一个或更多个。
在一个实施方式中，第一光学电子装置11可以是摄像头，并且第二光学电子装置12可以是诸如接近传感器、照度传感器等的传感器。摄像头可以通过使用透过第一光学区域OA1的外部光执行图像拍摄操作来拍摄第一光学区域OA1的前表面上的对象或图像。亮度传感器可以使用透过第二光学区域OA2的外部光来执行感测操作。例如，亮度传感器可以是用于检测透过第二光学区域OA2的外部光的亮度的照度传感器。
例如，可以执行实时劣化补偿操作的第一时段和第二时段中的第一时段可以是显示装置100的电源被关断的时段、显示装置100被接通的时段、显示装置100处于锁定屏幕状态的时段、以及显示装置100处于待机模式状态的时段中的任一时段。
例如，可以执行实时劣化补偿操作的第一时段和第二时段中的第二时段可以是通过来自用户的用于劣化补偿的与屏幕设置相关的输入而进行的时段。
在一些实施方式中，为了实时补偿劣化，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以预先存储包括关于初始亮度值L0的信息的劣化建模查找表LUT。
在一些实施方式中，为了实时补偿劣化，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以通过监测(感测)当前情况下的劣化水平来执行实时劣化建模(S1410)。
在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以使用一个或更多个光学电子装置(11、12)来测量一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的相应亮度，并且基于通过测量获得的亮度数据来执行实时劣化建模(S1410)。
在一些实施方式中，为了提高实时劣化建模的准确度，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以通过累积子像素的使用并且将所累积的子像素的使用与通过测量获得的亮度数据一起使用来执行实时劣化建模(S1410)。
在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以通过执行实时劣化建模来评估设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP的劣化水平(劣化程度)，并且基于所评估的劣化水平来更新先前已经进行更新或者初始设置的存储的当前劣化建模查找表(S1420)。劣化建模查找表可以包括例如关于一个或更多个子像素SP的劣化水平的信息。
在一些实施方式中，显示装置100可以包括在执行一个或更多个光学电子装置(11、12)的通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的图像拍摄操作或感测操作之后被改变的更新的劣化建模查找表LUT。
在一些实施方式中，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以使用更新的劣化建模查找表LUT来执行劣化补偿(S1430)。
可以通过改变用于图像显示的图像数据Data或数据电压Vdata来执行劣化补偿。
因此，在根据本公开的实施方式的显示装置100中，可以在执行一个或更多个光学电子装置(11、12)的通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的图像拍摄操作或感测操作之后改变用于图像显示的图像数据Data或数据电压Vdata。
在一些实施方式中，使用根据通过监测设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP的劣化水平(劣化程度)而获得的信息来更新的劣化建模查找表，显示装置100的实时劣化补偿***1000可以补偿设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP的相应劣化，和/或补偿设置在非光学区域NA中的子像素的相应劣化。例如，设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP的劣化水平(劣化程度)的监测结果可以表示设置在非光学区域NA中的子像素的劣化水平。
为了执行劣化补偿，可以将改变的图像数据Data或改变的数据电压Vdata提供给设置在非光学区域NA中的子像素SP。
在另一示例中，为了执行劣化补偿，可以将改变的图像数据Data或改变的数据电压Vdata提供给设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的子像素SP。
在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以在显示特定图像的情况下使用一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来执行劣化监测操作(劣化感测操作)。
例如，在实时劣化补偿***1000中，当一个或更多个光学电子装置(11、12)通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来执行图像拍摄操作或感测操作时，特定图像(例如，预定图像)可以显示在整个显示区域DA中或者一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中。
特定图像可以是在获得初始亮度值L0时表示的图像。例如，特定图像可以是特定颜色的单色图像。
