CN1148727C - 玻璃衬底、磁性载体以及磁性载体的制造方法 - Google Patents

玻璃衬底、磁性载体以及磁性载体的制造方法 Download PDF

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Abstract

一种用于磁性载声体的玻璃衬底，它有一对相对的主表面和一与主表面邻接的周边侧面。周边侧面有一侧端壁和在侧端壁与主表面之间的中间区。中间区和侧端壁中至少有一个是由镜面精细加工的表面形成的。由于玻璃衬底的侧端表面是经镜面精细加工的，没有微粒从周边侧面上产生。由于不产生热粗糙，进行重放时就不会出现重放误差。由于没有由微粒造成的凸起，就能足以避免磁头的碎裂声。

Description

玻璃衬底、磁性载体以及磁性载体的制造方法
本发明涉及一种用于计算机以及类似装置中的磁性载体。
迄今，铝衬底已被广泛用于诸如磁盘之类的磁性载体。然而，铝衬底已逐渐由玻璃衬底所取代，玻璃衬底与铝衬底相比，在强度与平整度上有其优点。
在另一方面，薄膜头已被广泛用作磁头。然而，近年来薄膜头倾向于由磁电阻头(MR)和巨磁电阻头(GMR头)取代。因而，就要针对能与磁电阻头相适应的磁性载体进行开发。这样的磁性载体往往有一玻璃衬底。
然而，当磁电阻头沿玻璃衬底的磁性载体移动时总要出现重放误差并且在浮动高度变低时重放就更为困难。
本发明的一项目的是要提供一种磁性载体，它在即使磁头的浮动高度变低时也能减少重放误差。
如上所述，当磁头的浮动高度变低时往往出现重放误差。因而，曾经对引起重放误差的有关原因进行过严密调查。根据发明人的实验研究发现，在玻璃衬底的主表面上附着有微粒并由磁性载体上的微粒形成凸出部分。这样的凸出部分产生热粗糙导致磁电阻头发热。其结果是，磁电阻头的磁电阻率波动，由此对电磁转换造成不良影响。
此外，热粗糙往往在为检查磁电阻头的碎裂声进行过滑动试验之后的磁盘上产生。在这种况下，有各种各样的微粒引起热粗糙。例如，这样的微粒可能包括当磁电阻头浮动时产生不良影响的微粒。这样一种微粒包括多角的或不规则的形状。
随后，曾经调查了在常规玻璃衬底上附着微粒的原因。调查的结果发现，从玻璃衬底的侧端表面产生的微粒附着在玻璃衬底的主表面上。这是由于，与玻璃衬底的主表面相比，侧端表面是粗糙的。明确地说，当玻璃底进出诸如聚碳酸酯之类的材料壳体时，玻璃衬底的侧端表面不可避免地接触壳体的内表面。侧端表面与壳体的这种接触增加了微粒的产生而且所产生的微粒附着在玻璃衬底的主表面上。
在通常情况下，一般只是从玻璃衬底机械强度的观点出发对侧端表面给予一般的关心。相比之下，在美国专利NO.5,569,518中所关心的是通过对侧端表面进行化学腐蚀或抛光成为化学抛光的表面来避免产生微粒。在本领域中众所周知，这样一种化学抛光的表面比较粗糙并且呈现为一种无光泽(或暗淡)的精细加工表面。作为一项结果，已经证实，为了避免产生微粒必须通过机械抛光对侧端表面进行精密抛光。在通常情况下，侧端表面是通过化学腐蚀进行处理。然而，化学腐蚀处理并不足以抑制微粒产生。这里假设通过使用具有内周边和外周边的盘状玻璃衬底生产的磁性载体。在此情况下，内外周边受到不规侧的腐蚀，可能产生轴偏差。
另一方面，本发明指出了通过将侧表面机械抛光成镜面的精制表面能够避免产生微粒而又不会在磁性载体内造成任何轴偏差。
具体地说，按照本发明，玻璃衬底有一对相对的主表面以及与主表面邻接的一周边侧表面。周边侧表面有一侧端壁和在主表面与侧端壁之间的中间区。在此情况下，至少中间区和侧端臂中有一个是由镜面精加工的表面形成的，这种表面的表面粗糙度Ra不大于1微米，或是表面粗糙度Rmax不大于4微米。
本发明中，没有因镜面精加工的玻璃衬底侧端表面而产生的微粒。从而，不会因热粗糙而降低重放功能。此外，由于没有因在磁性载体上的微粒而形成的凸出部分，就能足以避免磁电阻头的碎裂声。
附图说明
图1示出一部分玻璃衬底的剖面视图；以及
图2示出为标定本发明的样品用以图示各种样品滑动成品率下降结果的图解表示。
参照图1，将对本明玻璃衬底1的有关情况进行描述。
如图1中绘示，玻璃衬底1在剖面内有一端部。在图1中，玻璃衬底1有相对的主表面3以及与主表面3邻接的一周边侧表面2。周边侧表面2有一侧端壁A以及在侧端壁A与各主表面3之间的中间区B和C。
在绘示的样品中，各中间区B和C是经后面将予讨论的倒角工艺有意进行倒角成一倒角区。然而，中间区B和C也可能是在后面也将讨论到的研磨或抛光工艺中无意进行倒角的。在这里，要注意到侧端壁A和中间区B与C都是由机械抛光进行镜面精细加工的，因而具有用不大于1微米的表面粗糙度Ra标定的机械抛光表面，其中Ra表示中心线平均粗糙度(按照日本工业标准JIS B 0601的定义)。由于机械抛光表面经受过镜面精细加工工艺，此后将一直称其为镜面精细加工表面。然而，这样的镜面精细加工表面至少可能在侧端壁A和中间区B与C中的一面上形成。在这种场合，表面粗糙度以在0.001至0.8微米的范围内为可取，更好是在0.001至0.5的范围内。
另一种方法，可以用表面粗糙度Rmax代替Ra表示镜面精细加工的表面，其中Rmax定义为由一最高点与一最低点之间的差所表示的最大高度。在这种场合，表面粗糙度Rmax可能不大于4微米。比较可取的是最大高度Rmax在0.01和2微米之间的范围内，更为可取则为在0.01和1微米之间的范围内。
为此，本发明的玻璃衬底1具有各由不大于1微米的表面粗糙度Ra或不大于4微米的表面粗糙度Rmax标定的镜面精细加工表面。在此情况下的玻璃衬底1的侧端壁A和中间区B与C的表面粗糙度，已被证实是不会在主表面3上产生凸起的。从而没有发现产生热粗糙。
此外，在每个主表面3和每个中间区B及C之间形成圆拱表面4。还有，在每个中间区B及C和侧端壁A之间形成圆拱表面4。每一圆拱表面4具有在0.2和10毫米之间的半径，较为可取是在0.2至2毫米之间，更为可取则在0.2至1毫米之间。通过形成圆拱表面4能够完全避免微粒的产生。具体地说，若是在每个主表面3与每个中间区B及C之间或是在每个中间区B及C与侧端壁A之间形成棱角表面5，则当棱角表面5与壳体接触时，它们就有可能产生微粒。因而，按照本发明，通过机械抛光棱角表面5与壳体接触时，它们就有可能产微粒。因而，按照本发明，通过机械抛光棱角表面5形成圆拱表面4以避免产生微粒。圆拱表面4较为可取有0.01-2微米的表面粗糙度Rmax和0.001-1微米的表面粗糙度Ra，更可取有0.01-1微米的表面粗糙度Rmax和0.001-0.8微米的表面粗糙角Ra，而仍然更为可取有0.01-1微米的表面粗糙度Rmax和0.001-0.5微米的表面粗糙度Ra。
为获得上述镜面精细加工表面对玻璃衬底1的周边侧区2进行一次镜面精细加工工艺。具体地讲，镜面精细加工工艺是通过机械抛光进行的，采用诸如软抛光器材和硬抛光器材之类的抛光垫以及诸如松散磨料、粘结的磨料、砂浆等类似的固体或液体抛光物质进行刷除、软磨抛光。总之，为了获得具有上述表面粗糙度的镜面精细加工表面，机械抛光可以通过组合不同类型的机械抛光进行，并且可用不同磨粒尺寸与类型的抛光器材进行机械抛光。机械抛光可以被认为是物理抛光或动力抛光。
例如，软抛光器材可以包括一张羊皮、一块丝绒或其类似物，而硬抛光器材则可包括硬丝绒、泡沫尿烷、浸渍树酯的羊皮或其类似物。此外，磨料包括，例如，氧化铈(CeO2)、氧化铝(r-Al2O3)、铁丹(Fe2O3)、氧化铬(Cr2O3)、氧化锆(ZrO2)、以及氧化钛(Tio2)。
在所绘示例中，中间区(倒角区)B和C是形成在侧端壁A的两侧。此后，对中间区B和C进行镜面精细加工工艺。其结果是，即使当玻璃衬底1进出壳体时在周边侧区2与壳体接触，也没有微粒从侧端壁A和中间区B及C上产生。
对周边侧区2作机械抛光的镜面精细加工工艺可以在对玻璃衬底1的主表面3研磨或抛光之后或之前进行。在一般情况下，抛光或磨光工艺被分成：(1)粗磨步骤，(2)磨光步骤，(3)第一抛光步骤，(4)第二抛光步骤。考虑到上述情况，前述的镜面精细加工工艺可以在步骤(1)、(2)、(3)和(4)的每一步之后进行。例如，镜面精细加工工艺可以在粗磨步骤之后进行。另外的方法是，可以在磨光步骤、第一抛光步骤或第二抛光步骤之后进行镜面精细加工工艺。在磨光步骤前进行镜面精细加工工艺时，周边侧面2往往会被磨光步骤中所用的砂粒稍予加粗。
此外，较为可取是使玻璃衬底1的主表面3具有不大于2微米的表面粗糙度Ra以避免热粗糙。
在本发明对玻璃衬底1的种类、尺寸和厚度未施加限制。玻璃衬底1可由玻璃或玻璃陶瓷制成。在此情况下，玻璃可以是，例如，硅酸铝玻璃、碱石灰玻璃、硅酸钠铝玻璃、铝硼硅酸盐玻璃、硼硅酸盐玻璃、硅酸盐玻璃和链硅酸盐玻璃，而玻璃陶瓷则可以是，例如结晶的玻璃。通过举例，以硅酸铝玻璃为例，可含主要成分的重量百分比为：62-75％的SiO2、5-15％的Al2O3、4-10％的Li2O、4-12％的Na2O、5-15％的ZrO2。此外，玻璃包含Na2O/ZrO2的重量比处于0.5和2.0之间的范围内，而Al2O3/ZrO2的重量比则处于0.4和2.5之间的范围内，使得玻璃衬底得到化学增强。还有，这样的化学增强玻璃以摩尔百分比计最好含有57-74％的SiO2、0-2.8％的ZnO2、3-15％的Al2O3、7-16％的LiO2、4-14％的Na2O，使得能够去除由不可溶物质ZrO2形成在主表面上的凸起。具有上述成分的化学增强硅酸铝玻璃有优越的横向弯曲强度和努氏硬度。此外，这样的玻璃还有足够深的压缩应力层。
在该实施例中，能够通过在低温下的离子交换方法为玻璃衬底1进行化学增强，以提高抗冲击和震动的特性。否则，也能用已知的化学增强法使玻璃衬底1化学增强。但从玻璃转换点的观点出发，与后述的方法相比，离子交换法还是较为可取的，这是由于前者是在低于玻璃转换点的温度下进行的。一种用于化学增强的熔融盐包含一份硝酸钾、一份硝酸钠、一份与它们相混合的硝酸盐、本发明的玻璃衬底1不仅用于磁性载体，它还用于诸如光盘之类的光-磁盘和电-光盘。特别是，玻璃衬底对光-磁盘有效，而它却受到附着于其上的微粒的严重影响。
随后，将对上述有关的磁性载体进行描述。
正如在现有技术中所公知的，此处的这样一种磁性载体至少有一层形成在玻璃衬底上的磁性层。在本发明中，由于侧端壁A和中间区B及C经受了前述的镜面精细加工工艺，没有从侧端壁A和中间区B及C产生的微粒。这表明，即使磁层是形成在玻璃衬底上也没有因产生微粒而在磁层上留下凸起。从而，当用磁电阻(MR)头进行重放时就能足以避免磁电阻头的碎裂声。此外，还由于没有因微粒留在磁层上而产生缺陷，也就没有重放误差出现。
具体地说，磁性载体是在玻璃衬底1上连续淀积一层底层、一层磁层、一层保护层和一层润滑层形成的，它具有如前所述的符合要求的平整度和表面粗糙度并且它经受过化学增强。
底层是相对于磁层进行选择的。从Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、组成的一组非磁性金属中可以至少选出一种金属用作底层的材料。最好用金属Cr或Cr的合金作为底层材料以增强磁性特性，这里的磁层包含Co作为主要成分。此外，底层可以未必总是由单层形成，而是可以由多个相同层或不同层组成的多层形成。例如，可以进行诸如Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、CrV/CrV、Al/Cr/CrMo、Al/Cr/Cr、Al/Cr/CrV以及Al/CrV/CrV之类的多层淀积形成底层。
在本发明中，也未对磁层施加限制。
磁层可以是，例如，包含Co作为主要成分的一层，它并有从CoPt、CoCr、CoNi、CoNiCr、CoCrTa、CoPtCr、CoNiPt、CoNiCrPt、CoNiCrTa、CoCrTaPt、以及CoCrPtSiO中选择的组成。此外，磁层具有多层结构(例如，CoPtCr/CrMo/CoPtCr，CoCrTaPt/CrMo/CoCrTaPt)。这样一种结构是如已有技术中为降低噪音通过用非磁性薄膜(例如，Cr、CrMo、CrV)分开磁性膜获得的。用于磁性阻头(MR头)或巨磁电阻头(GMR头)的磁层包含从一组由Y、Si、稀土元素、Hf、Ge、Sn和Zn组成的元素中选出的杂质元素，在钴基合金中加入这些杂质元素的氧化物。
此外，磁层可能具有粒状的结构，其中诸如Fe、Co、FeCo和CoNiPt之类的磁性颗粒被分散在包含一种铁基材料、一种铁-稀土基材料、Sio2和BN的非磁性薄膜中。还有，磁层可能具有不是平面内磁化型就是垂直磁化型的录音形式。
对本发明的保护层也不施加限制。具体地讲，保护层可以由一层铬薄膜，一层铬合金薄膜、一层碳薄膜、一层氧化锆薄膜以及一层二氧化硅薄膜形成，并且可以通过使用已有的在线溅射设备与底层和磁层一起连续淀积在玻璃衬底1上。保护层可以由单层或是由包括多个相同材料或不同材料薄层的多层形成。
此外，可用诸如SiO2之类的其它保护层代替上述的保护层。这样的SiO2薄膜可以通过将胶体二氧化硅细粒分散在用乙醇为基质的溶剂稀释的四烷氧基硅烷中而后通过涂敷和烘熔分散的细粒形成在铬薄膜上。
并且，润滑层不受前述的限制。例如，通过使用诸如以氟利昂为基质的一类溶剂稀释过氟聚醚(PFPE)，并通过浸渍法、旋敷法或喷涂法将其涂敷在介质表面上并焙烧介质，就形成了润滑层。
第一例
(1)粗磨抛光步骤
首先，用压延法制成一片硅酸铝玻璃并用砂轮切成具有96毫米直径和3毫米厚度的盘状玻璃衬底。用较粗的金刚砂将玻璃衬底研磨或抛光至96毫米的直径与1.5毫米的厚度。在此情况下，可以通过用上下模和圆筒直接按压熔融的玻璃代替压延法制成盘状玻璃衬底。
在这种情况下，上述得到化学增强的玻璃以摩尔％计的主要成分包含有，57-74％的SiO2、0-2.8％的ZnO2、3-15％的Al2O3、7-16％的Li2O以及4-14％的Na2O。另外，以重量计的得到化学增强的玻璃包含主要成分，63％的SiO2、14％的Al2O3、6％的Li2O以及10％的Na2O。上述组成能用摩尔表示法表示为，所包含的摩尔％为67％的SiO2、1.0％的ZnO2、9.0％的Al2O3、12％的Li2O以及10.0％的Na2O。
随后，用比上述磨砂粒度更小的金刚砂对玻璃衬底1的两个主表面3进行研磨或抛光。在此情况下，负载设置达100公斤。用以使玻璃衬底1的主要表面3研磨成10微米左右的表面粗糙度Rmax(JIS B 0601)。
接着，用柱状砂石在玻璃衬底的中心区开孔。此外，将外侧端表面研磨达95毫米的直径。此后，对内外侧端表面进行倒角。在此情况下玻璃衬底1的侧端壁A有约14微米的表面粗糙度Rmax。
(2)侧端表面的镜面精细加工步骤
对玻璃衬底内外侧壁的抛光是通过使用一个刷子和松散磨料并通过旋转玻璃衬底1进行的，它使两个侧端壁具有约1微米的表面粗糙度Rmax和约0.3微米的表面粗糙度Ra。接着，在进行侧端壁的镜面精细加工工艺之后用水清洗玻璃衬底1。
(3)研磨步骤
对玻璃衬底进行的研磨步骤是为了提高其尺寸和形状的精度。研磨步骤是用一台研磨设备进行的。在此情况下，经从#400至#1000改变粒度进行两次研磨。具体地讲，对玻璃衬底1的两个主表面3进行研磨，使主表面3具有0-1微米的表面精度和约6微米的表面粗糙度Rmax。在此情况下，通过旋转一个内齿轮和一个外齿轮用#400粒度的氧化铝颗粒保持负载L约100公斤的条件进行研磨。接着，将氧化铝颗粒的粒度改换成#1000进行研磨。结果使表面粗糙度Rmax变为约2微米。随后，将玻璃衬底浸入清洗器中用天然洗净剂和水进行清洗。
(4)第一次抛光步骤
接着，用一台抛光设备进行第一次抛光以去除在上述研磨工艺中留下的缺陷和畸变。具体地讲，用一台硬抛光器(例如，可以是由斯皮德法制造的MHCl5型浸铈的泡沫尿烷垫)作抛光器并按下列抛光条体进行第一次抛光。
抛光液：氧化铈+水
负载：300克/平方厘米(L＝238公斤)
抛光时间：15分钟
去除量：30微米
下面板转数：每分钟40转
上面板转数：每分钟25转
内齿轮转数：每分钟14转
外齿轮转数：每分钟29转
在第一次抛光之后在清冼器中用天然洗净剂纯水、异丙基乙醇(IPA)、蒸汽干燥的IPA将玻璃衬底1连续沉浸清洗。
(5)第二次抛光步骤
接着，将上述硬抛光器改换成软抛光器(例如，斯皮德法制造的诸如波利拉克斯的软羊皮型抛光垫)，使用在第一次抛光工艺中所有的抛光设备，进行第二次抛光。抛光条件为负载每平方厘米100克，抛光时间5分钟以及去除量5微米，除这些之外其它均与第一次抛光步骤中的类似。在第二次抛光步骤之后将玻璃衬底浸入天然洗净剂的清洗器中，在其中进行纯水、异丙基乙醇(IPA)、蒸汽干燥的IPA的清洗。在此情况下，每一清洗器都用上超声波。
(6)化学增强步骤
接着，在完成抛光步骤之后，进行玻璃衬底1的化学增强步骤。首先将硝酸钾(60％)与硝酸钠(40％)混合制备成化学增强溶液。将化学增强溶液加热至400℃。将清洗过并预热至300℃的玻璃衬底1沉浸在化学增强溶液中3小时。用夹具从端面上夹住多片玻璃衬底进行化学增强步骤，使玻璃衬底1的整个表面都得到化学增强。在此情况下，通过在化学增强溶液中沉浸每片玻璃衬底1，使得在玻璃衬底1表面层上的锂离子和钠离子被化学增强溶液中的钠离子和钾离子取代。这样，玻璃衬底1就得到化学增强。在玻璃衬底1的表面层内就形成有约100-200微米厚度的压缩应力层。接着，将化学增强的玻璃衬底1浸入20℃的水箱中快冷并保持10分钟。随后，将冷却的玻璃衬底1浸入加热至40℃的硫酸中，并用超声波清洗。在表1中示出了在玻璃衬底1周边侧面2的中间区(倒角区)B(长度：0.15毫米)、中间区(倒角区)C(长度：0.15毫米)以及侧端壁A(长度：0.35毫米)处的表面粗糙度(Ra、Rmax)。在表1中，中间区B的表面粗糙度Ra是0.2微米，而中间区B的表面粗糙度Rmax则为1.9微米。此外，中间区C的表面粗糙度Ra是0.15微米，而中间区C的表面粗糙度Rmax则为2.9微米。还有，侧端壁A的表面粗糙度Ra是0.35微米，而侧端壁A的表面粗糙度Rmax则为3.4微米。同样，玻璃衬底1的主表面3具有0.5-1毫微米的表面粗糙度Ra。此外，对玻璃衬底1的表面进行了精确测试。测试结果表明，在主表面3上不存在产生热粗糙的微粒。
             表1
Ra(微米) Rmax(微米)
侧端壁A 0.35 3.4
中间区B 0.2 1.9
中间区C 0.15 2.9
测量长度：0.8毫米
此外，须注意的是当玻璃衬底的直径为3.5英寸时，侧端壁A的厚度为0.45毫米。在此情况下，类似的结果已得到证实。
(7)磁盘生产步骤
通过利用已知的在线溅射设备在玻璃衬底1的两个主表面3上连续淀积一层结构层、一层CrN底层、一层CrMo底层、一层CoPtCrTa磁层以及一层碳保护层以获得一张磁盘。接着，进行一次有关所获得磁盘的滑动测试。测试结果未出现碰击和碎裂声。在此情况下，碰击意味着磁头碰上磁盘表面的凸起，而碎裂声则意味磁头与表面的凸起相撞。此外，还证实了没有由产生在磁层上的微粒所造成的缺陷。
同时，对几片样片进行滑动测试，第一样片中玻璃衬底1的周边侧面2是经镜面精细加工的，第一对比样片中的周边侧面端部2是经过腐蚀的，而第二对比样片中则既未进行过抛光也未进行过腐蚀。滑动测试的测试结果示于表2中。具体情况是，第一样片的成品率是90％或是更高。相比之下，第一和第二对比样片的成品率则各为87％。从表2可以了解到，第一样片优于第一和第二对比样片。因此，常规的腐蚀玻璃衬底周边侧面的方法不能实现本发明的目的。
                       表2
第一样片 第一对比样片 第二对比样片
滑动测试的成品率 90％或更高 87％或更低 87％或更低
此外，在滑动测试后还对磁盘进行一次重放测试。测试结果已证实，在与本发明有关的样片中(500片样片)未发生因热粗糙而引起的重放误差。
第二和第三例
第二和第三例中，用碱石灰玻璃(第二例)和钠铝硅酸盐玻璃(第三例)代替了第一例的铝硅酸盐玻璃，除此之外都与第一例类似。其结果是，在碱石灰玻璃的情况下(第二例)，玻璃衬底1的内外侧端表面具有1.5微米的表面粗糙度Rmax。尽管碱石灰玻璃衬底与铝硅酸盐玻璃相比具有略微粗糙的表面，但是并未给这样一种玻璃衬底带来实际问题。
第四例
用已知的在线溅射设备在第一例中所获得的玻璃衬底1的两个主表面3上连续淀积一层Al(50A)/Cr(1000A)/CrMo(100A)的底层、一层CoPtCr(120A)/CrMo(50A)/CoPtCr(120A)的磁层以及一层Cr(50A)保护层。将上述衬底浸入一有机硅化合物的溶液中(水、IPA和四乙氧基硅烷的混合液)其中弥散着二氧化硅的细粒(100A的细粒直径)。接着通过烘焙形成组构的SiO2保护层。此外，还使保护层在过氟聚醚的润滑剂中经受一次浸渍过程以获得用于磁电阻(MR)头的磁盘。
为了获得磁盘要进行滑动测试。测试的结果是，既无碰击也无碎裂声出现。此外，还已证实在磁层上未形成缺陷。再就是，重放测试的结果表明，没有产生由热粗糙造成的重放误差。
第五例
第五例中用Al/Cr/Cr作底层以及用CoNiCrTa作磁层，除此之外都与第四例相似。已经得到证实，在第五例中也获得了类似第四例中的磁盘。
参见图2，将浮动高度保持在1.1和1.3微英寸之间范围内对第一至第十二例有关的样品1至12进行了滑动测试。这里，第一第十二例样品1至12每例准备了一百片玻璃衬底。注意当用100片玻璃衬底的平均值表示各例的表面粗糙度Ra和Rmax时，第一、第二、第五、第八、第九、第十、第十一和第十二例样品1、2、5、8、9、10、11和12具有由本发明确定的表面粗糙度Ra，和Rmax，而第三、第四、第六和第七例的样品3、4、6和7则有处在本发明以外的表面粗糙度Ra和Rmax。更具体地说，第一、第二、第五、第八、第九、第十、第十一和第十二例的样品1、2、5、8、9、10、11和12具有的表面粗糙度Ra和Rmax分别等于0.03和0.44；0.18和1.80；0.06和3.25；0.53和2.50；0.71和3.56；0.09和0.98；0.06和0.85；以及0.05和0.50微米。另一方面，第三、第四、第六和第七样品的表面粗糙度Ra和Rmax分别等于1.88和10.05、1.53和7.45、1.72和8.23以及2.01和11.75微米，并有暗淡的精致加工表面。
在此情况下，对第一至第十二例样品1至12的每例的缺陷进行计算并用％表示，测出在上述滑动测试中滑动成品率的下降，如在图2中用直方图所表示的。按照本发明的第一、第二、第五、第八、第九、第十、第十一和第十二例样品1、2、5、8、9、10、11和12分别表现出1.625、5.75、8.5、7.895、9.625、3.5、3.625和1.825％的滑动成品率下降，而第三、第四、第六和第七例样品3、4、6和7则分别表现出14.625、13.875、14.375和15.125％的滑动成品率下降。总之，按照本发明的样品表现出小于10％的滑动成品率下降。
为了测量磁性载体上的缺陷，通常已利用保持在50毫微米浮动高度和每秒7米旋转速度的磁电阻(MR)头进行了各式各样的测试，并可总称为确认测试。实际上，确认测试包括正调制测试、负调制测试、脱漏测试、超额测试以及高峰测试，它们全都属已有技术。这样一些测试还用于对各种磁性载体的热粗糙进行评估。这里，各种脱漏测试、高峰测试和超额测试有助于将缺陷分类成可校正缺陷、不可校正缺陷以及长缺陷。
在每次测试前，要准备好二十五个左右已抛光成前述状态的磁性载体，和二十五个未经抛光的磁性载体在一起。将上述测试的结果就抛光过的和未经抛光的磁性载体进行平均和总计。在此请况下，发现每一抛光过的磁性载体表面上的缺陷平均总计值已等于9.56的数值，而每一未经抛光的磁性载体表面上的缺陷平均总计值则已等于16.4的数值。对两个平均总计值作比较，很容易了解到抛光过的磁性载体中缺陷的下降率已等于41.70％。这表明本发明抛光过的磁性声体与未经抛光的磁性载体相比，在热粗糙方面有了明显改进。虽然已结合几个实例对本发明进行了描述，但对本领域的技术人员而言，很有可能会将本发明以各种其它形式应用于实践中。例如，机械抛光表面，也即镜面精加工表面，可以形成在磁性载体的至少一个内外周边表面上。

Claims (25)

1.一种在一磁性载体中使用的玻璃衬底，其特征在于，所述玻璃衬底有一对彼此相对的主表面和一与所述主表面邻接的周边侧面，所述周边侧面具有一侧端壁和在所述侧端壁与所术主表面之间的中间区，
所述中间区和所述侧端壁中至少有一个是由表面粗糙度Ra不超过1微米的机械抛光表面和镜面精细加工表面中选出的一种形成的，其中的Ra代表中央线平均粗糙度。
2.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：表面粗糙度Ra处于0.001和0.8微米之间的范围内。
3.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：表面粗糙度Ra处于0.001和0.5微米之间的范围内。
4.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：表面粗糙度Ra处于0.001和0.1微米之间的范围内。
5.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：在所述主表面中至少有一面具有不超过2毫微米的表面粗糙度Ra。
6.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：所述中间区是经过倒角的，以致在每一所述主表面与每一所述中间区之间形成圆拱表面，所述圆拱表面有0.2和10毫米之间的半径。
7.按照权利要求1所述的一种玻璃衬底，其特征在于：每一侧端壁和圆拱表面具有不超过1微米的表面粗糙度Ra。
8.一种在一磁性载体中使用的玻璃衬底，所述玻璃衬底有一对彼此相对的主表面和一与所述主表面邻接的周边侧面，所述周边侧面具有一侧端壁和在所述侧端壁与所述主表面之间的中间区，其特征在于：
所述中间区和所述侧端壁中至少有一个是由表面粗糙度Rmax不超过4微米的镜面精细加工表面形成的，其中的Rmax代表最大高度和最低高度之间的差。
9.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
表面粗糙度Rmax处于0.01和2微米之间的范围内。
10.按照权利要求9所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
表面粗糙Rmax处于0.01和1微米之间的范围内。
11.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
所述中间区是经过倒角的，以致在每一所述主表面和每一所述中间区之间形成圆拱表面，所述圆拱表面具有0.2和10毫米之间的半径。
12.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
每一侧端壁和圆拱表面具有不超过1微米的表面粗糙度Rmax。
13.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
在所述中间区和所述侧端壁中至少有一个也具有不超过1微米的表面粗糙度Ra，其中Ra代表中央线平均粗糙度。
14.按照权利要求13所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
表面粗糙度Ra处于0.001和0.8微米之间的范围内。
15.按照权利要求13所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
表面粗糙度Ra处于0.001和0.5微米之间的范围内。
16.按照权利要求13所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
表面粗糙度Ra处于0.001和0.01微米之间的范围内。
17.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：表面粗糙度Rmax处于0.01和1微米之间的范围内，而表面粗糙度Ra则处于0.001和0.1微米之间的范围内，其中的Ra代表中央线平均粗糙度。
18.按照权利要求8所述的一种玻璃衬底，其特征在于：
每一主表面具有不超过2毫微米的表面粗糙度Ra，其中的Ra代表中央线平均粗糙度。
19.一种具有按照权利要求1所述的一种玻璃衬底的磁性载体，其特征在于，它至少包含有形成在玻璃衬底上的磁层。
20.按照权利要求19所述的一种磁性载体，其特征在于：所述的磁性载体可与磁电阻(MR)头和巨磁电阻(GMR)头中的任一种结合在一起工作。
21.按照权利要求19所述的一种磁性载体，其特征在于，所述磁层包含Co与Pt。
22.一种生产包含具有一对主表面和一侧端表面的玻璃衬底的磁性载体的方法，其特征在于，它的生产步骤包括：
在所述侧端表面上形成一侧端壁和中间区，所述中间区定位在所述侧端壁和所述主表面之间，
抛光玻璃衬底以在所述中间区和所述侧端壁上至少有一个提供有镜面精细加工的表面，并用以避免热粗糙，其中镜面精细加工表面是由机械抛光形成的。
23.按照权利要求22所述的一种方法，其特征在于，它还包含有步骤：
对中间区倒角以在所述主表面和所述中间区之间设置圆拱区。
24.按照权利要求23所述的一种方法，其特征在于，所述圆拱区具有0.2-10毫米的半径。
25.一种在磁性载体中使用的玻璃衬底，其特征在于，所述玻璃衬底具有一对彼此相对的主表面和一与所述主表面邻接的周边侧面，所述周边侧面具有一侧端壁和在所述侧壁与所述主表面之间的中间区，在所述中间区和所述侧端壁中至少有一个具有镜面精加工的表面。
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