CN114534647B

CN114534647B - 一种薄膜乳化装置及其制作方法

Info

Publication number: CN114534647B
Application number: CN202210002531.9A
Authority: CN
Inventors: ***; 王新河
Original assignee: Beihang University
Current assignee: Beihang University
Priority date: 2022-01-04
Filing date: 2022-01-04
Publication date: 2023-04-18
Anticipated expiration: 2042-01-04
Also published as: CN114534647A

Abstract

本申请提供一种薄膜乳化装置及其制作方法。薄膜乳化装置用于制作离散相微球，包括薄膜，具有多个通孔结构，用以通过离散相；其中所述薄膜包括第一光刻胶层和第二光刻胶层，所述通孔结构包括设于所述第一光刻胶层上的第一通孔以及设于所述第二光刻胶层上的第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔对应连通；所述第一光刻胶层的厚度小于所述第二光刻胶层的厚度，所述第一通孔的尺寸小于所述第二通孔的尺寸。本申请薄膜具有第二通孔与第一通孔对应连通的多个通孔结构，用以通过离散相；能够满足减薄薄膜厚度要求且保证其在承受高压时而不破碎，同时薄膜上的孔径均匀度极好且尺寸很小。

Description

一种薄膜乳化装置及其制作方法

技术领域

本申请涉及药物输送领域，特别涉及一种薄膜乳化装置及其制作方法。

背景技术

薄膜乳化装置由于其高通量被广泛引用于微球制作，其制作微球过程需要两相互不相溶流体，例如连续相和离散相。如图1所示，离散相通过薄膜小孔流出，进而与连续相相互作用，在产生的剪切力作用下形成微球。连续相可由注射泵、搅拌、震动等方式形成。微球尺寸D_d在很大程度上由薄膜孔径D_p决定，通常D_d大约为D_p的2至10倍。因此，为了得到小尺寸微球，薄膜孔径需尽量减小。受高深宽比孔径加工工艺限制，薄膜厚度也应相应减小，否则无法得到小孔径薄膜。薄膜厚度减小将会导致膜无法承受高压而破碎。解决该问题有两个方法：一是增加薄膜厚度，但如上所述，受加工工艺限制，孔径无法减小；二是以一种高强度、高延展性的材料制作该薄膜，例如现在被广泛使用的Shirasu Porous Glass(SPG)新型无机膜(SPG科技公司，日本)。SPG膜在生产过程中，将火山灰、玻璃、石灰在1350℃下硼酸化成型，然后再加热到700℃左右而产生均匀度很好的含有O·B_2O_3颗粒的玻璃。将该玻璃溶于酸中，CaO·B_2O_3颗粒将被酸溶液溶解，从而形成多孔玻璃，孔径在0.1-20μm之间，并且孔径均匀度极好。然而SPG薄膜有两个缺点。一是由于孔的结构多为扭曲不规则结构，易被离散相污染，其二是该膜价格较为昂贵，尤其与目前在微***中广泛使用的硅膜相比，成本较高。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种薄膜乳化装置及其制作方法，用于满足减薄薄膜厚度且保证其在承受高压时而不破碎，同时薄膜上的孔径均匀度极好且尺寸很小。

为了实现上述目的，本发明其中一实施例中提供一种薄膜乳化装置，用于制作离散相微球，包括薄膜，具有多个通孔结构，用以通过离散相；其中所述薄膜包括第一光刻胶层和第二光刻胶层，所述通孔结构包括设于所述第一光刻胶层上的第一通孔以及设于所述第二光刻胶层上的第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔对应连通；所述第一光刻胶层的厚度小于所述第二光刻胶层的厚度，所述第一通孔的尺寸小于所述第二通孔的尺寸。

进一步地，所述第一通孔和所述第二通孔的形状均为正方体形，所述第一通孔与所述第二通孔在垂直于所述薄膜方向上同轴设置。

进一步地，所述第一通孔的横截面和所述第二通孔的横截面均为正方形，且所述第一通孔的边与所述第二通孔的边平行设置；所述第一通孔的横截面的边与所述第二通孔的横截面的边的长度比值为1：20至1：10。

进一步地，所述第一光刻胶层的厚度等于所述第一通孔的横截面的边的长度，所述第二光刻胶层的厚度等于所述第二通孔的横截面的边的长度。

进一步地，所述薄膜乳化装置还包括：离散相进给装置，与所述薄膜的一侧相连，用以控制向所述薄膜供应的离散相流量；以及磁力搅拌器，以向离散相提供剪切力，其中剪切力方向垂直于离散相流动方向。

进一步地，所述薄膜与所述离散相进给装置密封相连；所述磁力搅拌器上放置一收纳器，用于放置连续相并收纳制作的离散相微球。

本申请还提供一种薄膜乳化装置的制作方法，包括制作薄膜步骤；所述制作薄膜步骤包括：在一玻璃基片上制作一金属层，在所述金属层上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层上设有第一通孔；蚀刻所述金属层，保留位于所述第一光刻胶层下方的金属层；在所述玻璃基片上及所述第一光刻胶层上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层上设有第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔对应连通；所述第一通孔的尺寸小于所述第二通孔的尺寸；以及蚀刻去除所述玻璃基片以及剩余的金属层。

进一步地，所述在所述金属层上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第一掩膜板，所述第一掩膜板设有第一遮光区和第一透光区，所述第一透光区的形状为第一通孔的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第一遮光区的光刻胶用显影剂冲洗去除，经氧气等离子清洗后形成第一光刻胶层；进一步地，所述在所述玻璃基片上及所述第一光刻胶层上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第二掩膜板，所述第二掩膜板设有第二遮光区和第二透光区，所述第二透光区的形状为第二通孔的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第二遮光区的光刻胶用显影剂冲洗去除后，用异丙醇冲洗后用氮气进行干燥形成第二光刻胶层。

进一步地，所述金属层的材质包括铬，采用氢氟酸蚀刻去除所述玻璃基片。

进一步地，在所述蚀刻去除所述玻璃基片以及剩余的金属层之前还包括：在所述第二光刻胶层上环绕所述第二通孔密封贴附离散相进给装置的通气管。

本发明的有益效果在于，提供一种薄膜乳化装置及其制作方法，通过蚀刻去除玻璃基片以及金属层的方式制作具有第一光刻胶层和第二光刻胶层的薄膜，使得薄膜具有第二通孔与第一通孔对应连通的多个通孔结构，用以通过离散相；能够满足减薄薄膜厚度要求且保证其在承受高压时而不破碎，同时薄膜上的孔径均匀度极好且尺寸很小。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，呈现本申请的技术方案及其它有益效果。

图1为现有技术中离散相通过薄膜小孔流出在连续相中形成微球的原理图。

图2为本申请实施例提供的薄膜乳化装置中的薄膜的俯视图。

图3为图2中在A-A处的截面图。

图4为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在曝光光刻胶形成第一光刻胶层时的结构示意图。

图5为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在涂布光刻胶形成第二光刻胶层时的结构示意图。

图6为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在涂布光刻胶曝光光刻胶形成第二光刻胶层时的结构示意图。

图7为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中形成薄膜的通孔结构时的结构示意图。

图8为本申请实施例提供的薄膜乳化装置中在薄膜上贴附离散相进给装置的通气管的结构示意图。

图9为本申请实施例提供的薄膜乳化装置的结构示意图。

图10为本申请实施例提供的薄膜乳化装置的使用状态结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

具体的，请参阅图2至图10，本申请实施例提供一种薄膜乳化装置，用于制作离散相微球，包括具有多个通孔结构的薄膜10，用以通过离散相。其中所述薄膜10包括第一光刻胶层11和第二光刻胶层12，所述通孔结构包括设于所述第一光刻胶层11上的第一通孔1以及设于所述第二光刻胶层12上的第二通孔2，且所述第二通孔2与所述第一通孔1对应连通；所述第一光刻胶层11的厚度小于所述第二光刻胶层12的厚度，所述第一通孔1的尺寸小于所述第二通孔2的尺寸。

进一步地，所述第一通孔1和所述第二通孔2的形状均为正方体形，所述第一通孔1与所述第二通孔2在垂直于所述薄膜10方向上同轴设置。

进一步地，所述第一通孔1的横截面和所述第二通孔2的横截面均为正方形，且所述第一通孔1的边与所述第二通孔2的边平行设置；所述第一通孔1的横截面的边与所述第二通孔2的横截面的边的长度比值为1：20至1：10。

进一步地，所述第一光刻胶层11的厚度等于所述第一通孔1的横截面的边的长度，所述第二光刻胶层12的厚度等于所述第二通孔2的横截面的边的长度。具体的，所述薄膜10的厚度为21um，所述第一光刻胶层11的厚度为1um，所述第一通孔1的横截面的边的长度为1um，所述第二光刻胶层12的厚度为20um，所述第二通孔2的横截面的边的长度为20um。

请参阅图10，进一步地，所述薄膜乳化装置100还包括：离散相进给装置20，与所述薄膜10的一侧相连，用以控制向所述薄膜10供应的离散相流量；以及磁力搅拌器30，以向离散相提供剪切力，其中剪切力方向平行于所述薄膜10的表面，垂直于离散相流动方向。

请参阅图10，进一步地，所述薄膜10与所述离散相进给装置20密封相连；所述磁力搅拌器30上放置一收纳器40，用于放置连续相并收纳制作的离散相微球。

基于前文所述的膜乳化装置，本申请还提供一种薄膜乳化装置100的制作方法，包括制作薄膜10步骤；所述制作薄膜10步骤包括：在一玻璃基片13上制作一金属层14，在所述金属层14上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层11，所述第一光刻胶层11上设有第一通孔1；蚀刻所述金属层14，保留位于所述第一光刻胶层11下方的金属层14；在所述玻璃基片13上及所述第一光刻胶层11上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层12，所述第二光刻胶层12上设有第二通孔2，且所述第二通孔2与所述第一通孔1对应连通；所述第一通孔1的尺寸小于所述第二通孔2的尺寸；以及蚀刻去除所述玻璃基片13以及剩余的金属层14。

进一步地，所述在所述金属层14上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层11的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第一掩膜板21，所述第一掩膜板21设有第一遮光区211和第一透光区212，所述第一透光区212的形状为第一通孔1的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第一遮光区211的光刻胶用显影剂冲洗去除，经氧气等离子清洗后形成第一光刻胶层11；进一步地，所述在所述玻璃基片13上及所述第一光刻胶层11上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层12的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第二掩膜板22，所述第二掩膜板22设有第二遮光区221和第二透光区222，所述第二透光区222的形状为第二通孔2的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第二遮光区221的光刻胶用显影剂冲洗去除后，用异丙醇冲洗后用氮气进行干燥形成第二光刻胶层12。

进一步地，所述金属层14的材质包括铬，采用氢氟酸蚀刻去除所述玻璃基片13。

进一步地，在所述蚀刻去除所述玻璃基片13以及剩余的金属层14之前还包括：在所述第二光刻胶层12上通过AB胶15环绕所述第二通孔2密封贴附离散相进给装置20的通气管。

本发明通过蚀刻去除玻璃基片13以及金属层14的方式制作具有第一光刻胶层11和第二光刻胶层12的薄膜10，使得薄膜10具有第二通孔2与第一通孔1对应连通的多个通孔结构，用以通过离散相；能够满足减薄薄膜10厚度要求且保证其在承受高压时而不破碎，同时薄膜10上的孔径均匀度极好且尺寸很小。

下面通过对本申请的具体实施方式详细描述，详细介绍其原理。

如前所述，该薄膜10需满足两个基本要求，制作小尺寸微球和能够承受大约120kPa的压力，本专利所提出的多层结构设计可满足这两个基本要求，其基本结构如图2所示。该薄膜10有两层结构组成，上层结构为边长和深度均为20μm的正方形孔，下层结构为边长和深度均为1μm的正方形孔。图3为该多孔薄膜10的截面尺寸，可以看出该薄膜10的上层孔结构可满足薄膜10的抗压能力要求，而下层孔结构可满足制作小尺寸微球的要求。由于该薄膜10的多层结构设计，其在深宽比方面的可制作性也有较大提高(上层结构为20:20，下层结构为1:1)，可由光刻技术进行制作。

在制作薄膜10时，光刻胶使用SU-8 2000系列，SU-8 2000系列适用于厚膜0.5至＞200μm和高深宽比＞10∶1。制作薄膜10的方法具体如下：

(a)铬溅射

在厚度为100μm的玻璃基片13溅射一层厚度为120nm的铬形成金属层14。由于玻璃基片13与SU-8均为透明材质，该铬层的主要作用为孔的观测和对准标记的对齐。

(b)SU-8旋涂(1μm)

SU-8 2001旋涂于铬层上，1500转/分钟(rpm)持续3秒(s)，然后4000rpm持续30s。接下来在95℃下软烘1分钟。

(c)标记对准

将掩膜板21采用两个十字标记对准方式对准设置。

(d)曝光

将所得光刻胶进行曝光，所用激光功率为100mW，波长为355nm。如图4所示，图4为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在曝光光刻胶形成第一光刻胶层11时的结构示意图。

(e)曝光后烘烤(PEB)

将光刻胶在95℃下烘烤1分钟。

(f)显影

将光刻胶在显影剂(丙二醇甲醚醋酸酯，PGMEA)中浸泡1分钟，然后用异丙醇(IPA)冲洗30秒，最后用氮气(N₂)进行干燥。所得光刻胶对应不透明区域被去除，得到第一通孔1孔径为1×1μm²的第一光刻胶层11。

(g)氧气-等离子体去渣清洗5分钟。

(h)边界铬刻蚀

多孔区域外的铬需要去除。将区域外的铬用刻蚀液浸泡45秒，然后用蒸馏水冲洗干净。值得注意的是，此步骤仅是去除边界的铬金属层14。

(i)SU-8旋涂(20μm)

SU-8 2025旋涂于玻璃基片13和第一光刻胶层11上，500rpm持续1秒。然后，旋涂速度在10秒内加速至4000rpm，保持30秒。接下来光刻胶在65℃下软烘1分钟，然后使温度升至95℃，保持5分钟。如图5所示，图5为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在涂布光刻胶形成第二光刻胶层12时的结构示意图。

(j)标记对准

将掩膜板21采用两个十字标记用来对准两层SU-8膜层。第一层SU-8膜层上的十字标记被第二层SU-8膜层上的十字标记完全覆盖。此时可使得制备的所述第二通孔2与所述第一通孔1对应连通。

(k)曝光

将所得光刻胶进行曝光，所用激光功率为100mW，波长为355nm。如图6所示，图6为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中在涂布光刻胶曝光光刻胶形成第二光刻胶层12时的结构示意图。

(l)曝光后烘烤(PEB)

将光刻胶在65℃下烘烤1分钟，然后将温度升至95℃，烘烤5分钟。

(m)显影

将光刻胶在显影剂(丙二醇甲醚醋酸酯，PGMEA)中浸泡4分钟，然后用异丙醇(IPA)冲洗30秒，最后用氮气(N₂)进行干燥。所得光刻胶对应不透明区域被去除，得到第二通孔2孔径为20×20μm²的第二光刻胶层12。如图7所示，图7为本申请实施例提供的制备薄膜乳化装置方法中形成薄膜的通孔结构时的结构示意图。

(n)粘接至一丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)管

将环氧树脂907AB胶15混合3分钟，等待30分钟。然后将涂抹过AB胶15的ABS管的管口放置在第二光刻胶层12上，ABS管为离散相进给装置20的通气管。等待12小时，通气管可与第二光刻胶层12粘接牢固。图8为本申请实施例提供的薄膜乳化装置中在薄膜上贴附离散相进给装置20的通气管(ABS管)的结构示意图。

(o)去除玻璃基片13与铬金属层14

第一天，玻璃基片13浸入5％的氢氟(HF)酸溶液8小时。第二天，玻璃基片13再次浸入5％的氢氟酸溶液5小时，用于完全去除玻璃基片13。接下来铬金属层14放入铬刻蚀液3至4分钟，去除铬金属层14，然后用蒸馏水清洗干净，用氮气进行干燥。此次实验加工出三个多孔薄膜用以测试该结构制作微球的可行性，如图9所示。图9为本申请实施例提供的薄膜乳化装置的结构示意图。

如图10所示，为本申请的薄膜乳化装置的使用状态结构示意图。下面经过实验验证薄膜可在离散相流量或者搅拌速度较大的条件下，制作出小尺寸、均匀度较好的微球。

本次测试实验中，连续相采用含有2％Span 80表面活性剂的石蜡油(均为Sigma-Aldrich公司，美国)。离散相采用蒸馏水。多层结构薄膜如上所述采用SU-8 2000系列，在加拿大光源中心(CLS)的微纳加工实验室(SyLMAND)加工而成。

磁力搅拌器(Corning PC 210,Corning公司,美国)用来提供剪切力。注射泵采用美国哈佛设备仪器公司，用来控制离散相的流量，使用前需要校准。注射器使用爱尔兰Covidien公司的6毫升注射器，聚四氟乙烯(PTFE)管使用英国Adtech Polymer工程机械公司的1.34mm管。显微镜使用日本奥林巴斯公司的Olympus IX70光学倒置显微镜，用来观测微球形成过程。后处理软件采用美国国家健康中心的ImageJ软件，用来分析测量微球尺寸。每个微球尺寸都需测量5次以上取平均。测试实验均在微纳加工实验室完成，实验条件为室温(20℃±2℃)。

使离散相能顺利通过薄膜的最小压强为

其中γ为连续相和离散相之前的界面张力；θ为离散相与薄膜在连续相内的接触角；d_p为孔径。在本研究中，界面张力γ＝3.65×10^-3N.m^-1,离散相与薄膜在连续相内的接触角θ假定为0。因此，最小压强

由此计算离散相的流量约为5μl·h^-1。在测试试验中，离散相的流量被设定为最小流量的10倍，约为50μl·h^-1。磁力搅拌器的搅拌速度分别设定为60、80和100rpm。微球形成后，从烧杯中提取1ml含有微球的连续相放置在干净的培养皿中用来观测微球尺寸。本次实验中所使用的的显微镜分辨率为1μm，后处理分析软件可通过插值拟合的方法使分辨率低至0.01μm。烧杯内悬浮于连续相中的白色小点即为生成的微球。在搅拌速度分别为60,80和100rpm下，通过该SU-8薄膜所生成的微球。可知，搅拌速度的提高将会导致微球尺寸的降低，这是因为较高的搅拌速度将会导致较大的剪切应力。

因此，该SU-8薄膜可制作出小尺寸且均匀度较好的微球，并且由于薄膜破裂是由于承受压强过大，而压强的大小与离散相流量和搅拌速度密切相关，使用该薄膜，离散相流量可提升至4500μl·h^-1(搅拌速度为100rpm条件下)。同样的，搅拌速度也可从100rpm进一步提高，导致连续相提供的剪切力增大，产生的微球尺寸也会进一步减小。

综上所述，本专利提出的薄膜可在离散相流量或者搅拌速度较大的条件下，制作出小尺寸、均匀度较好的微球。该结果是由于薄膜的多层结构决定(孔径为1μm的薄膜厚度为1μm，孔径为20μm的薄膜厚度为20μm)。

本说明提出了一个薄膜乳化装置的设计、加工和测试过程。该新型薄膜的创新之处在于多层结构，该多层结构可以保证小孔径的同时薄膜的强度也大幅提高。该薄膜由SU-8系列光刻胶，采用光刻技术制成。测试结果表明，该薄膜所制微球在尺寸和均匀度方面表现良好。由于SU-8光刻胶价格低廉，光刻技术也已成为相当成熟的微流控加工技术，该薄膜在成本方面也具有很大优势。据作者所知，这也是SU-8光刻胶首次应用于薄膜乳化装置的制作。

本申请已由上述相关实施例加以描述，然而上述实施例仅为实施本申请的范例。必需指出的是，已公开的实施例并未限制本申请的范围。相反地，包含于权利要求书的精神及范围的修改及均等设置均包括于本申请的范围内。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims

1.一种薄膜乳化装置，用于制作离散相微球，其特征在于，包括：薄膜，具有多个通孔结构，用以通过离散相；

其中所述薄膜包括第一光刻胶层和第二光刻胶层，所述通孔结构包括设于所述第一光刻胶层上的第一通孔以及设于所述第二光刻胶层上的第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔对应连通；所述第一光刻胶层的厚度小于所述第二光刻胶层的厚度，所述第一通孔的尺寸小于所述第二通孔的尺寸；

所述第一通孔和所述第二通孔的形状均为正方体形，所述第一通孔与所述第二通孔在垂直于所述薄膜方向上同轴设置；

所述第一通孔的横截面和所述第二通孔的横截面均为正方形，且所述第一通孔的边与所述第二通孔的边平行设置；

所述第一光刻胶层的厚度等于所述第一通孔的横截面的边的长度，所述第二光刻胶层的厚度等于所述第二通孔的横截面的边的长度；

所述薄膜乳化装置还包括离散相进给装置，所述离散相进给装置与所述薄膜的第二通孔侧相连，用以控制向所述薄膜供应的离散相流量；其中所述薄膜的厚度为21μm,所述第一光刻胶层的厚度为1μm,所述第一通孔的横截面的边的长度为1μm,所述第二光刻胶层的厚度为20μm,所述第二通孔的横截面的边的长度为20μm。

2.如权利要求1所述的薄膜乳化装置，其特征在于，还包括：

磁力搅拌器，以向离散相提供剪切力，其中剪切力方向垂直于离散相流动方向。

3.如权利要求2所述的薄膜乳化装置，其特征在于，所述磁力搅拌器上放置一收纳器，用于放置连续相并收纳制作的离散相微球。

4.一种权利要求1所述的薄膜乳化装置的制作方法，其特征在于，包括制作薄膜步骤；

所述制作薄膜步骤包括：

在一玻璃基片上制作一金属层，在所述金属层上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层上设有第一通孔；

蚀刻所述金属层，保留位于所述第一光刻胶层下方的金属层；

在所述玻璃基片上及所述第一光刻胶层上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层，所述第二光刻胶层上设有第二通孔，且所述第二通孔与所述第一通孔对应连通；所述第一通孔的尺寸小于所述第二通孔的尺寸；以及

蚀刻去除所述玻璃基片以及剩余的金属层。

5.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，

所述在所述金属层上涂布光刻胶并图案化处理形成第一光刻胶层的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第一掩膜板，所述第一掩膜板设有第一遮光区和第一透光区，所述第一透光区的形状为第一通孔的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第一遮光区的光刻胶用显影剂冲洗去除，经氧气等离子清洗后形成第一光刻胶层；所述在所述玻璃基片上及所述第一光刻胶层上涂布光刻胶并图案化处理形成第二光刻胶层的步骤包括：在涂布的光刻胶上方设置第二掩膜板，所述第二掩膜板设有第二遮光区和第二透光区，所述第二透光区的形状为第二通孔的横截面，通过激光曝光并烘烤固化所述光刻胶后将对应所述第二遮光区的光刻胶用显影剂冲洗去除后，用异丙醇冲洗后用氮气进行干燥形成第二光刻胶层。

6.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述金属层的材质包括铬，采用氢氟酸蚀刻去除所述玻璃基片。

7.如权利要求4所述的制作方法，其特征在于，在所述蚀刻去除所述玻璃基片以及剩余的金属层之前还包括：

在所述第二光刻胶层上环绕所述第二通孔密封贴附离散相进给装置的通气管。