例如，在第一时间(第一劣化监测时间)，显示在整个显示区域DA中或者一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的特定图像可以具有第一亮度。例如，在第一时间(第一劣化监测时间)之后的第二时间(第二劣化监测时间)，显示在整个显示区域DA或者一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的特定图像可以具有第二亮度。由于劣化，第二亮度可能比第一亮度低。
在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以在黑暗环境中使用一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来执行劣化监测操作(劣化感测操作)。
因此，当一个或更多个光学电子装置(11、12)通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来执行图像拍摄操作或感测操作时，显示装置100的环境的亮度可以小于阈值亮度。这里，阈值亮度可以是实现准确劣化监测(即，准确亮度测量)的最大亮度值。
在下文中，将参照图15和图16更详细地描述根据上述本公开的实施方式的实时劣化补偿方法。
图15是根据本公开的实施方式的应用于显示装置100的实时劣化监测方法的流程图。图16是根据本公开的实施方式的应用于显示装置100的实时劣化补偿方法的流程图。图17是表示根据本公开的实施方式的显示装置100中的通过基于实时劣化监测的劣化监测优化而改变的劣化程度的曲线。
根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括：显示面板110，显示面板110包括显示区域DA和非显示区域NDA，显示区域DA包括与多个子像素SP相对应的多个发光区域EP，非显示区域NDA位于显示区域DA的外部；一个或更多个光学电子装置(11、12)；以及数据驱动电路，数据驱动电路被配置成向显示面板提供与输入图像数据相对应的数据电压。
显示区域DA可以包括与一个或更多个光学电子装置(11、12)至少部分地交叠的一个或更多个光学区域(OA1、OA2)，以及位于一个或更多个光学区域(OA1、OA2)外部的非光学区域NA。
一个或更多个光学区域(OA1、OA2)可以包括多个发光区域EP中的多个第一发光区域EA以及多个透射区域。非光学区域NA可以包括多个发光区域EP中的多个第二发光区域EA。
一个或更多个光学电子装置(11、12)可以与一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的多个第一发光区域EA中的全部、一个或更多个交叠。
参照图15，在一些实施方式中，操作显示装置100的方法可以包括：通过实时劣化补偿***1000来确定当前情况根据预定条件是否被确定为劣化监测是能够使用的或需要劣化监测的情况的步骤S1510；以及在当前情况被确定为劣化监测是能够使用的或需要劣化监测的情况时，在劣化监测能够使用的时段期间，通过实时劣化补偿***1000使用一个或更多个光学电子装置(11、12)通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来测量亮度的步骤S1560。
例如，在步骤S1510中，为了确定当前情况是否是劣化监测是能够使用的或需要劣化监测的情况，实时劣化补偿***1000可以确定显示装置100是否处于用户不使用显示装置100的第一时段或通过来自用户的与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段。
例如，在步骤S1560中，为了使实时劣化补偿***1000使用一个或更多个光学电子装置(11、12)通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)来测量亮度，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以在第一时段或第二时段期间通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)执行图像拍摄操作或感测操作，该第一时段或第二时段是劣化监测能够使用的时段。
例如，劣化监测能够使用的第一时段和第二时段中的第一时段可以是显示装置100的电源被关断的时段、显示装置100被接通的时段、显示装置100处于锁定屏幕状态的时段、以及显示装置100处于待机模式状态的时段中的任一时段。作为劣化监测能够使用的时段的第二时段可以是通过来自用户的用于劣化补偿的与屏幕设置相关的输入而进行的时段。
参照图15，在一些实施方式中，操作显示装置100的方法还可以包括在步骤S1560之前，在整个显示区域DA上或者在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)上显示特定图像的步骤S1550。
在步骤S1560中，为了在整个显示区域DA上或者在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)上显示特定图像的同时测量亮度，一个或更多个光学电子装置(11、12)可以通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)执行图像拍摄操作或感测操作。
参照图15，在一些实施方式中，操作显示装置100的方法还可以包括：停止在显示面板110上显示图像的步骤S1520，步骤S1520在确定当前情况是否是劣化监测是能够使用的或需要劣化监测的情况的步骤S1510与显示特定图像的步骤S1550之间执行；通过一个或更多个光学电子装置(11、12)的图像拍摄操作或感测操作来测量显示装置100附近的亮度的步骤S1530；以及确定附近亮度是否小于(或大于)或等于阈值亮度的步骤S1540。
参照图15，在步骤S1540中，当确定附近亮度小于或等于阈值亮度时，可以进行显示特定图像的步骤S1550。
参照图15，在步骤S1540中，当确定附近亮度大于阈值亮度时，显示装置100实际上可以不执行劣化监测操作。
参照图15，在一些实施方式中，在步骤S1560之后，操作显示装置100的方法还可以包括使用附近亮度的测量结果来发起劣化建模优化处理的步骤S1570。
在下文中，将参照图16更详细地描述根据本公开的实施方式的实时劣化监测方法、使用实时劣化监测的结果的劣化建模优化处理、以及基于劣化建模优化执行的劣化补偿。
在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以通过一起使用一个或更多个子像素的使用和亮度的测量结果来执行实时劣化监测。
参照图16，在一些实施方式中，当执行用于显示图像的显示驱动(步骤S1610)时，实时劣化补偿***1000可以通过基于提供给一个或更多个子像素SP的图像数据或帧数据执行数据累积处理来计算一个或更多个子像素的相应使用(SP使用)(步骤S1620)。
参照图16，在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000的一个或更多个光学电子装置(11、12)可以执行图像拍摄操作或感测操作(步骤S1630)。
参照图16，在一些实施方式中，当特定图像由设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的一个或更多个子像素SP显示时，实时劣化补偿***1000可以通过与一个或更多个光学区域(OA1、OA2)交叠的一个或更多个光学电子装置(11、12)的图像拍摄操作或感测操作(步骤S1630)来测量设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的一个或更多个子像素SP的相应亮度(步骤S1640)。
参照图16，在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以通过使用经由子像素使用(该子像素使用是通过数据累积处理来计算的)而获得的亮度测量数据以及亮度测量结果来评估设置在一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的一个或更多个子像素SP的劣化水平，并且基于所评估的劣化水平来预测包括在显示面板110中的子像素SP的劣化水平(步骤S1650)。
参照图16，在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以基于包括在显示面板110中的子像素SP的预测劣化水平来执行实时劣化建模(步骤S1650)。
实时劣化建模的执行可以意味着获得关于显示面板110的子像素SP的预测劣化水平的信息。
参照图16，在一些实施方式中，实时劣化补偿***1000可以在执行实时劣化建模(步骤S1650)之后更新到现在为止已经管理的当前劣化建模查找表LUT(步骤S1660)。
参照图17，在更新劣化建模查找表的步骤S1660中，可以将能够根据当前劣化建模查找表表达的劣化曲线900修改为能够根据更新的劣化建模查找表表达的曲线1700。
当前劣化曲线900或经修改的劣化曲线1700可以是表示根据一个或更多个子像素SP的使用的一个或更多个子像素SP的亮度指数的曲线。这里，子像素SP的亮度指数可以是通过将子像素SP的测量亮度值L除以子像素SP的初始亮度值L0而获得的值L/L0。子像素SP的亮度指数L/L0可以是1或更小的值(有理数)。
参照图15和图16，步骤S1650和步骤S1660可以被包括在图15中的亮度测量步骤S1560之后进行的执行劣化建模优化处理的步骤S1570中。
据此，更新当前劣化建模查找表的步骤S1660可以在图15中的亮度测量步骤S1560中执行一个或更多个光学电子装置(11、12)的通过一个或更多个光学区域(OA1、OA2)的图像拍摄操作或感测操作之后进行。
参照图16，在更新劣化建模查找表的步骤S1660之后，改变图像数据或数据电压的步骤S1670可以进行以基于更新的劣化建模查找表来执行劣化补偿。这里，可以向非光学区域NA中的一个或更多个子像素SP或者一个或更多个光学区域(OA1、OA2)中的一个或更多个子像素SP提供一个或更多个改变的数据电压。
根据本文描述的实施方式的显示装置100可以通过使用第一光学电子装置11和第二光学电子装置12中的一个或更多个来执行实时劣化监测和劣化补偿。
根据本文描述的实施方式的显示装置100的实时劣化监测和劣化补偿方法可以使用多个光学电子装置。因此，显示装置100可以在显示面板110的显示区域DA中包括与多个光学电子装置交叠的多个光学区域。下面将参照图18简要描述这一点。
图18例示了根据本公开的实施方式的使用包括在显示装置100中的多个光学电子装置1800的劣化监测结构。
参照图18，显示面板110的显示区域DA可以包括三个或更多个光学区域OA。三个或更多个光学区域OA中的每个光学区域可以包括发光区域和透射区域。三个光学区域OA中的每个光学区域可以具有与上述实施方式中描述的第一光学区域OA1和第二光学区域OA2中的一个光学区域相同的结构。
参照图18，根据本公开的实施方式的显示装置100可以包括分别与显示区域DA的三个或更多个光学区域OA交叠的三个或更多个光学电子装置1800。
