CN115368776A - 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用 - Google Patents

墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用 Download PDF

Info

Publication number
CN115368776A
CN115368776A CN202111166481.XA CN202111166481A CN115368776A CN 115368776 A CN115368776 A CN 115368776A CN 202111166481 A CN202111166481 A CN 202111166481A CN 115368776 A CN115368776 A CN 115368776A
Authority
CN
China
Prior art keywords
refractive index
light
ink
film
adjusting film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111166481.XA
Other languages
English (en)
Inventor
李正吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd filed Critical Guangdong Juhua Printing Display Technology Co Ltd
Priority to CN202111166481.XA priority Critical patent/CN115368776A/zh
Publication of CN115368776A publication Critical patent/CN115368776A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/10—Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101—Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes

Abstract

本发明涉及一种墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用，其中，墨水包括如下质量百分比的各组分：基础树脂5wt％～70wt％、乙烯基单体5wt％～50wt％、ZrO2纳米晶体10wt％～90wt％以及分散调节剂0wt％～10wt％。将上述墨水制备成光折射率调节膜代替传统的光提取层，根据需求可以通过调节ZrO2纳米晶体的浓度实现调节光折射率调节膜折射率的功能，并可以据此匹配不同折射率的电极层材料，有利于降低波导损耗，使出光效率最大化，进而提高发光器件的外量子效率。

Description

墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用
技术领域
本发明涉及显示发光技术领域，特别是涉及一种墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用。
背景技术
有机发光显示技术和量子点发光显示技术是下一代高端显示制造技术的核心技术，具有许多技术优势，例如：
(1)具有高色彩纯度以及窄发射光谱带来的广色域；
(2)具有优秀的发光特性；
(3)采用无机发光材料在显示画面时避免残影；
(4)采用低驱动电压，低功耗；
(5)可通过印刷显示技术实现低成本制造等。
为满足下一代高端显示制造技术性能优化的需要，必须不断对有机发光器件(OLED)和量子点发光器件(QLED)进行结构优化，使OLED和QLED具有更高的使用效率和更长的使用寿命。其中，外量子效率(EQE或ηext)是提升OLED和QLED效率和使用寿命性能的关键。
外量子效率(EQE或ηext)可根据以下公式计算：
ηext＝ηint×ηoutcoupling-------(1)
这里，ηint是内量子效率，ηoutcopling则是出光效率。
其中，内量子效率是由复合率(ηrec)、内部激子产生效率
Figure BDA0003291515880000011
空穴电子电平衡指数γ的乘积决定。
传统技术中的OLED和QLED外量子效率都比较低，根据公式(1)可知，外量子效率低主要是因为出光效率受到了限制。而出光效率低下的主要原因是光在发射过程中要经过多个界面层，每个界面层是由不同的材料组成的，不同的材料具有不同的折射率，由于折射率不同造成了波导损耗。其中，波导损耗的大概原理为：当光经过两种不同折射率(n1、n2)的材料的界面，且n2>n1，而光在界面的入射角大于全反射角时，会发生全发射现象，这时光无法出射，如此便造成了波导损耗。波导损耗会严重降低OLED和QLED的出光效率，进而影响外量子效率。
发明内容
基于此，有必要提供一种能够提升出光效率和外量子效率的墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用。
本发明提供一种墨水，包括如下质量百分比的各组分：
Figure BDA0003291515880000021
在其中一个实施例中，由如下质量百分比的各组分组成：
Figure BDA0003291515880000022
在其中一个实施例中，包括如下质量百分比的各组分：
Figure BDA0003291515880000031
在其中一个实施例中，所述基础树脂为丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合；和/或，
所述乙烯基单体为乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合；和/或，
所述分散调节剂为聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。
在其中一个实施例中，所述ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。
在其中一个实施例中，所述墨水的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。
本发明还提供一种光折射率调节膜，是由上述任一实施例中所述的墨水制备得到的。
在其中一个实施例中，所述光折射率调节膜的折射率能够通过改变所述墨水中ZrO2纳米晶体的浓度进行调节。
本发明还提供一种光折射率调节膜的制备方法，包括如下步骤：
将各组分按如下质量百分比备料：
Figure BDA0003291515880000032
将各组分混合溶解，成膜，固化，形成光折射率调节膜。
在其中一个实施例中，成膜方法为喷墨打印成膜或刮涂成膜。
在其中一个实施例中，固化方法为紫外光光照固化或加热固化。
在其中一个实施例中，所述基础树脂为丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合；和/或，
所述乙烯基单体为乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合；和/或，
所述分散调节剂为聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。
在其中一个实施例中，所述ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。
在其中一个实施例中，所述各组分混合溶解后的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。
本发明还提供一种发光器件，包括第一电极层、发光功能层、第二电极层以及如上述任一实施例中所述的光折射率调节膜，所述第一电极层、所述发光功能层、所述第二电极层在厚度方向依次层叠设置，所述光折射率调节膜设置于所述第二电极层之上，且其在所述光折射率调节膜上的正投影能够完全盖住所述发光功能层。
在其中一个实施例中，所述光折射率调节膜的厚度为10nm～5000nm。
在其中一个实施例中，所述光折射率调节膜对波长为610nm的可见光的透过率高于90％，对波长为460nm的可见光的透过率高于80％。
在其中一个实施例中，还包括封装层，所述封装层将所述第一电极层、所述发光功能层、所述第二电极层以及所述光折射率调节膜封装在内。
在其中一个实施例中，所述光折射率调节膜与所述封装层之间还设置有保护层。
通过将基础树脂、乙烯基单体和ZrO2纳米晶体混合制备出墨水，进而通过成膜、固化的方法制备出光折射率调节膜，上述光折射率调节膜可以代替传统的光提取层，根据发光器件的设计需求可以通过调节ZrO2纳米晶体的浓度实现调节光折射率调节膜折射率的目的，并可以据此匹配不同折射率的电极层材料，有利于降低波导损耗，使出光效率最大化，进而提高发光器件的外量子效率。
附图说明
图1为一实施例中的发光器件的结构示意图。
图2为另一实施例中的发光器件的结构示意图。
附图标记：
10：发光器件；110：基底；120：第一电极层；130：发光功能层；140：第二电极层；150：光折射率调节膜；160：封装层；161：第一无机层；162：第一有机层；163：第二无机层；170：保护层。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“设于”、“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
本发明中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
本发明一实施例提供了一种墨水，包括如下质量百分比的各组分：
Figure BDA0003291515880000061
优选地，墨水包括如下质量百分比的各组分：
Figure BDA0003291515880000062
其中，基础树脂可以但不限于是丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合。进一步地，丙烯酸树脂可以但不限于是丙全树脂以及苯丙树脂等。
在一个具体的示例中，乙烯基单体可以但不限于是乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合。
将基础树脂、乙烯基单体和ZrO2纳米晶体混合，能够制备出墨水，根据发光器件的设计需求，可以采用不同的ZrO2纳米晶体浓度制备出不同折射率的墨水。
为了提高ZrO2纳米晶体在溶液中的分散性，上述墨水还可以加入分散调节剂。在一个具体的示例中，分散调节剂可以但不限于是聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。进一步地，分散调节剂为聚醚修饰的硅氧烷。在制备墨水的基础树脂、乙烯基单体和ZrO2纳米晶体混合溶液中加入聚醚修饰的硅氧烷，能够降低溶液的表面张力，使ZrO2纳米晶体更加均匀地分散在混合溶液中。
在一个具体的示例中，ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。在该范围内，ZrO2纳米晶体能够很好的分散在基础树脂和乙烯基单体形成的混合溶液中。其可以是均一的纳米晶体颗粒，如尺寸为5nm的纳米晶体颗粒、6nm的纳米晶体颗粒、7nm的纳米晶体颗粒、8nm的纳米晶体颗粒、9nm的纳米晶体颗粒、10nm的纳米晶体颗粒，也可以是多尺寸的纳米晶体的混合物，如5nm、6nm、7nm、8nm、9nm以及10nm的纳米晶体颗粒中的两种或两种以上尺寸的纳米晶体颗粒的混合。
在一个具体的示例中，墨水的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。粘度和表面张力的大小会影响ZrO2纳米晶体在溶液中的分散性能，进而影响形成的墨水的性能稳定性。如果粘度和表面张力过高，ZrO2纳米晶体不能均匀分散，如果粘度和表面张力过低，形成的基础树脂、乙烯基单体和ZrO2纳米晶体混合溶液过稀，不利于后期成膜和固化。
可以理解地，墨水可以仅由基础树脂、乙烯基单体、ZrO2纳米晶体以及分散调节剂组成。
可以理解地，墨水组成中除了上述的基础树脂、乙烯基单体、ZrO2纳米晶体以及分散调节剂外，还可以根据工艺需要添加助剂。例如，消泡剂、流平剂、表面张力调节剂等。
本发明一实施例中，还提供了一种光折射率调节膜，其是由上述任一示例中的墨水制备得到的。上述墨水可以作为墨水制作光折射率调节膜，该光折射率调节膜可以代替传统的光提取层，制作得到的光折射率调节膜可广泛应用于发光器件中，可以提高发光器件的出光效率，进而提升发光器件的外量子效率。
具体地，传统的光提取层通常由有机材料构成，材料的选择决定了光提取层的折射率，通过选择不同的材料来调节光提取层的折射率，这种方式可选范围有限，极大地限制了发光器件出光效率的性能优化能力。通过将本发明中的光折射率调节膜替代传统的光提取层，光折射率调节膜根据发光器件的设计需求可以不断调整ZrO2纳米晶体的浓度实现调节光折射率调节膜折射率的功能，据此可以匹配不同折射率的位于出光侧的电极层材料，实现优化发光器件出光效率的目的，有利于提升发光器件的外量子效率，使发光器件具有更高的使用效率和更长的使用寿命，还具有制作工艺简单，适用性广等优点。
通过改变墨水中ZrO2纳米晶体的浓度，可以调节光折射率调节膜的折射率。根据出光侧电极层的折射率，可以通过调整ZrO2纳米晶体的浓度制备出与出光侧电极层的折射率相适配的光折射率调节膜，减小波导损耗，提高出光效率，进而提高发光器件的外量子效率。
本发明一实施例还提供了一种光折射率调节膜的制备方法，包括如下步骤：
将各组分按如下质量百分比备料：
Figure BDA0003291515880000081
将各组分混合溶解，成膜，固化，形成光折射率调节膜。
优选地，将各组分按如下质量百分比备料：
Figure BDA0003291515880000082
Figure BDA0003291515880000091
可以理解地，制备光折射率调节膜时，可以只按上述四种组分备料，也可以根据工艺需要添加消泡剂、流平剂、表面张力调节剂等其他助剂。
进一步地，先将基础树脂、乙烯基单体混合溶解，再加入ZrO2纳米晶体。为了进一步提高ZrO2纳米晶体在混合溶液中的分散性能，还可以加入分散调节剂。
传统的光提取层通常采用真空蒸镀的方法成膜，即在真空条件下，通过加热蒸发的方式将镀膜材料加热气化，气化气体扩散至待蒸镀材料表面形成镀膜的工艺方法。真空蒸镀的成膜工艺中，蒸镀材料的利用率只有不到40％，材料利用率低，原材料消耗大，造成生产成本高昂。而本发明中提供的光折射率调节膜的制备方法，采用的成膜方法为喷墨打印成膜或刮涂成膜。优选地，采用喷墨打印成膜的方式，对材料的利用率可以达到90％以上，可以大幅减少材料损耗，降低生产制造成本。
在一个具体的示例中，固化方法为紫外光光照固化或加热固化。在紫外光或加热条件下可以使含有ZrO2纳米晶体的混合溶液快速固化。
在一个具体的示例中，基础树脂可以但不限于是丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合。进一步地，丙烯酸树脂可以但不限于是丙全树脂以及苯丙树脂等。
在一个具体的示例中，乙烯基单体可以但不限于是乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合。
在一个具体的示例中，分散调节剂可以但不限于是聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。加入分散调节剂有利于提高ZrO2纳米晶体在混合溶液中的分散性能，使ZrO2纳米晶体分散能加均匀，制备得到的光折射率调节膜结构更均匀，性能更稳定。
在一个具体的示例中，ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。在该范围内，ZrO2纳米晶体能够很好的分散在基础树脂和乙烯基单体形成的混合溶液中。
在一个具体的示例中，各组分混合溶解后的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。在该粘度和表面张力范围内，有利于ZrO2纳米晶体均匀分散。
如图1所示，本发明一实施例还提供一种发光器件10，包括在基底110上设置第一电极层120、发光功能层130、第二电极层140以及如上述任一示例中的光折射率调节膜150，第一电极层120、发光功能层130、第二电极层140在厚度方向依次层叠设置，光折射率调节膜150设置于第二电极层140之上，且其在发光功能层130上的正投影能够完全盖住发光功能层130。
可理解地，第二电极层140位于发光功能层130的出光侧，发光功能层130发出的光依次经过第二电极层140以及光折射率调节膜150之后射出，根据第二电极层140的折射率，调整ZrO2纳米晶体的浓度，使光折射率调节膜150的折射率与第二电极层140的折射率更加适配，有利于减少光出射过程中的波导损耗，提高发光器件10的出光效率，进而提升发光器件10的外量子效率，使发光器件10具有更高的使用效率和更长的使用寿命。
可选地，第一电极层120和第二电极层140可以但不限于是ITO、IZO、镁银合金、金属银、镱银复合电极、镱美银合金以及铜银复合电极中的任意一种。发光功能层130可以但不限于是OLED或QLED。
在一个具体的示例中，光折射率调节膜150的厚度为10nm～5000nm。进一步地，光折射率调节膜150的厚度为20nm～1000nm。光折射率调节膜150的厚度可以根据具体的发光器件10的设计需求进行选择，该厚度范围较广，可适用于不同场合和不同需求的发光器件10中。在此厚度范围内，可保证光线正常透过光折射率调节膜150，避免因光折射率调节膜150的厚度过大影响光的透过率。
在一个具体的示例中，光折射率调节膜150对波长为610nm的可见光的透过率高于90％，对波长为460nm的可见光的透过率高于80％。光折射率调节膜150的可见光透过率高，出光效果好，可以很方便地应用于顶发射发光器件结构中，提高显示面板开口率，进而改善显示面板的使用寿命。
在一个具体的示例中，发光器件10还包括封装层160，封装层160将第一电极层120、发光功能层130、第二电极层140以及光折射率调节膜150封装在内。封装层160的材质可以为金属氧化物以及含硅化合物的混合物，如可以但不限于是SiNx、SiONx以及AlOx的混合物。进一步地，封装层160具体还可以分为第一无机层161、第一有机层162以及第二无机层163，第一无机层161、第一有机层162以及第二无机层163在厚度方向依次层叠设置。封装方法可以但不限于是采用气相沉积或溅射工艺。
可理解地，如图2所示，在另一实施例中，光折射率调节膜150与封装层160之间还可以设置有保护层170。保护层170设置于第二电极层140和光折射率调节膜150之上，可以完全地覆盖住第一电极层120、发光功能层130、第二电极层140以及光折射率调节膜150，减少在制作封装层160的制作过程中对发光器件造成的损害。进一步地，保护层170可以由有机材料构成，可以是一种有机保护层。
以下结合具体实施例对本发明的墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用作详细说明，以下具体实施例中，若无特殊说明，所有原料均可来源于市售。
按下表1对实施例1～实施例8、对比例1～对比例5进行备料后，将各组分混合溶解形成墨水，在石英基板上通过喷墨打印成膜，在紫外光光照下固化，形成厚度为100nm的光折射率调节膜。并进一步制作成结构如图1所示的绿光QLED器件，各实施例与对比例的器件之间区别在于制备光折射率调节膜采用的墨水中各组分类型、质量百分比或ZrO2纳米晶体尺寸不同，其他均相同。
表1
Figure BDA0003291515880000121
Figure BDA0003291515880000131
对上述形成的光折射率调节膜的光折射率、610nm波长可见光透过率、460nm波长可见光透过率以及发光器件的外量子效率进行测试，测试结果见表2，其中具体测试方法如下：
1.光折射率调节膜的光学性质测试：
光折射率测试方法：用光学椭偏仪测量并记录530nm可见光的折射率。
610nm及460nm波长可见光透过率测试方法：用PL测量仪测量相应波长的透过率。
2.发光器件外量子效率测试：提供恒定电流，使器件发光亮度达到100nit，测量其发光效率。
表2
Figure BDA0003291515880000132
Figure BDA0003291515880000141
由表2可见，对实施例6、实施例7、实施例8进行比较，调整ZrO2纳米晶体的浓度可以调节光折射率调节膜的光折射率。
实施例1～实施例8与对比例1～对比例4相比，实施例1～实施例8制备得到的光折射率调节膜具有更高的折射率，进一步制备得到的发光器件外量子效率更高。
实施例1～实施例8与对比例5相比，发光器件中设置按照实施例1～实施例8的方法制备光折射率调节膜，有利于提高发光器件的外量子效率。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (19)

1.一种墨水，其特征在于，包括如下质量百分比的各组分：
Figure FDA0003291515870000011
2.根据权利要求1所述的墨水，其特征在于，由如下质量百分比的各组分组成：
Figure FDA0003291515870000012
3.根据权利要求1所述的墨水，其特征在于，包括如下质量百分比的各组分：
Figure FDA0003291515870000013
4.根据权利要求1～3任一项所述的墨水，其特征在于，所述基础树脂为丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合；和/或，
所述乙烯基单体为乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合；和/或，
所述分散调节剂为聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。
5.根据权利要求1～3任一项所述的墨水，其特征在于，所述ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。
6.根据权利要求1～3任一项所述的墨水，其特征在于，所述墨水的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。
7.一种光折射率调节膜，其特征在于，是由权利要求1～6中任一项所述的墨水制备得到的。
8.根据权利要求7所述的光折射率调节膜，其特征在于，所述光折射率调节膜的折射率能够通过改变所述墨水中ZrO2纳米晶体的浓度进行调节。
9.一种光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
将各组分按如下质量百分比备料：
Figure FDA0003291515870000021
将各组分混合溶解，成膜，固化，形成光折射率调节膜。
10.根据权利要求9所述的光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，成膜方法为喷墨打印成膜或刮涂成膜。
11.根据权利要求9所述的光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，固化方法为紫外光光照固化或加热固化。
12.根据权利要求9～11任一项所述的光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，所述基础树脂为丙烯酸树脂以及环氧树脂中的一种或几种的混合；和/或，
所述乙烯基单体为乙烯以及苯乙烯中的一种或几种的混合；和/或，
所述分散调节剂为聚醚修饰的硅氧烷、聚丙烯酰胺、聚丙烯酸盐、铝酸盐以及钠盐中的一种或几种的混合。
13.根据权利要求9～11任一项所述的光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，所述ZrO2纳米晶体的尺寸为5nm～10nm。
14.根据权利要求9～11任一项所述的光折射率调节膜的制备方法，其特征在于，所述各组分混合溶解后的粘度为3cp～15cp，表面张力为20dyne/cm～40dyne/cm。
15.一种发光器件，其特征在于，包括第一电极层、发光功能层、第二电极层以及如权利要求7～8任一项所述的光折射率调节膜，所述第一电极层、所述发光功能层、所述第二电极层在厚度方向依次层叠设置，所述光折射率调节膜设置于所述第二电极层之上，且其在所述光折射率调节膜上的正投影能够完全盖住所述发光功能层。
16.根据权利要求15所述的发光器件，其特征在于，所述光折射率调节膜的厚度为10nm～5000nm。
17.根据权利要求16所述的发光器件，其特征在于，所述光折射率调节膜对波长为610nm的可见光的透过率高于90％，对波长为460nm的可见光的透过率高于80％。
18.根据权利要求15～17任一项所述的发光器件，其特征在于，还包括封装层，所述封装层将所述第一电极层、所述发光功能层、所述第二电极层以及所述光折射率调节膜封装在内。
19.根据权利要求15～17任一项所述的发光器件，其特征在于，所述光折射率调节膜与所述封装层之间还设置有保护层。
CN202111166481.XA 2021-09-30 2021-09-30 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用 Pending CN115368776A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111166481.XA CN115368776A (zh) 2021-09-30 2021-09-30 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111166481.XA CN115368776A (zh) 2021-09-30 2021-09-30 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115368776A true CN115368776A (zh) 2022-11-22

Family

ID=84060313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111166481.XA Pending CN115368776A (zh) 2021-09-30 2021-09-30 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115368776A (zh)

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102639432A (zh) * 2009-12-02 2012-08-15 3M创新有限公司 官能化的氧化锆纳米粒子及由其制备的高折射率膜
US20130050809A1 (en) * 2011-08-24 2013-02-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of preparing high refractive nanoparticles, nanoparticles prepared by the method, and photonic crystal device using the nanoparticles
CN103633109A (zh) * 2012-08-29 2014-03-12 昆山维信诺显示技术有限公司 具有高光取出率的有机电致发光显示器件及其制备方法
US20140264311A1 (en) * 2011-10-13 2014-09-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Light-emitting component and method for producing a light-emitting component
CN106277049A (zh) * 2015-06-08 2017-01-04 北京化工大学 一种透明纳米氧化锆液相分散体及其制备方法与应用
CN106268394A (zh) * 2008-12-04 2017-01-04 堺化学工业株式会社 氧化锆分散液及其制备方法以及含有该氧化锆分散液的树脂组合物
CN108529674A (zh) * 2018-07-01 2018-09-14 北京化工大学 一种高分散纳米氧化锆颗粒及其透明分散体的制备方法
CN110462869A (zh) * 2017-02-20 2019-11-15 卡帝瓦公司 用于具有增强的光输出耦合的发光器件的喷墨印刷***和技术
CN112499678A (zh) * 2020-11-23 2021-03-16 山东国瓷功能材料股份有限公司 纳米氧化锆粉体、其制备方法及所得分散液、光学膜
CN113178528A (zh) * 2021-04-07 2021-07-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板、显示装置
CN113383272A (zh) * 2019-02-05 2021-09-10 脸谱科技有限责任公司 具有高折射率的可固化制剂及其在使用纳米压印光刻的表面浮雕光栅中的应用

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106268394A (zh) * 2008-12-04 2017-01-04 堺化学工业株式会社 氧化锆分散液及其制备方法以及含有该氧化锆分散液的树脂组合物
CN102639432A (zh) * 2009-12-02 2012-08-15 3M创新有限公司 官能化的氧化锆纳米粒子及由其制备的高折射率膜
CN104495921A (zh) * 2009-12-02 2015-04-08 3M创新有限公司 官能化的氧化锆纳米粒子及由其制备的高折射率膜
US20130050809A1 (en) * 2011-08-24 2013-02-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of preparing high refractive nanoparticles, nanoparticles prepared by the method, and photonic crystal device using the nanoparticles
US20140264311A1 (en) * 2011-10-13 2014-09-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Light-emitting component and method for producing a light-emitting component
CN103633109A (zh) * 2012-08-29 2014-03-12 昆山维信诺显示技术有限公司 具有高光取出率的有机电致发光显示器件及其制备方法
CN106277049A (zh) * 2015-06-08 2017-01-04 北京化工大学 一种透明纳米氧化锆液相分散体及其制备方法与应用
CN110462869A (zh) * 2017-02-20 2019-11-15 卡帝瓦公司 用于具有增强的光输出耦合的发光器件的喷墨印刷***和技术
CN108529674A (zh) * 2018-07-01 2018-09-14 北京化工大学 一种高分散纳米氧化锆颗粒及其透明分散体的制备方法
CN113383272A (zh) * 2019-02-05 2021-09-10 脸谱科技有限责任公司 具有高折射率的可固化制剂及其在使用纳米压印光刻的表面浮雕光栅中的应用
CN112499678A (zh) * 2020-11-23 2021-03-16 山东国瓷功能材料股份有限公司 纳米氧化锆粉体、其制备方法及所得分散液、光学膜
CN113178528A (zh) * 2021-04-07 2021-07-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板、显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2129741B1 (de) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON LEUCHTSTOFFEN BESTEHEND AUS ORTHOSILIKATEN FÜR pcLEDs
US11584862B2 (en) Ink composition, film, and display
CN108598273A (zh) 基于银纳米线电极的高效柔性量子点发光二极管及其制备
KR102148154B1 (ko) 투명 전도성 막 코팅 조성물, 투명 전도성 막 및 투명 전도성 막의 제조 방법
US11888098B2 (en) Composition, film, laminated structure, light-emitting device, and display
CN112786810B (zh) 显示面板
Jiao et al. 61‐2: Weakening Micro‐Cavity Effects in White Top‐Emitting WOLEDs with Semitransparent Metal Top Electrode
CN209182545U (zh) 一种量子点玻璃导光板和背光模组
KR101735445B1 (ko) 고굴절 및 저굴절 유/무기 하이브리드 재료를 이용한 oled 소자용 적층체 및 oled 소자의 제조방법, 이에 의해 제조되는 oled 소자
CN115368776A (zh) 墨水、光折射率调节膜及其制备方法、应用
WO2024021759A1 (zh) 量子点发光薄膜、制备及其在白光mini-led器件中的应用
CN110989296A (zh) 量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置
CN109449309A (zh) 一种oled器件、oled显示面板及oled显示装置
TWI818279B (zh) 固體聚合物組成物、自支撐膜及發光裝置
CN110429198B (zh) 光提取材料、光提取层及其制备方法和应用
TWI591864B (zh) 發光裝置及其製備方法
CN211719621U (zh) 一种量子点器件及显示装置
Zhang et al. Bulk‐Size and Highly Transparent Composite Phosphor for NIR Spectroscopy
CN111384270B (zh) 量子点发光二极管的制备方法
CN113410410B (zh) 一种提高硅基oled发光效率的器件及其制备方法
Yuan et al. Hole transport layer free perovskite light-emitting diodes with high-brightness and air-stability based on solution-processed CsPbBr3-Cs4PbBr6 composites films
WO2021248708A1 (zh) 量子点油墨及显示终端
CN103441222A (zh) 基于纳米硅薄膜复合阳极的微腔式oled及其制作方法
TWI706025B (zh) 錳鈦共活化錫酸鎂尖晶石螢光粉體的製備方法
CN111384306B (zh) 量子点发光二极管的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination