CN115008592A - 炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 - Google Patents
炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN115008592A CN115008592A CN202210376820.5A CN202210376820A CN115008592A CN 115008592 A CN115008592 A CN 115008592A CN 202210376820 A CN202210376820 A CN 202210376820A CN 115008592 A CN115008592 A CN 115008592A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- temperature
- unit
- less
- glazed
- stoneware
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229910052572 stoneware Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 52
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 33
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 22
- 238000010791 quenching Methods 0.000 claims abstract description 22
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 claims abstract description 21
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 14
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 7
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 9
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000003483 aging Methods 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 229910001570 bauxite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000007688 edging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004537 pulping Methods 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B15/00—General arrangement or layout of plant ; Industrial outlines or plant installations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/24—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for curing, setting or hardening
- B28B11/243—Setting, e.g. drying, dehydrating or firing ceramic articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B17/00—Details of, or accessories for, apparatus for shaping the material; Auxiliary measures taken in connection with such shaping
- B28B17/0063—Control arrangements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B17/00—Details of, or accessories for, apparatus for shaping the material; Auxiliary measures taken in connection with such shaping
- B28B17/0063—Control arrangements
- B28B17/0081—Process control
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Abstract
本发明公开了一种炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，涉及陶瓷砖生产技术领域。其中，炻瓷质釉面砖生产***包括依次连接的制粉单元、成型单元、干燥单元、釉料单元、烧成单元、水冷单元和深加工单元；所述的控制方法包括：取风急冷段出口、水冷单元出口的釉面砖，分别测试其中心弯曲度Ba和Bw；然后根据其情况对制粉单元、釉料单元、烧成单元进行调节。基于本发明的控制方法，可快速、有效地找到变形度过高的原因，进而通过及时调控降低炻瓷质釉面砖的变形度，提升成品率。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷砖生产技术领域，尤其涉及一种炻瓷质釉面砖生产***的 控制方法。
背景技术
随着能源压力的提升，以及环保形势的要求。陶瓷砖行业的产品分布出现 了较大的变化。其中一个主要的变化是原先的瓷质釉面砖(吸水率＜0.1％)逐 渐转变为炻瓷质的陶瓷砖(吸水率为0.1～2％)。然而在变更过程中，原有低吸水 率产线的控制出现了较多的问题：其中一个显著的问题是釉面砖的变形问题， 炻瓷质釉面砖在烧成出窑后变形较大，直接进入后续加工线(磨边、抛光)时， 容易出现破裂、抛光效果差等缺陷；成品炻瓷质釉面砖在储存一段时间后变形 值增大，导致合格率降低等。造成这种变形的原因是多样的，如坯釉适配性、 窑炉温度控制、冷却曲线控制等等。现有生产中，技术人员往往难以有效、快速判别应调节何参数，如何调节。另外，经发明人试验，对于某些参数的调整， 瓷质釉面砖的调节与炻瓷质釉面砖的调节方向往往相反，这对炻瓷质釉面砖的 稳定生产提出了很大的挑战。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于，提供一种炻瓷质釉面砖生产***的控制 方法，其可有效提升对炻瓷质釉面砖变形的控制，提升成品率。
为了解决上述技术问题，本发明公开了一种炻瓷质釉面砖生产***的控制 方法，所述炻瓷质釉面砖生产***包括依次连接的制粉单元、成型单元、干燥 单元、釉料单元、烧成单元、水冷单元和深加工单元；所述烧成单元包括烧成 窑炉，所述烧成窑炉包括氧化段、高温段、缓冷段和风急冷段；
所述控制方法包括：
取风急冷段出口的釉面砖，测试其中心弯曲度Ba；
取水冷单元出口的釉面砖，测试其中心弯曲度Bw；
若Ba＜0且Bw＜0，则对制粉单元进行调节；若Ba＜0且Bw≥0，则对制粉 单元和/或釉料单元进行调节；
若Ba≥0且Bw≥0，则对烧成单元进行调节或直接将釉面砖进入深加工单元；
若Ba≥0且Bw＜0，则对烧成单元进行调节。
作为上述技术方案的改进，测试釉面砖中心弯曲度时，先将釉面砖采用沸 水煮6～10h，然后测试。
作为上述技术方案的改进，若Ba＜0且Bw＜0，则降低粉料的烧成温度，其 降低量δ为：
δ＝k×|Bw-Ba|
其中，δ为粉料的烧成温度降低量，Bw为水冷单元出口处釉面砖的中心弯 曲度，Ba为风急冷段出口处釉面砖的中心弯曲度；k为常数，其取值为10～15。
作为上述技术方案的改进，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba≥1.5，则对釉料 单元进行调节；
若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba＜1.5，则对釉料单元或制粉单元进行调节。
作为上述技术方案的改进，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba≥1.5，则提升 釉料的烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温度≤25℃。
作为上述技术方案的改进，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba＜1.5，则降低 釉料的烧成温度和/或提升粉料的烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温 度为20～40℃。
作为上述技术方案的改进，若Ba≥0，0＜Bw≤5％，则釉面砖直接进入深加工 单元；若Ba≥0，Bw＞5％，则烧成单元进行调节。
作为上述技术方案的改进，若Ba≥0，Bw＜0，且(Ba-Bw)/Ba≥2，则提高高 温段的辊上温度，降低高温段的辊下温度。
作为上述技术方案的改进，若Ba≥0，Bw＜0，且1≤(Ba-Bw)/Ba＜2，则提 高温段的辊上温度，保持高温段的辊下温度不变。
作为上述技术方案的改进，若Ba≥0，Bw＜0，且(Ba-Bw)/Ba＜1，则降低 高温段的辊上温度，提高高温段的辊下温度。
实施本发明，具有如下有益效果：
本发明基于对炻瓷质釉面砖后期变形的分析，提出了炻瓷质釉面砖生产系 统的控制方法。具体的，本发明先测量了风急冷段出口、水冷单元出口炻瓷质 釉面砖的中心弯曲度，然后基于两者的情况对各种情况进行分类，然后对相应 的单元进行调控。基于本发明的控制方法，可快速、有效地找到变形度过高的 原因，进而通过及时调控降低炻瓷质釉面砖的变形度，提升成品率。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合具体实施方式 对本发明作进一步地详细描述。
作为本发明的第一个方面，本发明提供了一种炻瓷质釉面砖的生产***， 其包括依次连接的制粉单元、成型单元、干燥单元、釉料单元、烧成单元、水 冷单元和深加工单元。具体的，制粉单元主要用于将各种原料混合、球磨制浆、 喷雾干燥、陈腐以得到满足生产需求的粉料。成型单元用于将制粉单元得到的 粉料压制成坯体。干燥单元用于将坯体干燥；釉料单元用于制备釉料，并将釉 料施加到坯体上，以得到用于烧成的坯料。烧成单元用于将坯料烧成为釉面砖。 具体的，烧成单元包括烧成窑炉，烧成窑炉包括氧化段、高温段、缓冷段和风 急冷段；坯料依次经过氧化段、高温段、缓冷段和风急冷段，在风急冷段出口 的釉面砖的温度约80～150℃，进一步经过水冷单元进行冷却后，釉面砖的温度 约30～50℃。具体的，水冷单元可为对釉面砖进行浸水处理，也可为进行淋水处 理，但不限于此。深加工单元主要用于对水冷单元冷却后的釉面砖进行磨边、 抛光，但不限于此。
作为本发明的第二个方面，本发明提供一种炻瓷质釉面砖的中心弯曲度的 测试方法，其测试对象为烧成窑炉的风急冷段出口的釉面砖、水冷单元出口的 釉面砖。此外，还需要说明的是，本发明中的炻瓷质釉面砖的吸水率为0.5～3％ (具体测试方法参GB/T3810.3)。其中，中心弯曲度的测试方法可参见GB/T 3810.2。优选的，在测试前，将釉面砖采用沸水煮6～10h，以充分释放积累应力， 提升测试准确性，为后期对生产***的控制提供更加准确的数据。
作为本发明的第三个方面，本发明提供了一种上述的炻瓷质釉面砖生产系 统的控制方法，其包括：
(1)取风急冷段出口的釉面砖，测试其中心弯曲度Ba；取水冷单元出口的 釉面砖，测试其中心弯曲度Bw；
具体的，中心弯曲度的测试方法参考GB/T 3810.2。优选的，在测试前，将 釉面砖水煮6～10h，然后测试。
(2)根据测试结果对炻瓷质釉面砖生产***进行调节；
具体的，若Ba＜0且Bw＜0，则对制粉单元进行调节；若Ba＜0且Bw≥0， 则对制粉单元和/或釉料单元进行调节；
其中，对制粉单元的调节是指对制粉单元中原料的配方进行调节；对釉料 单元的调节是指对釉料的配方进行调节。
若Ba≥0且Bw≥0，则对烧成单元进行调节或直接将釉面砖进入深加工单元；
若Ba≥0且Bw＜0，则对烧成单元进行调节。
其中，对烧成单元的调节是指对烧成窑炉中不同位置的温度进行调节。其 中，不同位置可为位于不同段的不同位置，也可为位于同一段的不同位置，还 可为位于同一平面上的不同高度的不同位置。
基于以上控制方法，可快速地确定对生产***的哪个单元进行调节，进而 即使调控降低炻瓷质釉面砖的变形度，并保证其在后期具备合理的变形量，提 升炻瓷质釉面砖的成品率。
具体的，在本发明的一个实施例中，若Ba＜0且Bw＜0，则降低制粉单元中 粉料(即坯体配方)的烧成温度，其降低量δ为：
δ＝k×|Bw-Ba|
其中，δ为粉料的烧成温度降低量，Bw为水冷单元出口处釉面砖的中心弯 曲度，Ba为风急冷段出口处釉面砖的中心弯曲度；k为常数，其取值为10～15。
具体的，在本发明的一个实施例之中，若Ba＜0且Bw≥0，则对(Ba-Bw)/Ba进行判断，当(Ba-Bw)/Ba≥1.5，则对釉料单元进行调节；具体的，提升釉料的 烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温度≤25℃。优选的，将粉料的烧成 温度-釉料的烧成温度维持为15～20℃。需要说明的是，粉料的烧成温度是采用 TG-DSC法测试得到，其测试气氛为空气，升温速率为2℃/min。
当(Ba-Bw)/Ba＜1.5，则对釉料单元或制粉单元进行调节。具体的为降低釉 料的烧成温度和/或提升粉料的烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温度 为20～40℃。
具体的，在本发明的一个实施例之中，若Ba≥0，0＜Bw≤5％，则釉面砖直接 进入深加工单元进行深加工。此时釉面砖的变形度不会影响其后续的深加工工 艺。若Ba≥0，Bw＞5％，则烧成单元进行调节。具体的，可调节烧成窑炉中的风 急冷段，更具体的降低风急冷段的流量，降低风急冷段的冷风流量后，应使得 Bw≤3％。
具体的，在本发明的一个实施例之中，若Ba≥0，Bw＜0，则进一步对(Ba-Bw) /Ba进行判断。具体判断后的调节过程如下：
当(Ba-Bw)/Ba≥2时，则提高高温段的辊上温度，降低高温段的辊下温度。 具体的，辊上温度提高量为k1(Ba-Bw)，辊下温度降低量为k2(Ba-Bw)；其中 k1为700～1000，k2为250～400。
当1≤(Ba-Bw)/Ba＜2时，则提高温段的辊上温度，保持高温段的辊下温度 不变。辊上温度的提高量为k3(Ba-Bw)，其中，k3为400～600。
当(Ba-Bw)/Ba＜1时，则降低高温段的辊上温度，提高高温段的辊下温度； 具体的，辊下温度的提高为k4(Ba-Bw)，其中，k4为500～660。
需要说明的是，在烧成窑炉的高温段，一般在传动辊棒的上方和下方均布 置燃烧喷嘴，通过控制喷嘴的燃气量、助燃空气量等，即可实现对于辊上温度 和辊下温度的控制。还需要说明的是，本发明中所指的辊上温度是指传动辊棒 上方5～10mm距离处的温度，辊下温度是指传动辊棒下方5～10mm距离处的温 度。
基于本发明的控制方法，可迅速找到变形度过大的原因，并根据变形量的 情况对相应单元的参数做出合理的调节，从而有效、及时调控炻瓷质釉面砖的 变形度，使得成品炻瓷质釉面砖维持一个合理的变形度，进而在后期放置后， 变形度也维持合理的水平，有效提升成品率。
下面以具体实施例对本发明进行进一步的说明：
实施例1
本实施例提供一种炻瓷质釉面砖生产***的控制方法。具体的，取风急冷 段出口的釉面砖、水冷单元出口的釉面砖，水煮8h后测定其中心弯曲度，分别 为：Ba＝3.4％，Bw＝-1.2％；
Ba≥0，Bw＜0，且(Ba-Bw)/Ba＝(3.4％+1.2％)/3.4％＝1.35；因此，提高高 温段辊上温度，提高量为300(Ba-Bw)＝500×(3.4％+1.2％)＝23℃。
调整后，稳定运行1h，然后取风急冷段出口的釉面砖、水冷单元出口的釉 面砖，水煮8h后测定其中心弯曲度，分别为：Ba＝5.6％，Bw＝3.2％；可进入深加 工单元。深加工后，不进行水煮，测试其中心弯曲度为2.3％，进入仓库，放置 5d后不进行水煮，测试中心弯曲度为0.2％，符合GB/T 4100-2015的规定。
实施例2
本实施例提供一种炻瓷质釉面砖生产***的控制方法。具体的，取风急冷 段出口的釉面砖、水冷单元出口的釉面砖，水煮8h后测定其中心弯曲度，分别 为：Ba＝-2.4％，Bw＝-3.8％；
Ba＜0，Bw＜0；因此，降低粉料的烧成温度，其具体的降低量为 δ＝k×|Bw-Ba|＝1400×|-3.8％+2.4％|＝19.6℃。具体可添加少量的含钙原料(如重钙)， 适当降低配方中粘土类原料的含量(如高岭土、铝矾石等)。
调整配方2天后，在风急冷段出口的釉面砖、水冷单元出口的釉面砖，水 煮8h后测定其中心弯曲度，分别为：Ba＝4.3％，Bw＝2.6％；可进入深加工单元。 深加工后，不进行水煮，测试其中心弯曲度为2.1％，进入仓库，放置5d后不进 行水煮，测试中心弯曲度为0.4％，符合GB/T 4100-2015的规定。
以上所述是发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术 人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些 改进和润饰也视为本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，所述炻瓷质釉面砖生产***包括依次连接的制粉单元、成型单元、干燥单元、釉料单元、烧成单元、水冷单元和深加工单元；所述烧成单元包括烧成窑炉，所述烧成窑炉包括氧化段、高温段、缓冷段和风急冷段；
所述控制方法包括：
取风急冷段出口的釉面砖，测试其中心弯曲度Ba；
取水冷单元出口的釉面砖，测试其中心弯曲度Bw；
若Ba＜0且Bw＜0，则对制粉单元进行调节；若Ba＜0且Bw≥0，则对制粉单元和/或釉料单元进行调节；
若Ba≥0且Bw≥0，则对烧成单元进行调节或直接将釉面砖进入深加工单元；
若Ba≥0且Bw＜0，则对烧成单元进行调节。
2.如权利要求1所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，测试釉面砖中心弯曲度时，先将釉面砖采用沸水煮6～10h，然后测试。
3.如权利要求2所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba＜0且Bw＜0，则降低粉料的烧成温度，其降低量δ为：
δ＝k×|Bw-Ba|
其中，δ为粉料的烧成温度降低量，Bw为水冷单元出口处釉面砖的中心弯曲度，Ba为风急冷段出口处釉面砖的中心弯曲度；k为常数，其取值为1000～1500。
4.如权利要求2所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba≥1.5，则对釉料单元进行调节；
若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba＜1.5，则对釉料单元或制粉单元进行调节。
5.如权利要求4所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba≥1.5，则提升釉料的烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温度≤25℃。
6.如权利要求4所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba＜0、Bw≥0且(Ba-Bw)/Ba＜1.5，则降低釉料的烧成温度和/或提升粉料的烧成温度，以使粉料的烧成温度-釉料的烧成温度为20～40℃。
7.如权利要求2所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba≥0，0＜Bw≤5％，则釉面砖直接进入深加工单元；若Ba≥0，Bw＞5％，则烧成单元进行调节。
8.如权利要求1所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba≥0，Bw＜0，且(Ba-Bw)/Ba≥2，则提高高温段的辊上温度，降低高温段的辊下温度。
9.如权利要求1所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba≥0，Bw＜0，且1≤(Ba-Bw)/Ba＜2，则提高温段的辊上温度，保持高温段的辊下温度不变。
10.如权利要求1所述的炻瓷质釉面砖生产***的控制方法，其特征在于，若Ba≥0，Bw＜0，且(Ba-Bw)/Ba＜1，则降低高温段的辊上温度，提高高温段的辊下温度。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210376820.5A CN115008592B (zh) | 2022-04-12 | 炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210376820.5A CN115008592B (zh) | 2022-04-12 | 炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN115008592A true CN115008592A (zh) | 2022-09-06 |
| CN115008592B CN115008592B (zh) | 2024-07-02 |
Family
ID=
Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01148509A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-09 | Nippon Steel Corp | 施釉用タイル基材の製造方法 |
| JPH07247179A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-09-26 | Osamu Yamamoto | セラミック構造体及びその製造方法並びにセラミックシートの製造方法 |
| CN102944212A (zh) * | 2012-11-24 | 2013-02-27 | 淄博阿卡狄亚陶瓷有限公司 | 一种瓷砖平整度反弹性的检测方法 |
| WO2013032831A1 (en) * | 2011-08-26 | 2013-03-07 | Dow Global Technologies Llc | Improved process for preparing ceramic bodies |
| CN107739212A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-02-27 | 鹰牌陶瓷实业（河源）有限公司 | 一种墙地砖的成型加工的质量控制方法 |
| CN110963804A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-07 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种瓷砖烧制过程中表面不平整的解决方法 |
| CN111018543A (zh) * | 2020-01-02 | 2020-04-17 | 杭州诺贝尔陶瓷有限公司 | 一种一次烧成超大规格薄型瓷质板材及其生产方法 |
| CN111174576A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种利用带温砖调节窑炉***温度曲线的方法 |
| CN111504062A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-07 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种均衡窑炉冷却段温度场的余热利用***及其使用方法 |
| CN111548138A (zh) * | 2020-04-27 | 2020-08-18 | 恩平市新锦成陶瓷有限公司 | 低温快烧釉面砖的烧成方法及低温快烧釉面砖 |
| CN111807875A (zh) * | 2020-07-08 | 2020-10-23 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 瓷质抗形变釉面砖的制备方法及制备的瓷质抗形变釉面砖 |
| CN115010475A (zh) * | 2022-04-12 | 2022-09-06 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 炻瓷质陶瓷中板及其烧成方法 |
| CN117125965A (zh) * | 2023-08-30 | 2023-11-28 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种提高瓷砖平整度的方法 |
Patent Citations (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01148509A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-09 | Nippon Steel Corp | 施釉用タイル基材の製造方法 |
| JPH07247179A (ja) * | 1994-03-14 | 1995-09-26 | Osamu Yamamoto | セラミック構造体及びその製造方法並びにセラミックシートの製造方法 |
| WO2013032831A1 (en) * | 2011-08-26 | 2013-03-07 | Dow Global Technologies Llc | Improved process for preparing ceramic bodies |
| CN102944212A (zh) * | 2012-11-24 | 2013-02-27 | 淄博阿卡狄亚陶瓷有限公司 | 一种瓷砖平整度反弹性的检测方法 |
| CN107739212A (zh) * | 2017-10-23 | 2018-02-27 | 鹰牌陶瓷实业（河源）有限公司 | 一种墙地砖的成型加工的质量控制方法 |
| CN110963804A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-07 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种瓷砖烧制过程中表面不平整的解决方法 |
| CN111174576A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 一种利用带温砖调节窑炉***温度曲线的方法 |
| CN111018543A (zh) * | 2020-01-02 | 2020-04-17 | 杭州诺贝尔陶瓷有限公司 | 一种一次烧成超大规格薄型瓷质板材及其生产方法 |
| CN111548138A (zh) * | 2020-04-27 | 2020-08-18 | 恩平市新锦成陶瓷有限公司 | 低温快烧釉面砖的烧成方法及低温快烧釉面砖 |
| CN111504062A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-07 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种均衡窑炉冷却段温度场的余热利用***及其使用方法 |
| CN111807875A (zh) * | 2020-07-08 | 2020-10-23 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 瓷质抗形变釉面砖的制备方法及制备的瓷质抗形变釉面砖 |
| CN115010475A (zh) * | 2022-04-12 | 2022-09-06 | 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 | 炻瓷质陶瓷中板及其烧成方法 |
| CN117125965A (zh) * | 2023-08-30 | 2023-11-28 | 清远市简一陶瓷有限公司 | 一种提高瓷砖平整度的方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 乔富东: "烧成收缩率为零的釉面内墙砖配方的研制", 佛山陶瓷, no. 01, 30 January 2004 (2004-01-30) * |
| 钟保民: "砖坯抛光进砖方向对抛光砖平整度的影响", 佛山陶瓷, no. 04, 30 August 2000 (2000-08-30) * |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN105600813B (zh) | 一种利用放电等离子烧结技术制备铝酸三钙的方法 | |
| CN111017935A (zh) | 一种硅溶胶的制备方法及其在陶瓷涂料的应用 | |
| CN109516779B (zh) | 一种中温裂纹釉日用瓷及其制备方法 | |
| CN106810079B (zh) | 利用花岗岩废渣制备云母微晶玻璃的方法 | |
| CN112390628B (zh) | 一种氧化铝靶材的制备方法 | |
| WO2022016924A1 (zh) | 一种γ型硅酸二钙的制备方法及以γ型硅酸二钙为主要物相组成的高强碳化材料 | |
| CN109627050B (zh) | 一种石英坩埚内表面涂层及其制备方法 | |
| CN105777060A (zh) | 朱砂胎青瓷胎料、朱砂胎青瓷瓷器及其制作方法 | |
| CN109020481A (zh) | 一种高强度耐污瓷砖及其制备方法 | |
| CN115008592A (zh) | 炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 | |
| CN115008592B (zh) | 炻瓷质釉面砖生产***的控制方法 | |
| CN106495676A (zh) | 一种钢化玻璃加热炉用石英陶瓷空心辊棒的制备方法 | |
| CN1706614A (zh) | 加气混凝土砌块的蒸汽养护装置 | |
| CN102376444A (zh) | 一种磁芯的烧结方法及设备 | |
| CN110668698A (zh) | 耐酸、耐碱、耐热、耐磨烧金桶用钛白面釉及生产方法 | |
| CN104387096A (zh) | 一种冶炼钢包用刚玉尖晶石不烧砖及其制备方法 | |
| CN115010475A (zh) | 炻瓷质陶瓷中板及其烧成方法 | |
| CN103030286A (zh) | 一种表面致密无气孔的微晶玻璃及其制备方法 | |
| CN108276010B (zh) | 一种焦炉陶瓷热抹补料及其制备方法 | |
| CN110328237A (zh) | 一种大尺寸5n高纯铝靶材的制备方法 | |
| CN109748594A (zh) | 一种干熄焦炉牛腿耐火保护材料及其制备方法 | |
| CN115417695B (zh) | 一种氮化硅悬浮液制备方法 | |
| CN116444287B (zh) | 一种发泡陶瓷生产工艺及设备 | |
| CN117701049B (zh) | 一种乙烯裂解炉炉管内壁使用的复合结晶膜浆料 | |
| CN110590195B (zh) | 麦尔兹石灰窑提产增效的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant |