CN115449756A - 蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

一种蒸镀装置，包括：壳体，壳体包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，以及相对设置的第三侧壁和第四侧壁，第一侧壁、第二侧壁、第三侧壁和第四侧壁围成蒸镀腔；喷嘴，位于蒸镀腔底部；第一护窗，设置在第一侧壁；第二护窗，设置在第二侧壁；第一护窗和第二护窗具有打开状态和关闭状态，在关闭状态下，第一护窗和第二护窗位于靠近喷嘴的一侧，蒸镀腔被封闭；在打开状态下，第一护窗和第二护窗位于远离喷嘴的一侧，蒸镀腔被打开。

Description

蒸镀装置

技术领域

本公开实施例涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置。

背景技术

在有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)的蒸镀制程中，为了对蒸镀时间进行精确的的控制，会在蒸镀路径上设置护窗，通过控制护窗在打开状态和关闭状态之间切换控制蒸镀路径的通断，从而对蒸镀的起止时间进行精确控制。

经本申请发明人研究发现，现有的蒸镀工艺中，在蒸镀时间较长或蒸镀率较大时，护窗存在不能完全打开的问题，会影响蒸镀的稳定性。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供一种蒸镀装置，以解决在蒸镀时间较长或蒸镀量较大时，护窗不能完全打开的问题。

本公开实施例提供一种蒸镀装置，包括：壳体，所述壳体包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，以及相对设置的第三侧壁和第四侧壁，所述第一侧壁、所述第二侧壁、所述第三侧壁和所述第四侧壁围成蒸镀腔；喷嘴，位于所述蒸镀腔底部；第一护窗，设置在第一侧壁；第二护窗，设置在第二侧壁；所述第一护窗和所述第二护窗具有打开状态和关闭状态，在所述关闭状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于靠近所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被封闭；在所述打开状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于远离所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被打开。

一示例性实施例中，所述第一侧壁上设置有第一转轴，所述第一护窗设置在所述第一转轴上，所述第一护窗在所述第一转轴的带动下运动；所述第二侧壁上设置有第二转轴，所述第二护窗设置在所述第二转轴上，所述第二护窗在所述第二转轴的带动下运动。

一示例性实施例中，所述第一护窗和所述第二护窗的闭合位置在所述蒸镀腔底部的正投影与所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影不存在交叠。

一示例性实施例中，所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一护窗在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

一示例性实施例中，所述喷嘴位于所述蒸镀腔底部的几何中心，所述第一护窗和所述第二护窗为尺寸不同的矩形。

一示例性实施例中，所述第一护窗设置有第一搭接部，所述第二护窗设置有第二搭接部；在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相互配合，实现所述闭合位置处的密闭。

一示例性实施例中，所述第一搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影与所述第二搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影存在交叠。

一示例性实施例中，在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相对的表面上设置有密封条或者磁吸部件。

一示例性实施例中，在所述第一转轴靠近所述喷嘴方向的第一侧壁上设置有第一挡板，所述第一挡板靠近所述第一转轴设置，所述第一转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内；在所述第二转轴靠近所述喷嘴方向的第二侧壁上设置有第二挡板，所述第二挡板靠近所述第二转轴设置，所述第二转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第二挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

一示例性实施例中，所述第一挡板包括第一连接部和第一延伸部，第一连接部的一端与所述第一侧壁连接，第一连接部的另一端与所述第一延伸部连接，所述第一延伸部自所述第一连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸；所述第二挡板包括第二连接部和第二延伸部，第二连接部的一端与所述第二侧壁连接，第二连接部的另一端与所述第二延伸部连接，所述第二延伸部自所述第二连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸。

本公开实施例提出的蒸镀装置，通过设置第一护窗和第二护窗向上打开，有助于减少蒸镀材料在第一护窗和第二护窗的积累量，即便在蒸镀时间较长或蒸镀量较大时，也可以保证护窗能够正常开关，使整个蒸镀过程更加稳定，有助于提升产品良率。解决了在蒸镀时间较长或蒸镀量较大时，护窗不能完全打开的问题。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本公开的实施例一起用于解释本公开的技术方案，并不构成对本公开技术方案的限制。

图1为本公开示例性实施例的蒸镀装置在护窗关闭状态下的结构示意图；

图2为本公开示例性实施例的蒸镀装置在护窗打开状态下的结构示意图；

图3为图1所示状态下蒸镀装置的俯视图；

图4为图2所示状态下蒸镀装置的俯视图；

图5为一种示例性实施例中第一护窗、第二护窗和喷嘴的位置关系示意图；

图6为又一种示例性实施例中第一护窗、第二护窗和喷嘴的位置关系示意图；

图7为又一种示例性实施例中第一护窗、第二护窗和喷嘴的位置关系示意图；

图8为又一种示例性实施例中第一护窗、第二护窗和喷嘴的位置关系示意图；

图9为示例性实施方式中第一挡板的结构示意图；

图10为示例性实施方式中第二挡板的结构示意图；

图11为图1中虚线区域C的放大图。

附图标记说明：

10—喷嘴； 11—第一侧壁； 12—第二侧壁；

13—第三侧壁； 14—第四侧壁； 15—第一护窗；

16—第二护窗； 17—第一转轴； 18—第二转轴；

19—第一挡板； 20—第二挡板； 151—第一搭接部；

161—第二搭接部； 191—第一连接部； 192—第一延伸部；

201—第二连接部； 202—第二延伸部。

具体实施方式

下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。注意，实施方式可以以多个不同形式来实施。所属技术领域的普通技术人员可以很容易地理解一个事实，就是方式和内容可以在不脱离本公开的宗旨及其范围的条件下被变换为各种各样的形式。因此，本公开不应该被解释为仅限定在下面的实施方式所记载的内容中。在不冲突的情况下，本公开中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

本公开包括并设想了与本领域普通技术人员已知的特征和元件的组合。本公开已经公开的实施例、特征和元件也可以与任何常规特征或元件组合，以形成由权利要求限定的独特的发明方案。任何实施例的任何特征或元件也可以与来自其它发明方案的特征或元件组合，以形成另一个由权利要求限定的独特的发明方案。因此，应当理解，在本公开中示出和/或讨论的任何特征可以单独地或以任何适当的组合来实现。因此，除了根据所附权利要求及其等同替换所做的限制以外，实施例不受其它限制。此外，可以在所附权利要求的保护范围内进行各种修改和改变。

此外，在描述具有代表性的实施例时，说明书可能已经将方法和/或过程呈现为特定的步骤序列。然而，在该方法或过程不依赖于本文所述步骤的特定顺序的程度上，该方法或过程不应限于所述的特定顺序的步骤。如本领域普通技术人员将理解的，其它的步骤顺序也是可能的。因此，说明书中阐述的步骤的特定顺序不应被解释为对权利要求的限制。此外，针对该方法和/或过程的权利要求不应限于按照所写顺序执行它们的步骤，本领域技术人员可以容易地理解，这些顺序可以变化，并且仍然保持在本公开实施例的精神和范围内。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了一个或多个构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的一个方式并不一定限定于该尺寸，附图中一个或多个部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的一个方式不局限于附图所示的形状或数值等。

本说明书中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，而不是为了在数量方面上进行限定的。

在本说明书中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在说明书中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本说明书中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本说明书中，“电连接”包括构成要素通过具有某种电作用的元件连接在一起的情况。“具有某种电作用的元件”只要可以进行连接的构成要素间的电信号的传输，就对其没有特别的限制。“具有某种电作用的元件”的例子不仅包括电极和布线，而且还包括晶体管等开关元件、电阻器、电感器、电容器、其它具有各种功能的元件等。

在本说明书中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

本说明书中三角形、矩形、梯形、五边形或六边形等并非严格意义上的，可以是近似三角形、矩形、梯形、五边形或六边形等，可以存在公差导致的一些小变形，可以存在导角、弧边以及变形等。

本公开中的“约”，是指不严格限定界限，允许工艺和测量误差范围内的数值。

一些技术中，蒸镀装置中的蒸发源位于下侧，通过喷嘴(puzzle)向上蒸出要蒸镀的材料，待镀膜部件例如显示基板位于喷嘴的上方，护窗设置在喷嘴和待镀膜部件之间的蒸镀路径上。护窗具有打开状态和关闭状态，在关闭状态下，护窗封闭蒸镀路径，以拦截从喷嘴中喷出的材料，在打开状态下，护窗打开蒸镀路径，可以对显示基板进行蒸镀。本申请发明人经过研究发现，目前的护窗采用的是旋转式护窗(Rotation Shutter)，护窗向下旋转为打开状态，向上旋转至水平为关闭状态，在关闭状态下，护窗靠近喷嘴一侧的表面会积累蒸镀材料，在蒸镀时间较长或蒸镀率较大时，护窗靠近喷嘴一侧的表面积累蒸镀材料的厚度较厚，在向下打开时，积累的蒸镀材料挡在护窗和蒸镀装置的侧壁之间，导致护窗不能完全打开，从而影响蒸镀的稳定性。由于护窗为向下打开，在重力作用下护窗会存在向下运动的趋势，在关闭状态下可能存在封闭不严的问题，这个问题在护窗经过长期的工作后会更加明显。

本公开实施例提供一种蒸镀装置，包括：壳体，所述壳体包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，以及相对设置的第三侧壁和第四侧壁，所述第一侧壁、所述第二侧壁、所述第三侧壁和所述第四侧壁围成蒸镀腔；喷嘴，位于所述蒸镀腔底部；第一护窗，设置在第一侧壁；第二护窗，设置在第二侧壁；所述第一护窗和所述第二护窗具有打开状态和关闭状态，在所述关闭状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于靠近所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被封闭；在所述打开状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于远离所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被打开。

本公开实施例提出的蒸镀装置，在关闭状态下，第一护窗和第二护窗位于靠近喷嘴的一侧，蒸镀腔被封闭，在打开状态下，第一护窗和第二护窗位于远离喷嘴的一侧，蒸镀腔被打开，即第一护窗和第二护窗沿所在侧壁向上运动后切换到打开状态。通过设置第一护窗和第二护窗向上打开，有助于减少蒸镀材料在第一护窗和第二护窗的积累量，即便在蒸镀时间较长或蒸镀量较大时，也可以保证护窗能够正常开关，使整个蒸镀过程更加稳定，有助于提升产品良率。解决了在蒸镀时间较长或蒸镀量较大时，护窗不能完全打开的问题。

一示例性实施例中，所述第一侧壁上设置有第一转轴，所述第一护窗设置在所述第一转轴上，所述第一护窗在所述第一转轴的带动下运动；所述第二侧壁上设置有第二转轴，所述第二护窗设置在所述第二转轴上，所述第二护窗在所述第二转轴的带动下运动。

一示例性实施例中，所述第一护窗和所述第二护窗的闭合位置在所述蒸镀腔底部的正投影与所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影不存在交叠。

一示例性实施例中，所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一护窗在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

一示例性实施例中，所述喷嘴位于所述蒸镀腔底部的几何中心，所述第一护窗和所述第二护窗为尺寸不同的矩形。

一示例性实施例中，所述第一护窗设置有第一搭接部，所述第二护窗设置有第二搭接部；在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相互配合，实现所述闭合位置处的密闭。

一示例性实施例中，所述第一搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影与所述第二搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影存在交叠。

一示例性实施例中，在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相对的表面上设置有密封条或者磁吸部件。

一示例性实施例中，在所述第一转轴靠近所述喷嘴方向的第一侧壁上设置有第一挡板，所述第一挡板靠近所述第一转轴设置，所述第一转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内；在所述第二转轴靠近所述喷嘴方向的第二侧壁上设置有第二挡板，所述第二挡板靠近所述第二转轴设置，所述第二转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第二挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

一示例性实施例中，所述第一挡板包括第一连接部和第一延伸部，第一连接部的一端与所述第一侧壁连接，第一连接部的另一端与所述第一延伸部连接，所述第一延伸部自所述第一连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸；所述第二挡板包括第二连接部和第二延伸部，第二连接部的一端与所述第二侧壁连接，第二连接部的另一端与所述第二延伸部连接，所述第二延伸部自所述第二连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸。

图1为本公开示例性实施例的蒸镀装置在护窗关闭状态下的结构示意图。如图1所示，本公开示例性实施例的蒸镀装置包括壳体，壳体内设置有蒸镀腔，蒸镀腔底部设置有喷嘴10，喷嘴10可以向上喷出蒸镀材料。位于喷嘴10上侧的壳体侧壁上设置有第一护窗15和第二护窗16，第一护窗15和第二护窗16可以相对设置，第一护窗15和第二护窗16具有打开状态和关闭状态，图1中第一护窗15和第二护窗16为关闭状态，虚线区域C为第一护窗15和第二护窗16的闭合位置，在关闭状态下，喷嘴10喷出的蒸镀材料被第一护窗15和第二护窗16遮挡，蒸镀路径被切断，蒸镀腔被封闭，蒸镀过程停止。在关闭状态下，第一护窗15和第二护窗16靠近喷嘴10一侧的表面可以为第一表面，第一护窗15和第二护窗16远离喷嘴10一侧的表面可以为第二表面。

图2为本公开示例性实施例的蒸镀装置在护窗打开状态下的结构示意图。图2中第一护窗15和第二护窗16为打开状态，在打开状态下，蒸镀路径是通畅的，蒸镀腔被打开，喷嘴10喷出的蒸镀材料可以向上到达待镀膜部件(图未示)。如图2所示，第一护窗15和第二护窗16可以沿所在的壳体侧壁向上旋转后，由关闭状态切换到打开状态。在打开状态下，第一护窗15和第二护窗16位于远离喷嘴10的一侧，相比于关闭状态，打开状态下的第一护窗15和第二护窗16的闭合位置更加远离喷嘴10。在示例性实施方式中，在关闭状态下，第一护窗15和第二护窗16与喷嘴10之间可以设置较大的距离，以减少蒸镀材料的积累，然而，可以根据需要设置第一护窗15和第二护窗16与喷嘴10之间的距离，本公开对此不作限制。

在蒸镀过程中，蒸镀材料自喷嘴10向上运动到达待镀膜部件，在重力的影响下，蒸镀气流在蒸镀腔内的分布规律为沿自下而上的方向逐渐稀薄，越靠近蒸镀腔下侧的位置越容易积累蒸镀材料。一些技术中，护窗设置为向下旋转为打开状态，使得在打开状态下，护窗和喷嘴在沿重力方向上的距离更近，在重力影响下，蒸镀材料容易在护窗表面积累。护窗在向下打开后，蒸镀材料积累的位置为护窗在关闭状态下远离喷嘴一侧的表面(即第二表面)，而在关闭状态下，蒸镀材料积累的位置为护窗靠近喷嘴一侧的表面(即第一表面)，这使得护窗两侧的表面均会积累蒸镀材料，护窗在打开和关闭的运动过程中，会有更多蒸镀材料的细小颗粒汇聚在护窗的闭合位置，即在关闭状态下两扇护窗发生接触的位置。并且，在蒸镀时间较长或蒸镀率较大时，护窗的第一表面积累蒸镀材料的厚度较厚，在向下打开时，第一表面积累的蒸镀材料挡在护窗和蒸镀装置壳体的侧壁之间，导致护窗不能完全打开，从而影响蒸镀的稳定性。

相比之下，本公开实施例通过设置第一护窗15和第二护窗16向上打开，在打开状态下，第一护窗15和第二护窗16在沿重力方向上距离喷嘴10的距离更远，在重力影响下，运动到第一护窗15和第二护窗16的蒸镀材料更少，有助于减少蒸镀材料在第一护窗15和第二护窗16的积累量，能够保证第一护窗15和第二护窗16在切换状态时的动作更加顺畅。将第一护窗15和第二护窗16设置为向上打开，使得在打开和关闭状态下，蒸镀材料均积累在第一表面，可以保证面向壳体侧壁的第二表面的清洁，即便在蒸镀材料积累较多的情况下，也不会对第一护窗15和第二护窗16的打开状态带来影响，整个蒸镀过程更加稳定，有助于提升产品良率。并且，将第一护窗15和第二护窗16设置为向上打开，在第一护窗15和第二护窗16的重力作用下，关闭状态更加紧密，可以更好地对喷嘴10喷出的蒸镀材料形成阻挡。

在示例性实施方式中，如图1和图2所示，壳体包括相对设置的第一侧壁11和第二侧壁12，在喷嘴10上侧的第一侧壁11上可以设置有第一转轴17，第一护窗15可以设置在第一转轴17上，第一转轴17旋转能够带动第一护窗15运动；第二侧壁12上可以设置有第二转轴18，第二护窗16可以设置在第二转轴18上，第二转轴18旋转能够带动第二护窗16运动。第一转轴17和第二转轴18可以在各自的电机的带动下旋转，通过第一转轴17和第二转轴18的配合可以实现第一护窗15和第二护窗16在打开状态和关闭状态之间进行切换。

在示例性实施方式中，图1中虚线区域C为第一护窗15和第二护窗16的闭合位置，第一护窗15和第二护窗16的闭合位置在蒸镀腔底部的正投影与喷嘴10在蒸镀腔底部的正投影不存在交叠。例如，蒸镀腔底部可以呈矩形，可以将喷嘴10的位置设置在蒸镀腔底部的几何中心，第一护窗15和第二护窗16可以采用非对称设置，在关闭状态下，闭合位置与第一侧壁11的距离可以大于闭合位置与第二侧壁12的距离，以使闭合位置避开蒸镀腔底部的几何中心。图1中第一护窗15的尺寸可以大于第二护窗16的尺寸，在其它实施方式中，也可以设置第二护窗16的尺寸大于第一护窗15的尺寸，本公开对此不作限制。

图3为图1所示状态下蒸镀装置的俯视图。图3中虚线区域所示为第一护窗15和第二护窗16的闭合位置，结合图1和图3，喷嘴10在蒸镀腔底部的正投影可以位于第一护窗15在蒸镀腔底部的正投影的范围内。在重力方向上，第一护窗15和第二护窗16的闭合位置在蒸镀腔底部的正投影与喷嘴10在蒸镀腔底部的正投影可以不存在交叠。

一些技术中，蒸镀装置的护窗采用对称设计，护窗的闭合位置位于喷嘴的正上方，这使得在关闭状态下，喷嘴喷出的蒸镀材料容易在护窗的闭合位置处积累，当护窗由闭合状态开始向打开状态切换的时刻，护窗由静止状态转变为运动状态，此时积累的蒸镀材料容易发生掉落，掉落的位置正对喷嘴，喷嘴存在堵塞的风险，不利于蒸镀工艺的完成。而当护窗由打开状态切换至闭合状态的时刻，护窗由运动状态转变为静止状态，在护窗的运动过程中，闭合位置处的运动距离最长，积累的运动速度最大，在闭合的时刻所积累的蒸镀材料也最容易发生掉落，存在堵塞喷嘴的风险。在这些技术中，护窗上蒸镀材料积累最多的位置与蒸镀材料最容易掉落的位置相重合，且位于喷嘴的正上方，极大地增加了喷嘴堵塞的风险。在本示例性实施方式中，通过设置第一护窗15和第二护窗16的闭合位置避开喷嘴10所在位置，一方面，可以使第一护窗15和第二护窗16的闭合位置处不容易积累蒸镀材料，在蒸镀材料最容易掉落的位置减少了蒸镀材料的积累量，有助于减少第一护窗15和第二护窗16上蒸镀材料的掉落量。另一方面，喷嘴10在蒸镀腔底部的正投影位于第一护窗15在蒸镀腔底部的正投影的范围内，在重力方向上正对喷嘴10的位置位于第一护窗15的中部，在第一护窗15的运动过程中，该位置的运动速度不大，即便在这个位置上存在积累的蒸镀材料，也不容易掉落。可见，通过设置第一护窗15和第二护窗16的闭合位置避开喷嘴10所在位置，降低了正对喷嘴10位置的蒸镀材料的掉落几率，能够有效避免蒸镀材料掉落，降低了喷嘴堵塞的风险。

图4为图2所示状态下蒸镀装置的俯视图。结合图2和图4，蒸镀装置的壳体包括相对设置的第一侧壁11、第二侧壁12，以及相对设置的第三侧壁13、第四侧壁14，第一侧壁11、第二侧壁12、第三侧壁13和第四侧壁14围成蒸镀腔，蒸镀腔底部设置有喷嘴10。如图2和图4所示，在打开状态下，第一护窗15可以紧贴第一侧壁11，第二护窗16可以紧贴第二侧壁12，最大程度地保证了蒸镀路径的通畅，有助于蒸镀过程的顺利完成。

在图1至图4中，是以第一护窗15和第二护窗16为矩形为例进行的说明，在实际应用中，可以根据需要设置第一护窗15和第二护窗16的形状。例如，第一护窗15和第二护窗16可以设置为三角形，喷嘴10在蒸镀腔底部的正投影可以位于第一护窗15在蒸镀腔底部的正投影的范围内，从而第一护窗15和第二护窗16的闭合位置可以错开喷嘴10所在的位置，如图5所示。或者，第一护窗15和第二护窗16可以设置为梯形，喷嘴10在蒸镀腔底面的正投影可以位于第一护窗15在蒸镀腔底面的正投影的范围内，从而第一护窗15和第二护窗16的闭合位置可以错开喷嘴10所在的位置，如图6所示。或者，第一护窗15可以设置为带有第一缺口的矩形，第二护窗16可以设置为带有第二缺口的矩形，第一缺口和第二缺口互补，喷嘴10在蒸镀腔底面的正投影可以位于第一护窗15在蒸镀腔底面的正投影的范围内，从而第一护窗15和第二护窗16的闭合位置可以错开喷嘴10所在的位置，如图7所示。或者，第一护窗15可以设置为圆形，第二护窗16可以设置为带有圆形缺口的矩形，喷嘴10在蒸镀腔底面的正投影可以位于第一护窗15在蒸镀腔底面的正投影的范围内，从而第一护窗15和第二护窗16的闭合位置可以错开喷嘴10所在的位置，如图8所示。图5至图8中仅对第一护窗15、第二护窗16和喷嘴10的位置作示意，可以根据需要设置第一护窗15和第二护窗16闭合位置处的接触细节，本公开对此不作限制。本公开对第一护窗15和第二护窗16的形状不作限制，只要第一护窗15和第二护窗16在关闭状态下可以阻挡喷嘴10喷出的蒸镀材料向上运动，且闭合位置错开喷嘴10所在的位置即可。

图9为示例性实施方式中第一挡板的结构示意图，图10为示例性实施方式中第二挡板的结构示意图。在示例性实施方式中，结合图1至图4，在第一转轴17和喷嘴10之间的第一侧壁11上可以设置有第一挡板19，第一挡板19可以设置在靠近第一转轴17的位置，第一转轴17在蒸镀腔底部的正投影可以位于第一挡板19在蒸镀腔底部的正投影的范围内。如图9所示，第一挡板19可以包括第一连接部191和第一延伸部192，第一连接部191的一端可以与第一侧壁11连接，第一连接部191的另一端可以与第一延伸部192连接，第一延伸部192可以自第一连接部191的另一端向远离喷嘴10的一侧延伸。在第二转轴18和喷嘴10之间的侧壁上可以设置有第二挡板20，第二挡板20可以设置在靠近第二转轴18的位置，第二转轴18在蒸镀腔底部的正投影可以位于第二挡板20在蒸镀腔底部的正投影的范围内。如图10所示，第二挡板20可以包括第二连接部201和第二延伸部202，第二连接部201的一端可以与第二侧壁12连接，第二连接部201的另一端可以与第二延伸部202连接，第二延伸部202可以自第二连接部201的另一端向远离喷嘴10的一侧延伸。

在蒸镀过程中，蒸镀材料可能会飘散到转轴位置，尤其在护窗关闭状态下，蒸镀材料受到第一护窗15和第二护窗16的阻挡，容易发生横向运动，到达第一转轴17和第二转轴18处，如果在第一转轴17和第二转轴18处积累较多的蒸镀材料，可能会对第一护窗15和第二护窗16的运动带来影响。本示例性实施方式中，通过在喷嘴和转轴之间设置挡板结构，可以有效的阻挡蒸镀材料在转轴处的积累，通过设置挡板的延伸部，可以有效阻挡横向运动的蒸镀材料，避免蒸镀材料在转轴处积累。并且，在打开状态下，护窗上附着的蒸镀材料可能会掉落，由于护窗是向上打开，掉落的蒸镀材料可以被挡板阻拦，不会掉到蒸镀装置的下部，可以进一步避免堵塞喷嘴的风险。

在示例性实施方式中，可以根据需要设置第一挡板19和第二挡板20的形状和尺寸。可以根据需要设置第一挡板19和第一转轴17之间的距离，以及第二挡板20与第二转轴18之间的距离；可以根据需要设置第一延伸部192和第一侧壁11之间的距离，以及第二延伸部202与第二侧壁12之间的距离，本公开对此不作限制。在能够遮挡转轴的基础上，延伸部和侧壁之间的距离可以设置的尽量小，可以避免对蒸镀过程带来影响。

一些技术中，护窗为向下打开，在打开状态下，护窗的闭合位置更靠近喷嘴的中心线，限制了喷嘴的蒸镀材料的喷出，降低了蒸镀角度。本示例性实施例中，将第一护窗和第二护窗设置为向上打开，有利于提高或增大蒸镀角度；并且，只需要在原有蒸镀装置的基础上稍作改动，并适应性调整电机的转动方向及转动时序即可，对现有蒸镀装置的改动较小，易于实现，适合推广。

图11为图1中虚线区域C的放大图。如图11所示，在闭合位置处，第一护窗15上可以设置有第一搭接部151，第二护窗16上可以设置有第二搭接部161，第一搭接部151和第二搭接部161在打开状态比关闭状态更远离喷嘴10，第一搭接部151和第二搭接部161可以相互配合，实现闭合位置处的密闭。例如：第一搭接部151可以小于第一护窗15其他位置的厚度；第二搭接部161可以小于第二护窗16其他位置的厚度。第一搭接部151和第二搭接部161在喷嘴10喷出蒸镀材料的方向上重叠后进行闭合，如此设计能更好的控制蒸镀材料的封闭。

在一些实施例中，结合图1和2，图11所示，第一搭接部151和第二搭接部161在打开状态下，均位于第一转轴17远离喷嘴10一侧；且第二搭接部161在打开状态下，靠近第二侧壁12，第一搭接部151在打开状态下，靠近第一侧壁11；或者第二搭接部161在关闭状态下，远离第二侧壁12，第一搭接部151在关闭状态下，远离第一侧壁11；如此设计，有利于更好的提升或增大蒸镀角度。(例如：如图2所示，蒸镀角度包括第一蒸镀角度a和第二蒸镀角度b，第一蒸镀角度a为喷嘴中心到第一护窗15在打开状态下远离喷嘴中心的一侧的连线方向，与喷嘴的中心线形成的角度；第二蒸镀角度b为喷嘴中心到第二护窗16在打开状态下远离喷嘴中心的一侧的连线方向，与喷嘴的中心线形成的角度)。

在一些示例性的实施方式中，第一蒸镀角度a可以设置为小于第二蒸镀角度b。例如：第二蒸镀角度b可以设置为大于或等于20°且小于或等于45°；第一蒸镀角度a可以小于第二蒸镀角度b，第一蒸镀角度a的大小可以约为大于或等于5°且小于或等于15°，这种设置可以保证待镀膜部件两侧的蒸镀情况不会差异太大。在实际应用中，可以根据需要设置第一蒸镀角度a和第二蒸镀角度b的大小，本公开对此不作限制。

在一些示例性的实施方式中，在第一搭接部151和第二搭接部161相对的表面上可以设置密封条或者磁吸部件，以实现闭合位置处的密闭，本公开对此不作限制。在其它实施方式中，第一护窗15和第二护窗16在闭合位置处可以采用其它的结构设计形式，例如卡接等，本公开对此不作限制。

在一些实施例中，第一搭接部151和第二搭接部161可以为锯齿形，闭合时可以相互咬合，以便相互配合，实现闭合位置处的密闭。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种蒸镀装置，其特征在于，包括：

壳体，所述壳体包括相对设置的第一侧壁和第二侧壁，以及相对设置的第三侧壁和第四侧壁，所述第一侧壁、所述第二侧壁、所述第三侧壁和所述第四侧壁围成蒸镀腔；

喷嘴，位于所述蒸镀腔底部；

第一护窗，设置在第一侧壁；

第二护窗，设置在第二侧壁；

所述第一护窗和所述第二护窗具有打开状态和关闭状态，在所述关闭状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于靠近所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被封闭；在所述打开状态下，所述第一护窗和所述第二护窗位于远离所述喷嘴的一侧，所述蒸镀腔被打开。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一侧壁上设置有第一转轴，所述第一护窗设置在所述第一转轴上，所述第一护窗在所述第一转轴的带动下运动；所述第二侧壁上设置有第二转轴，所述第二护窗设置在所述第二转轴上，所述第二护窗在所述第二转轴的带动下运动。

3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一护窗和所述第二护窗的闭合位置在所述蒸镀腔底部的正投影与所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影不存在交叠。

4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述喷嘴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一护窗在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，所述喷嘴位于所述蒸镀腔底部的几何中心，所述第一护窗和所述第二护窗为尺寸不同的矩形。

6.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一护窗设置有第一搭接部，所述第二护窗设置有第二搭接部；在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相互配合，实现所述闭合位置处的密闭。

7.根据权利要求6所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影与所述第二搭接部在所述蒸镀腔底部的正投影存在交叠。

8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，在所述关闭状态下，所述第一搭接部和所述第二搭接部相对的表面上设置有密封条或者磁吸部件。

9.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，在所述第一转轴靠近所述喷嘴方向的第一侧壁上设置有第一挡板，所述第一挡板靠近所述第一转轴设置，所述第一转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第一挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内；

在所述第二转轴靠近所述喷嘴方向的第二侧壁上设置有第二挡板，所述第二挡板靠近所述第二转轴设置，所述第二转轴在所述蒸镀腔底部的正投影位于所述第二挡板在所述蒸镀腔底部的正投影的范围内。

10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，所述第一挡板包括第一连接部和第一延伸部，第一连接部的一端与所述第一侧壁连接，第一连接部的另一端与所述第一延伸部连接，所述第一延伸部自所述第一连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸；

所述第二挡板包括第二连接部和第二延伸部，第二连接部的一端与所述第二侧壁连接，第二连接部的另一端与所述第二延伸部连接，所述第二延伸部自所述第二连接部的另一端向远离所述喷嘴的一侧延伸。

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