参照图18，显示区域DA的三个或更多个光学区域OA可以存在于显示区域DA中的几个位置处。
如上所述，当三个或更多个光学电子装置1800存在于显示面板110下方或下部部分处的几个位置中时，实时劣化补偿***1000可以通过使用三个或更多个光学电子装置1800执行劣化监测来更准确地评估显示面板110中的劣化水平。因此，能够进一步提高对应的劣化补偿的性能。
根据本文描述的实施方式，可以提供显示装置100和操作显示装置100的方法，该显示装置100即使在显示装置由用户使用的情况下，也能够使用一个或更多个光学元件或装置(11、12、1800)来实时监测子像素的劣化，并且能够根据监测的结果来实时补偿劣化。
根据本文描述的实施方式，可以提供显示装置100和操作显示装置100的方法，该显示装置100能够通过使用位于显示面板110的下方或下部部分处并且与包括在显示面板110的显示区域中的一个或更多个光学区域(OA1、OA2、OA)部分地交叠的一个或更多个光学电子装置(11、12、1800)实时地执行劣化监测，来实时地准确补偿子像素的劣化。
以上描述是为了使本领域的技术人员能够实现和使用本公开的技术思想而给出的，并且是在具体应用及其要求的上下文中提供的。对所描述的实施方式的各种修改、添加和替换对于本领域技术人员将是显而易见的，并且在不脱离本公开的精神和范围的情况下，本文所定义的一般原理可以应用于其它实施方式和应用。以上描述和附图仅出于例示性目的提供了本公开的技术思想的示例。也就是说，所公开的实施方式旨在例示本公开的技术思想的范围。因此，本公开的范围不限于所示的实施方式，而是符合与权利要求一致的最宽范围。本公开的保护范围应当基于所附权利要求来解释，并且其等同物范围内的所有技术思想应当被解释为包括在本公开的范围内。
相关申请的交叉引用
本专利申请要求于2021年9月7日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2021-0119392的优先权权益，通过引用将该韩国专利申请整体并入本文。

Claims (20)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，所述显示面板包括显示区域和位于所述显示区域外部的非显示区域，所述显示区域包括与多个子像素相对应的多个发光区域；
一个或更多个光学电子装置，所述一个或更多个光学电子装置位于所述显示面板下方或下部部分处；以及
数据驱动电路，所述数据驱动电路被配置成向所述显示面板提供与输入图像数据相对应的数据电压，
其中，所述显示区域包括与所述一个或更多个光学电子装置部分地交叠的一个或更多个光学区域，以及位于所述一个或更多个光学区域外部的非光学区域，
其中，所述一个或更多个光学区域包括所述多个发光区域中的多个第一发光区域以及多个光透射区域，并且所述非光学区域包括所述多个发光区域中的多个第二发光区域，并且
其中，所述一个或更多个光学电子装置与所述一个或更多个光学区域中的所述多个第一发光区域的至少一部分交叠，并且在不使用所述显示装置的第一时段和通过与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段中的一个时段期间，通过所述一个或更多个光学区域来执行图像拍摄操作或感测操作。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述一个或更多个光学电子装置包括摄像头或亮度传感器中的一者或更多者。
3.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一时段是所述显示装置的电源被关断的时段、所述显示装置的电源被接通的时段、所述显示装置处于锁定屏幕状态的时段和所述显示装置处于待机模式状态的时段中的一个时段，并且所述第二时段是通过用于劣化补偿的与屏幕设置相关的输入而进行的时段。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，当所述一个或更多个光学电子装置通过所述一个或更多个光学区域执行所述图像拍摄操作或所述感测操作时，预定图像被显示在整个所述显示区域上或者所述一个或更多个光学区域上，
其中，所述预定图像在第一时间具有第一亮度，并且在所述第一时间之后的第二时间具有第二亮度，并且
其中，所述第二亮度比所述第一亮度小。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，当所述一个或更多个光学电子装置通过所述一个或更多个光学区域执行所述图像拍摄操作或所述感测操作时，所述显示装置的环境的亮度比阈值亮度小。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，在执行所述一个或更多个光学电子装置的通过所述一个或更多个光学区域的所述图像拍摄操作或所述感测操作之后，所述输入图像数据或所述数据电压被改变。
7.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述数据电压被提供给所述非光学区域中的子像素。
8.根据权利要求6所述的显示装置，其中，所述数据电压被提供给所述一个或更多个光学区域中的子像素。
9.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括劣化建模查找表，所述劣化建模查找表在执行所述一个或更多个光学电子装置的通过所述一个或更多个光学区域的所述图像拍摄操作或所述感测操作之后进行更新。
10.根据权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括实时劣化补偿***，所述实时劣化补偿***包括：
劣化监测情况确定电路，所述劣化监测情况确定电路被配置成确定劣化监测是否是能够使用的或是否需要劣化监测；
显示控制电路，所述显示控制电路被配置成响应于确定劣化监测是能够使用的或需要劣化监测而进行控制使得图像不被显示在所述显示面板上；
实时劣化建模电路，所述实时劣化建模电路被配置成控制所述一个或更多个光学电子装置执行所述图像拍摄操作或所述感测操作，并通过执行所述图像拍摄操作或所述感测操作的结果基于所述一个或更多个光学区域的测量的亮度来预测所述一个或更多个光学区域中的至少一个子像素的至少一个劣化水平；以及
劣化补偿器，所述劣化补偿器被配置成基于所预测的至少一个劣化水平来执行对包括在所述一个或更多个光学区域和所述非光学区域中的每一者中的子像素的劣化的补偿。
11.根据权利要求10所述的显示装置，其中，所述实时劣化建模电路包括：
子像素使用计算器，所述子像素使用计算器被配置成计算所述一个或更多个光学区域中的子像素的使用；
亮度测量装置，所述亮度测量装置被配置成基于所述一个或更多个光学电子装置的执行所述图像拍摄操作或所述感测操作的所述结果来测量所述一个或更多个光学区域的亮度；
子像素劣化预测器，所述子像素劣化预测器被配置成基于所计算的使用和所测量的亮度来预测所述一个或更多个光学区域中的子像素的劣化水平；以及
劣化建模查找表管理器，所述劣化建模查找表管理器被配置成基于所预测的劣化水平来管理劣化建模查找表。
12.一种操作显示装置的方法，所述显示装置包括：显示面板，所述显示面板包括显示区域和位于所述显示区域外部的非显示区域，所述显示区域包括与多个子像素相对应的多个发光区域；数据驱动电路，所述数据驱动电路被配置成向所述显示面板提供与输入图像数据相对应的数据电压；以及一个或更多个光学电子装置，所述方法包括以下步骤：
确定所述显示装置是否在不使用所述显示装置的第一时段中或在通过与屏幕设置相关的输入而进行的第二时段中操作；以及
在所述第一时段或所述第二时段期间，由所述一个或更多个光学电子装置通过一个或更多个光学区域执行图像拍摄操作或感测操作，
其中，所述显示区域包括与所述一个或更多个光学电子装置部分地交叠的一个或更多个光学区域，以及位于所述一个或更多个光学区域外部的非光学区域，
其中，所述一个或更多个光学区域包括所述多个发光区域中的多个第一发光区域以及多个光透射区域，并且所述非光学区域包括所述多个发光区域中的多个第二发光区域，并且
其中，所述一个或更多个光学电子装置与所述一个或更多个光学区域中的所述多个第一发光区域的至少一部分交叠。
13.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第一时段是所述显示装置的电源被关断的时段、所述显示装置的电源被接通的时段、所述显示装置处于锁定屏幕状态的时段和所述显示装置处于待机模式状态的时段中的一个时段，并且所述第二时段是通过用于劣化补偿的与屏幕设置相关的输入而进行的时段。
14.根据权利要求12所述的方法，所述方法还包括在执行所述图像拍摄操作或所述感测操作之前在整个所述显示区域上或者在所述一个或更多个光学区域上显示预定图像，
其中，所述图像拍摄操作或所述感测操作在整个所述显示区域上或在所述一个或更多个光学区域上显示所述预定图像的同时由所述一个或更多个光学电子装置通过所述一个或更多个光学区域来执行。
15.根据权利要求14所述的方法，所述方法还包括以下步骤：
停止在所述显示面板上显示图像，该停止在所述显示面板上显示图像的步骤是在确定所述显示装置是否在所述第一时段或所述第二时段中操作的步骤与显示所述预定图像的步骤之间执行的；
通过所述一个或更多个光学电子装置的所述图像拍摄操作或所述感测操作来测量所述显示装置的环境的亮度；以及
确定所述亮度是否小于或等于阈值亮度，
其中，当所述亮度小于或等于所述阈值亮度时，显示所述预定图像。
16.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，所述显示面板包括被配置成显示图像的第一光学区域和非光学区域，所述第一光学区域包括多个第一发光区域和多个第一光透射区域，并且所述非光学区域包括多个第二发光区域；以及
第一电子装置，所述第一电子装置被配置成感测穿过所述多个第一光透射区域的光，所述第一电子装置在所述显示面板下方或位于所述显示面板的下部部分处并且与所述第一光学区域交叠但不与所述非光学区域交叠。
17.根据权利要求16所述的显示装置，其中，感测到的光与显示在所述显示面板上的预定图像相对应，并且用于显示在所述显示面板上的后续图像基于所述感测到的光来调整。
18.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述第一光学区域比所述非光学区域小。
19.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述第一光学区域的所述多个第一光透射区域中的至少一个第一光透射区域包括：
多个绝缘层；
第一凹陷，所述第一凹陷穿过所述多个绝缘层；
平坦化层，所述平坦化层位于所述多个绝缘层上；以及
第二凹陷，所述第二凹陷穿过所述平坦化层的一部分，
其中，所述第一凹陷与所述第二凹陷交叠。
20.根据权利要求16所述的显示装置，其中，所述显示面板还包括第二光学区域，所述第二光学区域包括多个第三发光区域和多个第二光透射区域。
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