CN115391493A - 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质 - Google Patents

磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质 Download PDF

Info

Publication number
CN115391493A
CN115391493A CN202211320131.9A CN202211320131A CN115391493A CN 115391493 A CN115391493 A CN 115391493A CN 202211320131 A CN202211320131 A CN 202211320131A CN 115391493 A CN115391493 A CN 115391493A
Authority
CN
China
Prior art keywords
debugging
target
debugged
option
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202211320131.9A
Other languages
English (en)
Inventor
马晓旻
付鲁堂
王培毅
齐汝西
吴静
高远瞩
许淑嫚
谭菊英
李沛尧
郭嘉豪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Southern University of Science and Technology
Original Assignee
Southern University of Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Southern University of Science and Technology filed Critical Southern University of Science and Technology
Priority to CN202211320131.9A priority Critical patent/CN115391493A/zh
Publication of CN115391493A publication Critical patent/CN115391493A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F16/00—Information retrieval; Database structures therefor; File system structures therefor
    • G06F16/30—Information retrieval; Database structures therefor; File system structures therefor of unstructured textual data
    • G06F16/33—Querying
    • G06F16/3331—Query processing
    • G06F16/334—Query execution
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/02—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material
    • G01N23/04—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by transmitting the radiation through the material and forming images of the material
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/14—Lenses magnetic
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/261—Details
    • H01J37/265—Controlling the tube; circuit arrangements adapted to a particular application not otherwise provided, e.g. bright-field-dark-field illumination

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Computational Linguistics (AREA)
  • Data Mining & Analysis (AREA)
  • Databases & Information Systems (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Debugging And Monitoring (AREA)

Abstract

本申请涉及一种磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质。方法包括：获取Digital Micrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项；在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的目标调试选项；根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；判断目标调试选项的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件；若否，返回执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值；若是，将目标调试选项置为已调试状态，并从待调试选项中剔除，返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，直到各待调试选项处于已调试状态。采用本方法能够提高磁透镜调试的准确性。

Description

磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质
技术领域
本申请涉及透镜技术领域，特别是涉及一种磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质。
背景技术
在磁透镜中，当光源电子经过样品后，大约80%的电子是直接透射过去的，5%的电子发生了弹性散射，15%的电子发生了非弹性散射。发生非弹性散射的电子会干扰成像，为了提高图像的对比度，人们会选择加装能量过滤器过滤到这部分电子。为了保证磁透镜的光在经过能量过滤器之后依旧保持良好的单色性、成像无畸变，需要对能量过滤器内的磁透镜进行调试，以校正磁透镜参数。
Digital Micrograph (DM)一种用于透射电镜数据采集和分析的软件。相关技术中，使用DM软件自带的校正功能（tune GIF）对磁透镜进行调试，从而校正磁透镜参数。然而，使用DM中自带的tune GIF功能只能按照固定流程对磁透镜参数进行调试，容易导致调试后的磁透镜参数不准确。因此，如何提高磁透镜参数调试的准确性，成为本领域技术人员亟需解决的技术问题。
发明内容
基于此，有必要针对上述技术问题，提供一种能够提高磁透镜参数调试的准确性的磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质。
第一方面，本申请提供了一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法。所述方法包括：
获取Digital Micrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项；所述调试选项集中的调试选项具有对应的顺序；
在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项；
根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；
判断所述目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件；其中，所述第二预设条件为所述调试初始值小于等于第一预设值，或者所述目标调试值小于等于所述调试初始值，或者所述目标调试值小于等于第二预设值；
若否，返回执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足所述第二预设条件的目标调试值；
若是，将所述目标调试选项置为已调试状态，并从所述多个待调试选项中剔除，返回执行所述在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各所述待调试选项处于所述已调试状态。
在其中一个实施例中，所述方法还包括：
在对所述磁透镜进行调试的过程中，当所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表征询问调试是否继续的提示对话框时，调用自动点击脚本在所述提示对话框中的预设区域进行触发操作；
响应于所述触发操作，关闭所述提示对话框，以继续执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值的步骤。
在其中一个实施例中，所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值，包括：
根据所述目标调试选项对所述磁透镜进行调试，得到调试结果，并将所述调试结果写入到调试文档；
在所述调试文档中，当查找到用于表示调试开始的第一关键词时，获取指针在所述调试文档中的指针位置；
在所述调试文档中，从所述指针位置开始查询得到所述目标调试值。
在其中一个实施例中，所述从所述指针位置开始查询得到所述目标调试值，包括：
根据第二关键词从所述指针位置开始查找用于表示所述目标调试值所在的第一目标区域；
在所述第一目标区域中提取得到所述目标调试值。
在其中一个实施例中，所述方法还包括：
在所述调试文档中，根据第三关键词从所述指针位置开始查找用于表示所述调试初始值所在的第二目标区域；
在所述第二目标区域中提取得到所述调试初始值。
在其中一个实施例中，所述方法还包括：
当所述目标调试选项为所述已调试状态时，在所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示所述目标调试选项已调试的第一提示信息；
当各所述待调试选项处于所述已调试状态时，在所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示各所述待调试选项已调试的第二提示信息。
在其中一个实施例中，所述方法包括：
获取各所述待调试选项对应的满足所述第二预设条件的目标调试值；
将获取的各所述目标调试值显示于所述Digital Micrograph软件的显示界面。
第二方面，本申请还提供了一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置。所述装置包括：
调试选项获取模块，用于获取Digital Micrograph软件的调试选项集 中被选取的多个待调试选项；所述调试选项集中的调试选项具有对应的顺序；
调试选项选择模块，用于在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项；
调试模块，用于根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；
判断模块，用于判断所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值是否满足第二预设条件；其中，所述第二预设条件为所述调试初始值小于等于第一预设值，或者所述目标调试值小于等于所述调试初始值，或者所述目标调试值小于等于第二预设值；
处理模块，用于在所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值不满足第二预设条件，返回执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足所述第二预设条件的目标调试值；所述处理模块，用于在所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值满足第二预设条件，将所述目标调试选项置为已调试状态，并从所述多个待调试选项中剔除，返回执行所述在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各所述待调试选项处于所述已调试状态。
第三方面，本申请还提供了一种计算机设备。所述计算机设备包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，所述处理器执行所述计算机程序时实现上述实施例的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法。
第四方面，本申请还提供了一种计算机可读存储介质。所述计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现上述实施例的基于DigitalMicrograph的磁透镜调试方法。
第五方面，本申请还提供了一种计算机程序产品。所述计算机程序产品，包括计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述实施例的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法。
上述实施例的磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质，通过获取DigitalMicrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项，调试选项集中的调试选项具有对应的顺序，以确定需要对磁透镜进行调试的多个待调试选项，然后在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项，再根据选择得到的目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值，然后判断目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件，以确定是否需要继续根据目标调试选项对磁透镜进行调试。当目标调试值不满足第二预设条件时，返回执行根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足所述第二预设条件的目标调试值，当目标调试值满足第二预设条件时，将目标调试选项置为已调试状态，并将目标调试选项从多个待调试选项中剔除，返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，以在多个待调试选项选择下一个目标调试选项对磁透镜进行调试，直到各待调试选项处于已调试状态。本申请的技术方案，通过设置第二预设条件对目标调试值进行判断，当目标调试值不满足第二预设条件时，循环执行根据目标调试值对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值，从而使得目标调试值符合第二预设条件，提高了目标调试选项对磁透镜调试的准确性，进而提高了磁透镜参数调试的准确性。
附图说明
图1为一个实施例中基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的流程示意图；
图2为另一个实施例中基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的流程示意图；
图3为一个实施例中获取目标调试值步骤的流程示意图；
图4为一个实施例中基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置的结构框图；
图5为一个实施例中计算机设备的内部结构图。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。
在一个实施例中，如图1所示，提供了一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法，本实施例以该方法应用于终端进行举例说明，可以理解的是，该方法也可以应用于服务器，还可以应用于包括终端和服务器的***，并通过终端和服务器的交互实现，其中，终端可以是安装Digital Micrograph软件的个人计算机、笔记本电脑、平板电脑等等，服务器可以用独立的服务器或者是多个服务器组成的服务器集群来实现。本实施例中，该方法包括以下步骤：
步骤102，获取Digital Micrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项；调试选项集中的调试选项具有对应的顺序。
其中，Digital Micrograph软件是一种用于透射电镜数据采集和分析的软件。
调试选项集可以指用于对磁透镜进行调试的选项集合。该调试选项集可以是Digital Micrograph软件自带的选项集合，也可以是用户输入至Digital Micrograph软件中的选项集合，还可以是Digital Micrograph软件自带的调试选项和用户输入一些到Digital Micrograph软件的调试选项组成的集合，对于此，本申请不作具体限制。该调试选项集可以包括图像居中调整（Tune Image Centering）、低阶谱聚焦调整（Tune SpectrumFocus）、色差聚焦调整（Tune Chromaticity Focus）、第一放大倍数调整（TuneMagnification）、高阶谱聚焦调整（Tune Spectrum Focus）、低阶畸变调整（TuneDistortions）、高阶畸变调整（Tune Distortions High Order）和第二放大倍数调整（TuneMagnification）。其中：图像居中调整可以指利用标准孔掩膜（mask）来对透射电镜观测到的图像进行居中的调整。低阶谱聚焦调整可以指将透射电镜的零损谱聚焦在slit平面的低阶调整。该零损谱可以指电子能量损失谱中的零损失峰。如可以将光源电子与样品没有发生弹性碰撞时的电子能量损失谱为零损谱。色差聚焦调整可以指对透射电镜所观测到不同能量下的标准孔图像的聚焦调整。第一放大倍数调整可以指对透射电镜中标准孔平面到相机之间的放大倍数的调整。高阶谱聚焦调整可以指将透射电镜的零损谱聚焦在slit平面的高阶调整。低阶畸变调整可以指对透射电镜所观测到的图像的畸变的低阶调整。高阶畸变调整可以指对透射电镜所观测到的图像的畸变的高阶调整。第二放大倍数调整可以指对透射电镜中标准孔平面到相机之间的放大倍数的调整。需要说明的是，由于在对磁透镜进行第一放大倍数调整后，还可能根据其他的调试选型对磁透镜进行了调试，从而可能导致放大倍数发生了偏差，因此，需要根据第二放大倍数调整对磁透镜（透射电镜）中标准孔平面到相机之间的放大倍数进行再次调整。第二放大倍数调整的调试初始值与第一放大倍数调整的调试初始值可以不同。
调试选项集中的所有调试选项具有对应的顺序，并且按照该顺序进行排列。例如，可以以以下顺序进行排列：
①、图像居中调整。
②、低阶谱聚焦调整。
③、色差聚焦调整。
④、第一放大倍数调整。
⑤、高阶谱聚焦调整。
⑥、低阶畸变调整。
⑦、高阶畸变调整。
⑧、第二放大倍数调整。
待调试选项可以指用户在调试选项集中选择的用于对磁透镜进行调试的调试选项。
示例性地，Digital Micrograph软件的显示界面上显示调试选项集，用户可以在该显示界面上对调试选项集中的各调试选项进行勾选，以得到多个待调试选项。
步骤104，在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项。
其中，第一预设条件为预先设定的条件。该第一预设条件可以是用户在DigitalMicrograph软件中设定的，也可以是Digital Micrograph软件自行设定的。该第一预设条件可以是在多个待调试选项中排列顺序最高的，也可以是多个待调试选项中排列顺序最低的，或者是其他的指定顺序，对于此，本申请不作具体限制。
示例性地，在多个待调试选项中选择排列顺序最高的待调试选项作为目标调试选项。
例如，当第一预设条件为Digital Micrograph软件自行设定的、该第一预设条件是在多个待调试选项中排列顺序最高的条件，且多个待调试选项是用户在DigitalMicrograph的显示界面勾选的调试选项时，Digital Micrograph软件的处理器，自上而下检查该显示界面哪一个待调试选项的排名最高，并将该排名最高的待调试选项作为目标调试选项。如，当用户勾选的待调试选项为图像居中调整、色差聚焦调整和高阶畸变调整时，则目标调试选项为图像居中调整。
步骤106，根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值。
其中，磁透镜可以指透射电镜的一种，该磁透镜能够把匀速带电粒子束会聚，并且把这样的束程中的物体形成像的轴对称磁场。该磁透镜可以由螺线管、电磁铁或永磁体产生，用于电子和离子显微镜、带电粒子加速器及其他装置中。
目标调试值可以指根据标准指标对磁透镜的参数进行调试后的值。当目标调试选项是图像居中调整、低阶谱聚焦调整、色差聚焦调整、高阶谱聚焦调整中的任意一种时，对应的目标调试值是调试后的偏差值，即目标偏差值，该目标偏差值用于指示对磁透镜进行调试后的参数偏离标准指标的程度。当目标调试选项是低阶畸变调整或者高阶畸变调整时，对应的目标调试值是调试后的均方差值，即目标均方差值，该目标均方差值用于指示各调试后的参数偏离标准指标差值的平方和的平均数。当目标调试选项是第一放大倍数调整或者第二放大倍数调整时，对应的目标调试值是调试后的指标值，即目标指标值。
示例性地，当目标调试选项为图像居中调整时，以图像居中调整对磁透镜进行调试，得到目标偏差值。
步骤108，判断目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件；其中，第二预设条件为调试初始值小于等于第一预设值，或者目标调试值小于等于调试初始值，或者目标调试值小于等于第二预设值。
其中，第二预设条件可以指预先设定的条件，该第二预设条件可以是用户输入在Digital Micrograph软件中的，也可以是Digital Micrograph软件自行设定的，对于此，本申请不作具体限制。
调试初始值可以指在根据目标调试选项对磁透镜进行调试之前的值。当目标调试选项是图像居中调整、低阶谱聚焦调整、色差聚焦调整、高阶谱聚焦调整中的任意一种时，对应的调试初始值是调试前的偏差值，即初始偏差值，该初始偏差值用于指示对磁透镜进行调试前的参数偏离标准指标的程度。当目标调试选项是低阶畸变调整或者高阶畸变调整时，对应的调试初始值是调试后的均方差值，即初始均方差值，该初始均方差值用于指示各调试前的参数偏离标准指标差值的平方和的平均数。当目标调试选项是第一放大倍数调整或者第二放大倍数调整时，对应的调试初始值是调试后的指标值，即初始指标值。
第一预设值可以指预先设定的值，该第一预设值可以是用户预先设定在DigitalMicrograph软件中，也可以是Digital Micrograph软件自行设定的。
第二预设值可以指预先设定的值，该第二预设值可以是是用户预先设定在Digital Micrograph软件中，也可以是Digital Micrograph软件自行设定的。
当目标调试选项是图像居中调整、低阶谱聚焦调整或者高阶谱聚焦调整中的任意一种时，对应的目标调试值包括两个值，分别用final_dx_val和final_dy_val表示；初始调试值也包括两个值，分别用Initial_dx_val和Initial_dy_val表示。此时，对应的第二预设条件为目标调试值小于等于初始调试值或者初始调试值小于等于第一预设值。当final_dx_val小于等于Initial_dx_val，且final_dy_val小于等于Initial_dy_val时，说明目标调试值小于等于初始调试值。当初始调试值小于等于第一预设值时，说明调试前的指标已经足够好，可以用searchString_ good关键词进行标注，当检索到searchString_ good关键词时，说明调试前的指标已经足够好，不需要对磁透镜进行调试。当目标调试值小于等于初始调试值时，说明目标调试值满足第二预设条件。
当目标调试选项是色差聚焦调整时，对应的目标调试值可以用final_dx_val表示。此时，对应的第二预设条件为初始调试值小于等于第一预设值或者目标调试值小于等于初始调试值。当初始调试值小于等于第一预设值时，说明调试前的指标已经足够好，不需要对磁透镜进行调试。当目标调试值小于等于初始值时，说明目标调试值满足第二预设条件。
当目标调试选项是低阶畸变调整或者高阶畸变调整时，对应的目标调试值可以用final_dx_val表示，初始调试值可以用Initial_dx_val表示。此时，对应的第二预设条件为目标调试值小于等于初始调试值或者目标调试值小于等于第二预设值。在这种情况下，当目标调试值小于等于第二预设值（即调试后的指标比预先设定的第二预设值要好）或者目标调试值小于等于初始调试值（调试后的指标比调试前的指标要好），即可判断目标调试值符合第二预设条件。
当目标调试选项是第一放大倍数调整或者第二放大倍数调整时，对应的目标调试值可以用final_dx_val表示，初始调试值可以用Initial_dx_val表示。此时，第二预设条件为目标调试值小于等于初始调试值。当目标调试值小于等于初始调试值时，说明目标调试值满足第二预设条件。
步骤110，若否，返回执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值。
示例性地，当目标调试值不满足第二预设条件时，重新返回执行步骤106，直到得到满足第二预设条件的目标调试值。
通过在目标调试值不满足第二预设条件时，重新返回执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试的步骤，以重新对磁透镜进行调试，直到得到满足第二预设条件的目标调试值，从而提高了对磁透镜调试的准确性。
在一个实施例中，当目标调试值不满足第二预设条件时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示灰灯，以提醒用户本次调试未通过。当目标调试值满足第二预设条件时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示绿灯，以提醒用户本次调试通过。
步骤112，若是，将目标调试选项置为已调试状态，并从多个待调试选项中剔除，返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各待调试选项处于已调试状态。
其中，已调试状态用于表示已对磁透镜进行调试，且得到满足第二预设条件的目标调试值的状态，或者用于表示调试初始值已满足第二预设条件的状态。
示例性地，当调试初始值小于等于第一预设值时，不会根据目标调试选项对磁透镜进行调试，将目标调试选项置为已调试状态，并将该目标调试选项从待调试选项中剔除，然后返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，以在剔除后的多个待调试选项中选择满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项，并根据重新选择的目标调试选项对磁透镜进行调整，直到得到满足第二预设条件的目标调试值。重复循环执行104至110的步骤，直到所有的待调试选项处于已调试状态。
示例性地，当目标调试值满足第二预设条件时，将目标调试选项置为已调试状态，并将该目标调试选项从待调试选项中剔除，并返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，以在剔除后的多个待调试选项中选择满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项，并根据重新选择的目标调试选项对磁透镜进行调整，直到得到满足第二预设条件的目标调试值。重复循环执行104至110的步骤，直到所有的待调试选项处于已调试状态。
例如，当多个待调试选项包括图像居中调整、色差聚焦调整、高阶畸变调整和第二放大倍数调整时，首先根据第一预设条件选择图像居中调整为目标调整选项，然后根据目标调整选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值。在目标调试值满足第二预设条件的情况下，将图像居中调整置为已调试状态，并将图像居中调整从待调试选项中剔除。此时，多个待调试选项包括色差聚焦调整、高阶畸变调整和第二放大倍数调整，在多个待调试选项中根据第一预设条件选择色差聚焦调整为目标调整选项，然后根据目标调整选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值。在目标调试值满足第二预设条件的情况下，将色差聚焦调整从多个待调试选项中剔除，并在多个待调试选项中重新选择目标调试选项。以此类推，直到所有的待调试选项均处于已调试状态。
本申请实施例的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法，通过获取DigitalMicrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项，调试选项集中的调试选项具有对应的顺序，以确定需要对磁透镜进行调试的多个待调试选项，然后在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项，再根据选择得到的目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值，然后判断目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件，以确定是否需要继续根据目标调试选项对磁透镜进行调试。当目标调试值不满足第二预设条件时，返回执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值，当目标调试值满足第二预设条件时，将目标调试选项置为已调试状态，并将目标调试选项从多个待调试选项中剔除，返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，以在多个待调试选项选择下一个目标调试选项对磁透镜进行调试，直到各待调试选项处于已调试状态。本申请的技术方案，通过设置第二预设条件对目标调试值进行判断，当目标调试值不满足第二预设条件时，循环执行根据目标调试值对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值，从而使得目标调试值符合第二预设条件，提高了目标调试选项对磁透镜调试的准确性，进而提高了磁透镜参数调试的准确性。
请参照图2，在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法还包括但不限于以下步骤：
步骤202，在对磁透镜进行调试的过程中，当Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表征询问调试是否继续的提示对话框时，调用自动点击脚本在提示对话框中的预设区域进行触发操作。
步骤204，响应于触发操作，关闭提示对话框，以继续执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值的步骤。
其中，提示对话框可以指用于表征询问调试是否继续的对话框。在对磁透镜进行调试的过程中，如果出现了该提示对话框，Digital Micrograph软件会暂停对磁透镜的调试。此时，需要将该提示对话框关闭，Digital Micrograph软件才会继续对磁透镜进行调试。
预设区域可以指提示对话框中预先设定的区域。当在该预设区域上进行触发操作时，Digital Micrograph软件的显示界面会关闭该提示对话框。例如，该预设区域可以是用于表征继续调试的区域，也可以是用于表征关闭提示对话框的区域。如，在预设区域可以是用于表征继续调试的按钮，也可以是用于关闭提示对话框的按钮。
示例性地，在对磁透镜进行调试的过程中，当Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表征询问调试是否继续的提示对话框时，调用自动点击脚本在提示对话框的预设区域进行点击，以关闭该提示对话框，解决了现有技术中当Digital Micrograph软件的显示界面出现提示对话框时，需要用户对该提示对话框进行点击，才能继续进行对磁透镜进行调试的问题，使得Digital Micrograph软件对磁透镜的调试更加自动化，降低了人力成本。
请参照图3，在一个实施例中，步骤106包括但不限于以下步骤：
步骤302，根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到调试结果，并将调试结果写入到调试文档。
其中，调试结果用于表征目标调试选项对磁透镜进行调试的结果。该调试结果可以记录调试的整个过程，如调试开始、调试结束等。
调试文档可以指设置在终端上的，且用于记录调试结果的文档。该调试文档可以是设置在终端上的文本格式文档，也可以是设置在终端上的其他格式的文档。
示例性地，可以预先在终端上设置用于记录调试结果的文本文档，然后再调用Digital Micrograph软件，根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到调试结果，并将该调试结果写入到调试文档中。
步骤304，在调试文档中，当查找到用于表示调试开始的第一关键词时，获取指针在调试文档中的指针位置。
其中，第一关键词可以指用于表示对磁透镜调试开始的关键词。该第一关键词可以用searchString_start表示。
指针位置可以指在调试文档中查找到第一关键词时所处的位置。该指针位置可以用offset_others表示。
示例性地，可以使用查找功能在调试文档中查找到第一关键词，当查找到第一关键词时，记录此时指针在调试文档中的位置，得到指针位置。
示例性地，可以编写用于查找第一关键词的程序，以用于在调试文档中查找到第一关键词，当查找到第一关键词时，记录此时指针在调试文档中的位置，得到指针位置。
在一个实施例中，在步骤304之前，基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法还包括：在调试文档中查找用于表示调试完成的第四关键词。
其中，第四关键词可以指用于表示对磁透镜的调试已完成的关键词。该关键词可以用searchString_complete表示。
示例性地，可以使用查找功能在调试文档中查找到第四关键词，当查找到第四关键词以后，说明已完成对磁透镜的调试，此时在调试文档中查找第一关键词。
示例性地，可以编写用于查找第四关键词的程序，以用于在调试文档中查找到第四关键词，当查找到第四关键词以后，说明已完成对磁透镜的调试，此时在调试文档中查找第一关键词。
步骤306，在调试文档中，从指针位置开始查询得到目标调试值。
目标调试值处于调试文档的调试开始位置和调试完成位置之间，因此，本实施例的技术方案，通过从指针位置开始查询目标调试值，能够缩减在调试文档中的检索范围，从而便于查询得到目标调试值。
在一个实施例中，步骤306包括但不限于以下步骤：根据第二关键词从指针位置开始查找用于表示目标调试值所在的第一目标区域；在第一目标区域中提取得到目标调试值。
其中，第二关键词用于表示目标调试值所在区域的关键词。该第二关键词可以用searchString_ final表示，当检索到该searchString_ final时，说明已找到目标调试值所在区域。
第一目标区域可以指调试文档中目标调试值所在的区域。
示例性地，编写查找程序在调试文档中进行searchString_ final的关键词检索，以检索到用于表征目标调试值所在区域的第二关键词。当检索到关键词searchString_final后，即可确定目标调试值所在的第一目标区域，然后在该第一目标区域中提取得到目标调试值。
在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法还包括但不限于以下步骤：在调试文档中，根据第三关键词从指针位置开始查找用于表示调试初始值所在的第二目标区域；在第二目标区域中提取得到调试初始值。
其中，第三关键词可以指用于表征调试初始值所在区域的关键词。该第三关键词可以用Initial_dy_val表示，当检索到该Initial_dy_val时，说明已找到目标调试值所在区域。
第二目标区域可以指调试初始值所在的区域。
示例性地，编写查找程序在调试文档中进行Initial_dy_val的关键词检索，以检索到用于表征目标调试值所在区域的第二关键词。当检索到关键词Initial_dy_val后，即可确定目标调试值所在的第一目标区域，然后在该第一目标区域中提取得到目标调试值。
调试初始值处于调试文档的调试开始位置和调试完成位置之间，因此，本实施例的技术方案，通过从指针位置开始查询调试初始值，能够缩减在调试文档中的检索范围，从而便于查询得到调试初始值。
在一些实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法还包括但不限于以下步骤：当目标调试选项为已调试状态时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示目标调试选项已调试的第一提示信息；当各待调试选项处于已调试状态时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示各待调试选项已调试的第二提示信息。
示例性地，当目标调试选项为已调试状态后，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示第一提示信息，以提醒用户以根据目标调试选项对磁透镜进行调试，且得到了满足第二预设条件的目标调试值。当所有的待调试选项处于已调试状态时，在DigitalMicrograph软件的显示界面上显示第二提示信息，以提醒用户已完成对磁透镜的所有调试。
在一些实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法还包括但不限于以下步骤：获取各待调试选项对应的满足第二预设条件的目标调试值；将获取的各目标调试值显示于Digital Micrograph软件的显示界面。
示例性地，在完成对磁透镜的调试后，获取各待调试选项对应的满足第二预设条件的目标调试值，并将获取的各目标调试值显示于Digital Micrograph软件的显示界面，以便于用户查阅目标调试值。
应该理解的是，虽然如上的各实施例所涉及的流程图中的各个步骤按照箭头的指示依次显示，但是这些步骤并不是必然按照箭头指示的顺序依次执行。除非本文中有明确的说明，这些步骤的执行并没有严格的顺序限制，这些步骤可以以其它的顺序执行。而且，如上的各实施例所涉及的流程图中的至少一部分步骤可以包括多个步骤或者多个阶段，这些步骤或者阶段并不必然是在同一时刻执行完成，而是可以在不同的时刻执行，这些步骤或者阶段的执行顺序也不必然是依次进行，而是可以与其它步骤或者其它步骤中的步骤或者阶段的至少一部分轮流或者交替地执行。
基于同样的发明构思，本申请实施例还提供了一种用于实现上述所涉及的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置。
在一个实施例中，如图4所示，提供了一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置，包括：调试选项获取模块402、调试选项选择模块404、调试模块406、判断模块408和处理模块410，其中：
调试选项获取模块402，用于获取Digital Micrograph软件的调试选项集 中被选取的多个待调试选项；调试选项集中的调试选项具有对应的顺序；
调试选项选择模块404，用于在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项；
调试模块406，用于根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；
判断模块408，用于判断目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值是否满足第二预设条件；其中，第二预设条件为调试初始值小于等于第一预设值，或者目标调试值小于等于调试初始值，或者目标调试值小于等于第二预设值；
处理模块410，用于在目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值不满足第二预设条件，返回执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足第二预设条件的目标调试值；处理模块还用于在目标调试选项对应的调试初始值或目标调试值满足第二预设条件，将目标调试选项置为已调试状态，并从多个待调试选项中剔除，返回执行在多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各待调试选项处于已调试状态。
在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置还包括：
调用模块，用于在对磁透镜进行调试的过程中，当Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表征询问调试是否继续的提示对话框时，调用自动点击脚本在提示对话框中的预设区域进行触发操作。
对话框关闭模块，用于响应于触发操作，关闭提示对话框，以继续执行根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值的步骤。
在一个实施例中，调试模块406包括：
调试单元，用于根据目标调试选项对磁透镜进行调试，得到调试结果，并将调试结果写入到调试文档。
查找单元，用于在调试文档中，当查找到用于表示调试开始的第一关键词时，获取指针在调试文档中的指针位置。
查询单元，用于在调试文档中，从指针位置开始查询得到目标调试值。
在一个实施例中，查询单元包括：
查找子单元，用于根据第二关键词从指针位置开始查找用于表示目标调试值所在的第一目标区域。
提取子单元，用于在第一目标区域中提取得到目标调试值。
在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置还包括：
查找模块，用于在调试文档中，根据第三关键词从指针位置开始查找用于表示调试初始值所在的第二目标区域。
提取模块，用于在第二目标区域中提取得到调试初始值。
在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置还包括：
第一显示模块，用于当目标调试选项为已调试状态时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示目标调试选项已调试的第一提示信息。
第二显示模块，用于当各待调试选项处于已调试状态时，在Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示各待调试选项已调试的第二提示信息。
在一个实施例中，基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置还包括：
调试值获取模块，用于获取各待调试选项对应的满足第二预设条件的目标调试值。
第三显示模块，用于将获取的各目标调试值显示于Digital Micrograph软件的显示界面。
上述基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置中的各个模块可全部或部分通过软件、硬件及其组合来实现。上述各模块可以硬件形式内嵌于或独立于计算机设备中的处理器中，也可以以软件形式存储于计算机设备中的存储器中，以便于处理器调用执行以上各个模块对应的操作。
在一个实施例中，提供了一种计算机设备，该计算机设备可以是终端，其内部结构图可以如图5所示。该计算机设备包括处理器、存储器、输入/输出接口、通信接口、显示单元和输入装置。其中，处理器、存储器和输入/输出接口通过***总线连接，通信接口、显示单元和输入装置通过输入/输出接口连接到***总线。其中，该计算机设备的处理器用于提供计算和控制能力。该计算机设备的存储器包括非易失性存储介质和内存储器。该非易失性存储介质存储有操作***和计算机程序。该内存储器为非易失性存储介质中的操作***和计算机程序的运行提供环境。该计算机设备的输入/输出接口用于处理器与外部设备之间交换信息。该计算机设备的通信接口用于与外部的终端进行有线或无线方式的通信，无线方式可通过WIFI、移动蜂窝网络、NFC（近场通信）或其他技术实现。该计算机程序被处理器执行时以实现一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法。该计算机设备的显示单元用于形成视觉可见的画面，可以是显示屏、投影装置或虚拟现实成像装置。显示屏可以是液晶显示屏或者电子墨水显示屏，该计算机设备的输入装置可以是显示屏上覆盖的触摸层，也可以是计算机设备外壳上设置的按键、轨迹球或触控板，还可以是外接的键盘、触控板或鼠标等。
本领域技术人员可以理解，图5中示出的结构，仅仅是与本申请方案相关的部分结构的框图，并不构成对本申请方案所应用于其上的计算机设备的限定，具体的计算机设备可以包括比图中所示更多或更少的部件，或者组合某些部件，或者具有不同的部件布置。
在一个实施例中，提供了一种计算机设备，包括存储器和处理器，存储器中存储有计算机程序，该处理器执行计算机程序时实现上述的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的步骤。
在一个实施例中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现上述的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的步骤。
在一个实施例中，提供了一种计算机程序产品，包括计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述的基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法的步骤。
本领域普通技术人员可以理解实现上述实施例方法中的全部或部分流程，是可以通过计算机程序来指令相关的硬件来完成，所述的计算机程序可存储于一非易失性计算机可读取存储介质中，该计算机程序在执行时，可包括如上述各方法的实施例的流程。其中，本申请所提供的各实施例中所使用的对存储器、数据库或其它介质的任何引用，均可包括非易失性和易失性存储器中的至少一种。非易失性存储器可包括只读存储器（Read-OnlyMemory，ROM）、磁带、软盘、闪存、光存储器、高密度嵌入式非易失性存储器、阻变存储器（ReRAM）、磁变存储器（Magnetoresistive Random Access Memory，MRAM）、铁电存储器（Ferroelectric Random Access Memory，FRAM）、相变存储器（Phase Change Memory，PCM）、石墨烯存储器等。易失性存储器可包括随机存取存储器（Random Access Memory，RAM）或外部高速缓冲存储器等。作为说明而非局限，RAM可以是多种形式，比如静态随机存取存储器（Static Random Access Memory，SRAM）或动态随机存取存储器（Dynamic RandomAccess Memory，DRAM）等。本申请所提供的各实施例中所涉及的数据库可包括关系型数据库和非关系型数据库中至少一种。非关系型数据库可包括基于区块链的分布式数据库等，不限于此。本申请所提供的各实施例中所涉及的处理器可为通用处理器、中央处理器、图形处理器、数字信号处理器、可编程逻辑器、基于量子计算的数据处理逻辑器等，不限于此。
以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试方法，其特征在于，所述方法包括：
获取Digital Micrograph软件的调试选项集中被选取的多个待调试选项；所述调试选项集中的调试选项具有对应的顺序；
在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项；
根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；
判断所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值是否满足第二预设条件；其中，所述第二预设条件为所述调试初始值小于等于第一预设值，或者所述目标调试值小于等于所述调试初始值，或者所述目标调试值小于等于第二预设值；
若否，返回执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足所述第二预设条件的目标调试值；
若是，将所述目标调试选项置为已调试状态，并从所述多个待调试选项中剔除，返回执行所述在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各所述待调试选项处于所述已调试状态。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在对所述磁透镜进行调试的过程中，当所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表征询问调试是否继续的提示对话框时，调用自动点击脚本在所述提示对话框中的预设区域进行触发操作；
响应于所述触发操作，关闭所述提示对话框，以继续执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值的步骤。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值，包括：
根据所述目标调试选项对所述磁透镜进行调试，得到调试结果，并将所述调试结果写入到调试文档；
在所述调试文档中，当查找到用于表示调试开始的第一关键词时，获取指针在所述调试文档中的指针位置；
在所述调试文档中，从所述指针位置开始查询得到所述目标调试值。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述从所述指针位置开始查询得到所述目标调试值，包括：
根据第二关键词从所述指针位置开始查找用于表示所述目标调试值所在的第一目标区域；
在所述第一目标区域中提取得到所述目标调试值。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
在所述调试文档中，根据第三关键词从所述指针位置开始查找用于表示所述调试初始值所在的第二目标区域；
在所述第二目标区域中提取得到所述调试初始值。
6.根据权利要求1至5任一项所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：
当所述目标调试选项为所述已调试状态时，在所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示所述目标调试选项已调试的第一提示信息；
当各所述待调试选项处于所述已调试状态时，在所述Digital Micrograph软件的显示界面上显示用于表示各所述待调试选项已调试的第二提示信息。
7.根据权利要求1至5任一项所述的方法，其特征在于，所述方法包括：
获取各所述待调试选项对应的满足所述第二预设条件的目标调试值；
将获取的各所述目标调试值显示于所述Digital Micrograph软件的显示界面。
8.一种基于Digital Micrograph的磁透镜调试装置，其特征在于，所述装置包括：
调试选项获取模块，用于获取Digital Micrograph软件的调试选项集 中被选取的多个待调试选项；所述调试选项集中的调试选项具有对应的顺序；
调试选项选择模块，用于在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项，得到目标调试选项；
调试模块，用于根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，得到目标调试值；
判断模块，用于判断所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值是否满足第二预设条件；其中，所述第二预设条件为所述调试初始值小于等于第一预设值，或者所述目标调试值小于等于所述调试初始值，或者所述目标调试值小于等于第二预设值；
处理模块，用于在所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值不满足第二预设条件，返回执行所述根据所述目标调试选项对磁透镜进行调试，直至得到满足所述第二预设条件的目标调试值；所述处理模块还用于在所述目标调试选项对应的调试初始值或所述目标调试值满足第二预设条件，将所述目标调试选项置为已调试状态，并从所述多个待调试选项中剔除，返回执行所述在所述多个待调试选项中选择顺序满足第一预设条件的待调试选项的步骤，直到各所述待调试选项处于所述已调试状态。
9.一种计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储有计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至7中任一项所述的方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至7中任一项所述的方法的步骤。
CN202211320131.9A 2022-10-26 2022-10-26 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质 Pending CN115391493A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211320131.9A CN115391493A (zh) 2022-10-26 2022-10-26 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202211320131.9A CN115391493A (zh) 2022-10-26 2022-10-26 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115391493A true CN115391493A (zh) 2022-11-25

Family

ID=84129002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202211320131.9A Pending CN115391493A (zh) 2022-10-26 2022-10-26 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115391493A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101782779A (zh) * 2010-03-30 2010-07-21 浙江中控自动化仪表有限公司 监控***的调试方法
CN103458312A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 深圳Tcl新技术有限公司 一种终端调试方法和装置
CN104539250A (zh) * 2014-12-12 2015-04-22 京信通信***（中国）有限公司 功率放大器的调试方法、装置和***
CN107079572A (zh) * 2014-09-17 2017-08-18 奥宝科技股份有限公司 电子束诱导等离子体（eBIP）在检验、测试、调试及表面改质中的应用
CN111882079A (zh) * 2020-06-28 2020-11-03 珠海格力电器股份有限公司 一种调试方法、装置及***
CN112478966A (zh) * 2020-11-26 2021-03-12 无锡英威腾电梯控制技术有限公司 电梯及其调试方法、调试平台以及调试终端
CN113110987A (zh) * 2020-01-13 2021-07-13 中车唐山机车车辆有限公司 一种动车组单节车厢制动调试方法及调试设备

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101782779A (zh) * 2010-03-30 2010-07-21 浙江中控自动化仪表有限公司 监控***的调试方法
CN103458312A (zh) * 2013-08-22 2013-12-18 深圳Tcl新技术有限公司 一种终端调试方法和装置
CN107079572A (zh) * 2014-09-17 2017-08-18 奥宝科技股份有限公司 电子束诱导等离子体（eBIP）在检验、测试、调试及表面改质中的应用
CN104539250A (zh) * 2014-12-12 2015-04-22 京信通信***（中国）有限公司 功率放大器的调试方法、装置和***
CN113110987A (zh) * 2020-01-13 2021-07-13 中车唐山机车车辆有限公司 一种动车组单节车厢制动调试方法及调试设备
CN111882079A (zh) * 2020-06-28 2020-11-03 珠海格力电器股份有限公司 一种调试方法、装置及***
CN112478966A (zh) * 2020-11-26 2021-03-12 无锡英威腾电梯控制技术有限公司 电梯及其调试方法、调试平台以及调试终端

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张登等: "核电数字化控制***PID参数自动寻优软件研制", 《核动力工程》 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10853364B2 (en) Direct table association in in-memory databases
US8185546B2 (en) Enhanced control to users to populate a cache in a database system
US11334474B2 (en) Fast change impact analysis tool for large-scale software systems
US20240126758A1 (en) Run-time performance of a database
JP2020123320A (ja) インデックスを管理するための方法、装置、設備及び記憶媒体
CN112181902A (zh) 数据库的存储方法、装置及电子设备
EP2951680B1 (en) Acquiring identification of an application lifecycle management entity associated with similar code
CN110222046B (zh) 列表数据的处理方法、装置、服务器和存储介质
CN114626092A (zh) 具有关联关系的多字段数据的脱敏方法、***、装置及计算机存储介质
CN111858581B (zh) 一种分页查询的方法、装置、存储介质和电子设备
CN112559346A (zh) 一种业务测试的方法及装置
CN115391493A (zh) 磁透镜调试方法和装置、计算机设备、存储介质
CN117033181A (zh) 一种测试用例生成的方法、装置及设备
CN115082999A (zh) 合影图像人物分析方法、装置、计算机设备和存储介质
CN112988810A (zh) 信息查找方法、装置及设备
CN113297230B (zh) 数据验证方法及装置
KR20200121105A (ko) 비식별화 과정의 중간 결과 데이터 분석 방법, 장치, 컴퓨터 프로그램 및 그 기록 매체
CN111274265B (zh) 基于多种检索方式融合检索的方法和装置
CN116563278B (zh) 检测结果显示方法、装置、计算机设备和存储介质
US8423532B1 (en) Managing data indexed by a search engine
CN116049327A (zh) 动态sql访问路径风险识别方法及装置
CN117909550A (zh) 查询方法、装置、计算机设备和存储介质
CN116893830A (zh) 应用***更新方法、装置、设备、存储介质和程序产品
CN117472852A (zh) 日志数据查询方法、装置、设备和介质
CN117633333A (zh) 兴趣点召回方法、装置、电子设备及存储介质

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination