CN115404440A - 掩膜版以及掩膜版的制备方法 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种掩膜版以及掩膜版的制备方法，该掩膜版包括：框架、多个掩膜条和至少一个支撑条；其中，多个掩膜条与框架连接，多个掩膜条沿第一方向并排设置；第一方向与掩膜条的长度方向交叉，且在第一方向上，掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿第一方向延伸的第一延伸部；至少一个支撑条层叠设置于掩膜条一侧，且与框架连接；支撑条在多个掩膜条上的正投影覆盖多个第一延伸部，并与覆盖的多个第一延伸部连接。通过上述方式，本申请能够降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。

Description

掩膜版以及掩膜版的制备方法

技术领域

本申请属于显示技术领域，具体涉及一种掩膜版以及掩膜版的制备方法。

背景技术

OLED(有机发光二极管)显示面板一般会借助掩膜版来蒸镀一些有机膜层。随着显示面板尺寸的增大，对应的掩膜版尺寸也越来越大。

以通用型金属掩膜板(Common Metal Mask，CMM)为例，CMM 一般采用整面蚀刻和张网工艺进行制备，CMM网面厚度一般为100微米～200微米。随着CMM尺寸变大，常规的制备方式弊端就显露出来了，例如，100微米～200微米厚的超大尺寸CMM网面无法利用现有设备被压延出来；超大网面无法利用现有设备被蚀刻以及被张网出来；且超大网面下垂量巨大，不满足蒸镀支撑需求。

发明内容

本申请提供一种掩膜版以及掩膜版的制备方法，以降低大尺寸掩膜版制备过程中的难度。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩膜版，包括：框架；多个掩膜条，与所述框架连接，所述多个掩膜条沿第一方向并排设置；其中，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，且在所述第一方向上，所述掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿所述第一方向延伸的第一延伸部；至少一个支撑条，层叠设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架连接；其中，所述支撑条在所述多个掩膜条上的正投影覆盖多个所述第一延伸部，并与覆盖的多个所述第一延伸部连接。

为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种掩膜版的制备方法，包括：将支撑条与框架连接；将连接有辅助件的掩膜条层叠设置于所述支撑条一侧；其中，所述掩膜条设置有至少一个沿第一方向延伸的第一延伸部，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，至少部分所述第一延伸部背离所述支撑条一侧连接有所述辅助件，且所述辅助件沿所述第一方向延伸至所述框架外侧；利用张网机夹持所述辅助件位于所述框架外侧的端部以及所述掩膜条长度方向上的两端，以使得所述掩膜条张紧；使所述掩膜条长度方向上的两端与所述框架连接，所述第一延伸部与所述支撑条连接；将至少部分所述辅助件去除。

区别于现有技术情况，本申请的有益效果是：本申请将现有技术中整面形成的超大网面分割为独立的小网面(即单个掩膜条)，以降低超大尺寸掩膜版制备的工艺难度。另一方面，本申请中独立的小网面(也即单个掩膜条)上设置有多个第一延伸部，该第一延伸部的引入可以使得在张网过程中可以通过辅助件将第一延伸部与张网机连接，以保证张网机能够对独立的小网面进行长度方向和第一方向上的张网拉伸，以保证张网拉伸效果，有利于控制大尺寸掩膜版的稳定性和下垂量，保证后续蒸镀效果。再一方面，上述第一延伸部与掩膜版中的支撑条固定连接，以进一步降低大尺寸掩膜版的下垂量，保证后续蒸镀效果。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图，其中：

图1为本申请掩膜版一实施方式的结构示意图；

图2为图1中沿A-A剖线一实施方式的剖面示意图；

图3为图1中沿A-A剖线另一实施方式的剖面示意图；

图4为本申请掩膜版另一实施方式的结构示意图；

图5为图1中部分框架一实施方式的结构示意图；

图6为图1中部分框架一实施方式的俯视示意图；

图7为本申请掩膜版的制备方法一实施方式的流程示意图；

图8为图7中步骤S100对应的一实施方式的结构示意图；

图9为图7中步骤S102对应的一实施方式的结构示意图；

图10为图9中沿B-B剖线一实施方式的剖面示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。

请参阅图1，图1为本申请掩膜版一实施方式的结构示意图，该掩膜版10包括框架100、多个掩膜条102和至少一个支撑条104。

具体地，如图1所示，框架100可以为环形，其中间设置有一个大的镂空区。例如，框架100可以为矩形环等，框架100的形状或尺寸可以根据实际蒸镀需求进行设定，本申请对此不作限定。此外，上述框架 100的材质可以为金属等硬度较高且不易变形的材质。

多个掩膜条102与框架100连接；例如，多个掩膜条102可以与框架100通过焊接等方式固定。多个掩膜条102沿第一方向X并排设置；其中，第一方向X与掩膜条102的长度方向Y交叉，且在第一方向X 上，掩膜条102相对设置的两侧分别设置有至少一个沿第一方向X延伸的第一延伸部1020。可选地，该第一方向X可以与掩膜条102的宽度方向P平行，以使得多个掩膜条102的排布方式较为规整。

至少一个支撑条104层叠设置于掩膜条102一侧，且与框架100连接；例如，支撑条104可以与框架100通过焊接等方式固定；支撑条104 的材质可以为高强度钢等。其中，支撑条104在多个掩膜条102上的正投影覆盖多个第一延伸部1020，并与覆盖的多个第一延伸部1020连接；例如，支撑条104与覆盖的多个第一延伸部1020通过焊接等方式固定。

在上述设计方式中，将现有技术中整面形成的超大网面分割为独立的小网面(即单个掩膜条102)，以降低超大尺寸的掩膜版10制备的工艺难度。另一方面，本申请中独立的小网面(也即单个掩膜条102)上设置有多个第一延伸部1020，该第一延伸部1020的引入可以使得在张网过程中，可以通过辅助件将第一延伸部1020与张网机连接，以保证张网机能够对掩膜条102进行长度方向Y和第一方向X上的张网拉伸，以保证张网拉伸效果，有利于控制大尺寸掩膜版10的稳定性和下垂量，保证后续蒸镀效果。再一方面，上述第一延伸部1020与掩膜版10中的支撑条104固定连接，以进一步降低大尺寸掩膜版的下垂量，保证后续蒸镀效果。

在一个实施方式中，请继续参阅图1，掩膜条102包括主体部1022，在掩膜条102的宽度方向P上，主体部1022包括相对设置的第一侧10220 和第二侧10222，第一侧10220和第二侧10222上分别连接有多个第一延伸部1020。该设计方式可以使得张网过程中掩膜条102在长度方向Y 上各个位置处所受到的第一方向X上的力较为均衡。

可选地，如图1中所示，同一掩膜条102上，位于第一侧10220的多个第一延伸部1020与位于第二侧10222的多个第一延伸部1020在第一方向X上一一对齐设置。较佳地，掩膜条102包含与长度方向Y平行的对称轴，掩膜条102关于该对称轴呈轴对称设置。该设计方式可以进一步提高张网过程中掩膜条102在长度方向Y上各个位置处所受到的第一方向X上的力的均衡性。

另一可选地，如图1中所示，任意相邻两个掩膜条102的结构相同，任意相邻两个掩膜条102的多个第一延伸部1020在第一方向X上一一对齐设置。该设计方式可以使得掩膜版10的结构较为规整。

另一可选地，如图1中所示，在长度方向Y上，主体部1022包括间隔设置的多个掩膜单元10224。可选地，一个掩膜单元10224可以为一个掩膜开口，且该掩膜开口的大小与待蒸镀的显示面板的显示区大小相同，此时该掩膜版10可以称之为CMM掩膜版。当然，在其他实施例中，一个掩膜单元10224中也可设置有多个掩膜开口，此时掩膜版10 可以称之为精细掩膜版FMM。

进一步，位于相邻两个掩膜单元10224之间的主体部1022上设置有第一延伸部1020。该设计方式可以使得在张网过程中，相邻掩膜单元 10224在第一方向X上受到的力较为均衡，以保证张网效果；且一般而言，相邻两个掩膜单元10224之间的主体部1022在第一方向X上延伸的长度较长，其抗形变能力较大；在该位置处设置第一延伸部1020可以降低张网过程中掩膜单元10224变形的概率。

此外，请继续参阅图1，掩膜条102还包括两个第二延伸部1024，一个第二延伸部1024与主体部1022在长度方向Y上的一个端部连接；可选地，第二延伸部1024可以与框架100焊接固定。其中，位于相邻的第二延伸部1024与掩膜单元10224之间的主体部1022上设置有第一延伸部1020。该设计方式可以进一步使得掩膜条102在张网过程中在第一方向X上拉伸效果较好。

在另一个实施方式中，请参阅图2，图2为图1中沿A-A剖线一实施方式的剖面示意图。在掩膜条102的厚度方向Z上，第一延伸部1020 背离支撑条104一侧设置有凹陷10200。即第一延伸部1020设置有一个减薄区(或称半刻区)，张网过程中辅助件可以与该减薄区固定以使得掩膜条102在第一方向X上拉伸；且减薄区的引入可以使得辅助件朝向支撑条104一侧与支撑条104搭接的概率降低，以降低拉伸过程中第一延伸部1020与支撑条104之间分离的概率，以保证张网效果。

可选地，如图2所示，凹陷10200与第一延伸部1020背离主体部 (图2中未标示)一侧连通(即图2中虚线位置处)。该凹陷10200的设计方式可以降低在第一延伸部1020上引入减薄区的难度。

进一步，如图2所示，掩膜版10还包括辅助件106，至少填充凹陷 10200。该辅助件106为辅助掩膜条102张网后切割剩余的部分。上述结构设计较为简单，且工艺易于实现。

可选地，辅助件106背离主体部一侧1060与第一延伸部1020齐平 (即图2中虚线位置处)。即该设计方式可以使得在切割去除辅助件106 时，切割方式较为规整，切割工艺较为容易控制。

另一可选地，在厚度方向Z上，凹陷10200的深度与辅助件106的厚度相同。即该设计方式可以使得辅助件106背离支撑条104一侧与第一延伸部1020背离支撑条104一侧齐平；一般而言，在蒸镀过程中，掩膜条102背离支撑条104一侧与待蒸镀基板贴合，上述齐平设计方式可以使得掩膜条102与待蒸镀基板的贴合效果较好。

当然，在其他实施方式中，上述图2中残余的辅助件106也可在最终的掩膜版10中不出现，即所有辅助件均在张网结束后被切割去除。具体地，如图3所示，图3为图1中沿A-A剖线另一实施方式的剖面示意图。在掩膜条102的厚度方向Z上，第一延伸部1020背离支撑条104 一侧平整。该设计方式可以使得后续掩膜条102与待蒸镀基板贴合时贴合效果较好。

请再次参阅图1，上述提及的第一方向X与掩膜条102的宽度方向 P平行，支撑条104沿长度方向Y延伸。进一步，掩膜版10包含至少三个掩膜条102以及至少两个支撑条104，且至少两个支撑条104沿宽度方向P并排设置。该掩膜版10的结构设计较为规整，工艺易于实现。

可选地，如图1所示，至少两个支撑条104沿宽度方向P并排设置，相邻两个掩膜条102之间设置有一个支撑条104，相邻两个掩膜条102 中相邻设置的多个第一延伸部1020与支撑条104连接。上述通过一个支撑条104共同支撑相邻两个掩膜条102的方式，可以使得整个掩膜版 10的结构较为精简，成本较低。

另一可选地，如图1所示，支撑条104沿长度方向Y延伸；在宽度方向P上，支撑条104与相邻的掩膜条102中的掩膜单元10224之间具有第一间隔s，支撑条104在掩膜条102厚度方向(图1中未示意)的厚度与第一间隔s的比值小于或等于蒸发源的蒸镀角的正切值。以公式表示为：t/s≤tanθ；其中，t为厚度、s为第一间隔、θ为蒸镀角。该设计方式可以降低支撑条104的厚度带来的蒸镀shadow(阴影)进入掩膜单元10224的概率，以保证与掩膜单元10224对应的待蒸镀基板的蒸镀效果。

当然，在其他实施例中，如图4所示，图4为本申请掩膜版另一实施方式的结构示意图。上述提及的第一方向X与掩膜条102的宽度方向 P平行，支撑条104也可沿宽度方向P延伸。进一步，掩膜版10包含至少三个掩膜条102以及至少两个支撑条104，且至少两个支撑条104沿长度方向Y并排设置。该掩膜版10的结构设计同样具有较为规整且工艺易于实现的优点。

或者，在其他实施例中，掩膜版10中的部分支撑条104可以沿长度方向Y延伸，部分支撑条104可以沿宽度方向P延伸，此时多个支撑条104形成类似网状的支撑结构，以使得多个支撑条104对掩膜条102 的支撑效果较好。

此外，请参阅图5，图5为图1中部分框架一实施方式的结构示意图。位于支撑条104的延伸方向上的框架100设置有导向槽1000，导向槽1000的延伸方向与支撑条104的延伸方向交叉，且支撑条104插置于导向槽1000内。在该设计方式中，支撑条104可以沿导向槽1000进行滑动，以使得同一框架100和支撑条104能够适用于多种型号的掩膜条102。可选地，在掩膜条102的厚度方向上，支撑条104的厚度与导向槽1000的厚度相同，以降低支撑条104在厚度方向上晃动的概率。

例如，如图1或图4所示，框架100包含依次连接的第一条部1002、第二条部1004、第三条部1006和第四条部1008，第一条部1002与第三条部1006相对且间隔设置，第二条部1004和第四条部1008相对且间隔设置；其中，第一条部1002和第三条部1006的延伸方向与宽度方向X平行，第二条部1004和第四条部1008的延伸方向与长度方向Y平行。如图1所示，当支撑条104沿长度方向Y延伸时，位于支撑条104 延伸方向上的第一条部1002和第三条部1006上可以分别设置有导向槽 1000，且导向槽1000的延伸方向与宽度方向P平行。如图4所示，当支撑条104沿宽度方向P延伸时，位于支撑条104延伸方向上的第二条部1004和第四条部1008上可以分别设置有导向槽1000，且导向槽1000 的延伸方向与长度方向Y平行。

进一步，请再次参阅图5，掩膜版还包括锁紧件108，用于将支撑条104与导向槽1000的位置固定。当支撑条104移动到相应位置后，通过锁紧件108可以使得支撑条104的位置与导向槽1000保持相对固定，以保证张网效果。

可选地，如图1、图5和图6所示，图6为图1中部分框架一实施方式的俯视示意图。在掩膜条102的厚度方向上，框架100上设置有贯通的多个第一螺纹孔1001，且该第一螺纹孔1001与导向槽1000连通；支撑条104位于导向槽1000内的端部上设置有贯通的第二螺纹孔(图未示)。其中，锁紧件108为螺钉，其表面设置有与第一螺纹孔1001 和第二螺纹孔匹配的外螺纹。上述锁紧件108、框架100和支撑条104 的结构设计较为简单。

下面对上述任一实施例中掩膜版的制备过程做详细说明。请参阅图 7，图7为本申请掩膜版的制备方法一实施方式的流程示意图，该制备方法包括：

S100：将支撑条104与框架100连接。

具体地，请参阅图8，图8为图7中步骤S100对应的一实施方式的结构示意图。在本实施例中，可以将多个支撑条104与框架100连接，且多个支撑条104可以沿第一方向X并排设置。此外，框架100上设置有导向槽(图8中未示意)，支撑条104可以根据实际需求移动至设计位置后，利用锁紧件108将支撑条104的位置与框架100的位置保持相对固定，以利用支撑条104抵抗后续张网力造成的框架100变形，增加框架100的刚度。

S102：将连接有辅助件106的掩膜条102层叠设置于支撑条104一侧；其中，掩膜条102设置有至少一个沿第一方向X延伸的第一延伸部 1020，第一方向X与掩膜条102的长度方向Y交叉，至少部分第一延伸部1020背离支撑条104一侧连接有辅助件106，且辅助件106沿第一方向X延伸至框架100外侧。

具体地，请参阅图9，图9为图7中步骤S102对应的一实施方式的结构示意图。掩膜条102上的每个第一延伸部1020上均可以连接有一个辅助件106，且辅助件106超出框架100的设计方式便于后续张网机的夹爪夹取。

请参阅图10，图10为图9中沿B-B剖线一实施方式的剖面示意图。第一延伸部1020背离支撑条104一侧设置有第一凹陷10200，辅助件 106朝向支撑条104一侧设置有第二凹陷1060，第一凹陷10200和第二凹陷1060相互扣合且固定连接，例如，通过焊接等方式固定连接。详细而言，第一延伸部1020对应第一凹陷10200的位置形成第一凸部P1，辅助件106对应第二凹陷1060的位置形成第二凸部P2，第一凸部P1 位于第二凹陷1060内，第二凸部P2位于第一凹陷10200内。

可选地，辅助件106朝向支撑条104一侧与掩膜条102朝向支撑条一侧齐平。由于辅助件106会经过其余支撑条104表面，上述设计方式可以降低辅助件106拉伸过程中掩膜条102与对应位置处的支撑条104 表面脱离的概率，以保证后续张网效果。

进一步，上述辅助件106背离支撑条104一侧也可与掩膜条102背离支撑条104一侧齐平，该设计方式可以使得掩膜条102与辅助件106 所形成的整体在各个位置处的厚度相同，保证张网拉伸过程中辅助件 106和第一延伸部1020截面形心重合，拉伸过程中扭曲变形的概率较低，以提高拉伸效果。

此外，第一凹陷10200在支撑条104上的正投影可以位于支撑条104 内，也可位于支撑条104外部，本申请对此不作限定。

S103：利用张网机夹持辅助件106位于框架100外侧的端部以及掩膜条102长度方向Y上的两端，以使得掩膜条102张紧。

具体地，掩膜条102在长度方向Y上包含超出框架100的两个第二延伸部1024，张网机的部分夹爪可以夹持住该第二延伸部1024，以对掩膜条102施加长度方向Y上的力。同时，张网机的剩余夹爪可以夹持住超出框架100的辅助件106，以对辅助件106施加宽度方向P上的力。例如，图9中以虚线箭头标示出掩膜条102以及辅助件106所受到的力的方向，通过上述步骤S103可以使得掩膜条102在长度方向Y和宽度方向X上保持张紧状态。

S104：使掩膜条102长度方向Y上的两端与框架100连接，第一延伸部1020与支撑条104连接。

具体地，上述连接方式可以为焊接等方式。

S105：将至少部分辅助件106去除。

具体地，请参阅图10，当沿图10中L1进行切割时，切割去除后的结构如图2中所示；当沿图10中L2进行切割时，切割去除后的结构如图3中所示。

此外，当掩膜条102的个数为多个时，可以针对每个掩膜条102重复执行上述步骤S102-S105。对于步骤S101，当支撑条104的个数为多个时，可以仅先将与当前需要张网的掩膜条102相关的支撑条104与框架100固定好，即步骤S101也可重复执行；或者，也可将所有支撑条 104与框架100固定好，即步骤S101也可仅执行一次，本申请对此不作限定。

此外，如图9中所示，当所有掩膜条102均张网结束后，针对超出框架100的第二延伸部1024，可以对其进行切割处理，以去除超出框架 100的第二延伸部1024。

以上所述仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：

框架；

多个掩膜条，与所述框架连接，所述多个掩膜条沿第一方向并排设置；其中，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，且在所述第一方向上，所述掩膜条相对设置的两侧分别设置有至少一个沿所述第一方向延伸的第一延伸部；

至少一个支撑条，层叠设置于所述掩膜条一侧，且与所述框架连接；其中，所述支撑条在所述多个掩膜条上的正投影覆盖多个所述第一延伸部，并与覆盖的多个所述第一延伸部连接。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述掩膜条包括主体部，在所述掩膜条的宽度方向上，所述主体部包括相对设置的第一侧和第二侧，所述第一侧和所述第二侧上分别连接有多个所述第一延伸部；

优选地，所述掩膜条包含与所述长度方向平行的对称轴，所述掩膜条关于所述对称轴呈轴对称设置。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，

在所述长度方向上，所述主体部包括间隔设置的多个掩膜单元，位于相邻两个所述掩膜单元之间的所述主体部上设置有所述第一延伸部；

优选地，所述掩膜条还包括两个第二延伸部，一个所述第二延伸部与所述主体部在所述长度方向上的一个端部连接；其中，位于相邻的所述第二延伸部与所述掩膜单元之间的所述主体部上设置有所述第一延伸部。

4.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，

在所述掩膜条的厚度方向上，所述第一延伸部背离所述支撑条一侧平整。

5.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，

在所述掩膜条的厚度方向上，所述第一延伸部背离所述支撑条一侧设置有凹陷；

优选地，所述凹陷与所述第一延伸部背离所述主体部一侧连通；

优选地，所述掩膜版还包括辅助件，至少填充所述凹陷；

优选地，所述辅助件背离所述主体部一侧与所述第一延伸部齐平；

优选地，在所述厚度方向上，所述凹陷的深度与所述辅助件的厚度相同。

6.根据权利要求2-5中任一项所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一方向与所述掩膜条的宽度方向平行，所述支撑条沿所述长度方向或所述宽度方向延伸。

7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，

所述掩膜版包含至少三个所述掩膜条以及至少两个所述支撑条，且至少两个所述支撑条沿所述宽度方向或所述长度方向并排设置；

优选地，至少两个所述支撑条沿所述宽度方向并排设置，相邻两个所述掩膜条之间设置有一个所述支撑条，相邻两个所述掩膜条中相邻设置的多个所述第一延伸部与所述支撑条连接。

8.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，

所述支撑条沿所述长度方向延伸；在所述宽度方向上，所述支撑条与相邻的所述掩膜条中的掩膜单元之间具有第一间隔，所述支撑条的厚度与所述第一间隔的比值小于或等于蒸发源的蒸镀角的正切值。

9.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

位于所述支撑条的延伸方向上的所述框架设置有导向槽，所述导向槽的延伸方向与所述支撑条的延伸方向交叉，且所述支撑条插置于所述导向槽内；

所述掩膜版还包括锁紧件，用于将所述支撑条与所述导向槽的位置固定。

10.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

将支撑条与框架连接；

将连接有辅助件的掩膜条层叠设置于所述支撑条一侧；其中，所述掩膜条设置有至少一个沿第一方向延伸的第一延伸部，所述第一方向与所述掩膜条的长度方向交叉，至少部分所述第一延伸部背离所述支撑条一侧连接有所述辅助件，且所述辅助件沿所述第一方向延伸至所述框架外侧；

利用张网机夹持所述辅助件位于所述框架外侧的端部以及所述掩膜条长度方向上的两端，以使得所述掩膜条张紧；

使所述掩膜条长度方向上的两端与所述框架连接，所述第一延伸部与所述支撑条连接；

将至少部分所述辅助件去除。

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