CN114507844A - 一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备 - Google Patents

一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备 Download PDF

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Abstract

本申请公开了一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，用以提高蒸镀稳定性、提升蒸镀品质。本申请实施例提供的一种坩埚盖，坩埚盖包括：盖片，具有第一开口；喷嘴，在盖片的一侧与第一开口的边缘连接；螺旋结构，在第一开口之外的区域且在盖片背离喷嘴一侧与盖片连接；螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠。

Description

一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备
技术领域
本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)显示作为下一代显示技术，是现当今各项技术研究的热门领域。
OLED制备工艺中，蒸镀机通过蒸镀设备将材料蒸发到玻璃基板上，完成蒸镀工艺，其中金属腔室中的点源便是蒸镀设备的一种。蒸镀设备包括加热器、坩埚，坩埚内装有金属材料，通常的蒸镀工艺温度为500℃～1200℃。在生产工艺过程中，为了保持材料蒸发到玻璃基板上的材料厚度均匀性，对蒸镀工艺温度的波动性、蒸发速率的稳定性要求极高；坩埚内的金属材料可能会由于材料特性、环境温度的原因而产生不稳定状态，造成各种产品不良。例如，在高温的生产工艺过程中，金属材料在蒸发过程中由于不稳定，从坩埚喷嘴处的开口喷出形成无规律运动的金属飞溅液体，造成蒸镀设备电路短路的风险；金属材料在坩埚喷嘴附近以液态形式存在凝露现象，积累过多的材料会以液滴状态直接掉落至坩埚内产生“水花”，与底部沸腾的金属材料发生冲击会更多的产生金属颗粒与飞溅的液体，导致飞溅液体直接随着气流附着至玻璃基板表面形成产品不良；并且材料喷溅和液体掉落现象同时会造成坩埚内部蒸发气流扰动，造成生产的无法连续，只有等速率稳定后方可继续生产。综上，现有技术中，利用蒸镀设备进行蒸镀的过程中蒸镀稳定性不佳，影响产品良率以及生产效率。
发明内容
本申请实施例提供了一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，用以提高蒸镀稳定性、提升蒸镀品质。
本申请实施例提供的一种坩埚盖，坩埚盖包括：
盖片，具有第一开口；
喷嘴，在盖片的一侧与第一开口的边缘连接；
螺旋结构，在第一开口之外的区域且在盖片背离喷嘴一侧与盖片连接；螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠。
在一些实施例中，螺旋结构包括：至少一组螺旋叶片。
在一些实施例中，至少一组螺旋叶片在盖片的正投影覆盖第一开口。
在一些实施例中，螺旋叶片的螺旋轴线在盖片的正投影与第一开口的中心重合。
在一些实施例中，在螺旋叶片的螺旋轴线延伸方向上，每层螺旋叶片的高度大于等于1厘米且小于等于1.5厘米。
本申请实施例提供的一种蒸镀坩埚，蒸镀坩埚包括：坩埚本体，以及本申请实施例提供的坩埚盖；
坩埚盖与坩埚本体盖合。
在一些实施例中，螺旋结构在盖片的正投影的形状与坩埚本体横截面的形状相似。
在一些实施例中，螺旋结构与坩埚本体内壁之间的间隙小于等于1.5毫米。
在一些实施例中，螺旋结构靠近坩埚本体底部的一端与坩埚本体的侧壁接触。
本申请实施例提供的一种蒸镀设备，包括本申请实施例提供的蒸镀坩埚。
本申请实施例提供的坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，在盖片背离喷嘴一侧设置有螺旋结构，并且螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠，即螺旋结构可以遮挡第一开口，这样当本申请实施例提供的坩埚盖应用于蒸镀场景，即便蒸镀坩埚本体内的液体处于不稳定状态，也不会出现液体从坩埚盖的喷嘴直接飞溅的情况，可以避免造成蒸镀设备电路短路的风险。并且，由于螺旋结构遮挡第一开口，即便在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴，液滴沿着螺旋结构流动而不是直接从喷嘴处掉落至蒸镀坩埚本体内造成液体飞溅，从而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。还可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚本体内部蒸发气流扰动，可以提供蒸镀稳定性，提高产品制备效率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域的普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种坩埚盖的结构示意图；
图2为本申请实施例提供的一种坩埚盖另一视角的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的一种蒸镀坩埚的结构示意图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例的附图，对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。并且在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。基于所描述的本申请的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
除非另外定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本申请所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本申请中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。
需要注意的是，附图中各图形的尺寸和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本申请内容。并且自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。
本申请实施例提供了一种坩埚盖，如图1所示，坩埚盖包括：
盖片1，具有第一开口2；
喷嘴3，在盖片1的一侧与第一开口2的边缘连接；
螺旋结构4，在第一开口2之外的区域且在盖片1背离喷嘴一侧与盖片连接；螺旋结构4在盖片1的正投影与第一开口2具有交叠。
本申请实施例提供的坩埚盖，在盖片背离喷嘴一侧设置有螺旋结构，并且螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠，即螺旋结构可以遮挡第一开口，这样当本申请实施例提供的坩埚盖应用于蒸镀场景，即便蒸镀坩埚本体内的液体处于不稳定状态，也不会出现液体从坩埚盖的喷嘴直接飞溅的情况，可以避免造成蒸镀设备电路短路的风险。并且，由于螺旋结构遮挡第一开口，即便在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴，液滴沿着螺旋结构流动而不是直接从喷嘴处掉落至蒸镀坩埚本体内造成液体飞溅，从而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。还可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚本体内部蒸发气流扰动，可以提高蒸镀稳定性，提高产品制备效率。
在一些实施例中，盖片、喷嘴、螺旋结构可以包括相同的材料。例如盖片、喷嘴、螺旋结构包括钽等耐高温材料。在具体实施时，盖片、喷嘴、螺旋结构可以一体成型。
在一些实施例中，如图1所示，螺旋结构4包括：至少一组螺旋叶片5。
图1中以螺旋结构包括两组螺旋叶片为例进行举例说明。需要说明的是，螺旋结构的设置可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚本体内部蒸发气流扰动，从而可以对蒸镀坩埚本体内部压力分布进行控制。在具体实施时，螺旋叶片的数量可以根据实际需要进行设置。
在一些实施例中，如图2所示，至少一组螺旋叶片5在盖片1的正投影覆盖第一开口。
需要说明的是，图2为从螺旋结构底部视角的坩埚盖的示意图。
本申请实施例提供的坩埚盖，螺旋叶片在盖片的正投影覆盖第一开口，从而可以保证螺旋结构对第一开口的遮挡效果，当坩埚盖应用于蒸镀设备时，即便蒸镀材料处于不稳定状态，也可以避免液体蒸镀材料从坩埚盖的喷嘴直接飞溅的情况，可以避免造成蒸镀设备电路短路的风险。并且还可以确保在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴沿着螺旋结构流动，以避免蒸镀材料液滴直接从第一开口掉落造成蒸镀材料飞溅影响蒸镀图案，提升蒸镀品质。
在一些实施例中，第一开口的中心与盖片的中心重合。
在一些实施例中，螺旋叶片的螺旋轴线在盖片的正投影与第一开口的中心重合。
在一些实施例中，螺旋叶片的表面为曲面。
从而可以更利于在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴沿着螺旋叶片流动。
在一些实施例中，如图1所示，喷嘴3的横截面积在远离盖片的方向上逐渐减小。当本申请实施例提供的坩埚盖应用于蒸镀设备时，从而可以达到聚拢气流的效果。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供了一种蒸镀坩埚，如图3所示，蒸镀坩埚包括：坩埚本体6，以及本申请实施例提供的坩埚盖7；
坩埚盖7与坩埚本体6盖合。
本申请实施例提供的蒸镀坩埚，包括本申请实施例提供的上述坩埚盖，坩埚盖包括在盖片背离喷嘴一侧设置的螺旋结构，并且螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠，即螺旋结构可以遮挡第一开口，即便蒸镀坩埚的坩埚本体内的液体处于不稳定状态，也不会出现液体从坩埚盖的喷嘴直接飞溅的情况，可以避免造成蒸镀设备电路短路的风险。并且，由于螺旋结构遮挡第一开口，即便在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴，液滴沿着螺旋结构流动而不是直接从喷嘴处掉落至蒸镀坩埚本体内造成液体飞溅，从而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。还可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚的坩埚本体内部蒸发气流扰动，可以提高蒸镀稳定性，提高产品制备效率。
在一些实施例中，螺旋结构在盖片的正投影的形状与坩埚本体横截面的形状相似。
本申请实施例提供的蒸镀坩埚，螺旋结构在盖片的正投影的形状与坩埚本体横截面的形状相似，在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴可以沿着螺旋结构流动并沿坩埚本体的侧壁滑落至坩埚本体容纳的蒸镀材料中，从而可以避免在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴从螺旋结构直接掉落至坩埚本体内容纳的蒸镀材料造成液体飞溅，避免液体滴落与坩埚本体内容纳的蒸镀材料发生冲击产生金属颗粒的可能，进而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。
在具体实施时，当螺旋结构包括螺旋叶片，螺旋叶片在盖片的正投影的形状与坩埚本体横截面的形状相似。
在一些实施例中，坩埚本体横截面为圆形，则螺旋叶片在盖板的正投影的形状为圆形。
当然，坩埚本体横截面以及螺旋叶片在盖板的正投影也可以是其他形状。
本申请实施例提供的蒸镀坩埚，螺旋结构在盖片的正投影的形状与坩埚本体横截面的形状相似，在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴可以沿着螺旋结构流动并沿坩埚本体的侧壁滑落至坩埚本体容纳的蒸镀材料中，从而可以避免在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴从螺旋结构直接掉落至坩埚本体内容纳的蒸镀材料造成液体飞溅，避免液体滴落与坩埚本体内容纳的蒸镀材料发生冲击产生金属颗粒的可能，进而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。
在一些实施例中，螺旋结构与坩埚本体内壁之间的间隙小于等于1.5毫米。
即螺旋结构与坩埚本体内壁之间的间隙较小，进一步保证在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴可以沿着螺旋结构流动并沿坩埚本体的侧壁滑落至坩埚本体容纳的蒸镀材料中，从而可以避免在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴从螺旋结构直接掉落至坩埚本体内容纳的蒸镀材料造成液体飞溅，避免液体滴落与坩埚本体内容纳的蒸镀材料发生冲击产生金属颗粒的可能，进而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。
在具体实施时，当螺旋结构包括螺旋叶片时，螺旋叶片与坩埚本体内壁之间的间隙小于等于1.5毫米。
在一些实施例中，螺旋结构靠近坩埚本体底部的一端与坩埚本体的侧壁接触。
本申请实施例提供的蒸镀坩埚，螺旋结构靠近坩埚本体底部的一端与坩埚本体的侧壁接触，进一步保证在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴沿着螺旋结构流动并在螺旋结构的末端沿坩埚本体的侧壁滑落至坩埚本体容纳的蒸镀材料中，避免液体滴落与坩埚本体内容纳的蒸镀材料发生冲击产生金属颗粒的可能，进而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。
在具体实施时，当螺旋结构包括螺旋叶片时，如图3所示，螺旋叶片5靠近坩埚本体6底部的一端与坩埚本体6的侧壁接触。图3中示意出液滴8沿螺旋叶片5流动并流动至螺旋叶片5的末端，之后沿坩埚本体6的侧壁滑落，避免液滴8滴落与坩埚本体6内容纳的蒸镀材料9发生冲击产生金属颗粒。
在一些实施例中，在螺旋叶片的螺旋轴线延伸方向上，每层螺旋叶片的高度大于等于1厘米且小于等于1.5厘米。
需要说明的是，螺旋叶片的设置可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚本体内部蒸发气流扰动，从而可以对蒸镀坩埚本体内部压力分布进行控制。在具体实施时，螺旋叶片的数量可以根据实际需要进行设置。例如可以根据坩埚本体内部的实际高度对螺旋叶片的高度及螺旋叶片的数量进行设置。
本申请实施例提供的一种蒸镀设备，包括本申请实施例提供的蒸镀坩埚。
在一些实施例中，蒸镀设备还包括与蒸镀坩埚对应的加热部件。
在具体实施时，加热部件用于向蒸镀坩埚提供热源。蒸镀坩埚的坩埚本体内容纳的蒸镀材料在加热部件的作用下，蒸镀材料气化并从喷嘴排出，沉积于蒸镀基板，在蒸镀基板形成相应图案。
在具体实施时，加热部件设置与蒸镀坩埚的坩埚本体外侧。
在一些实施例中，蒸镀设备还包括壳体；蒸镀坩埚设置于壳体内。
综上所述，本申请实施例提供的坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，在盖片背离喷嘴一侧设置有螺旋结构，并且螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠，即螺旋结构可以遮挡第一开口，这样当本申请实施例提供的坩埚盖应用于蒸镀场景，即便蒸镀坩埚本体内的液体处于不稳定状态，也不会出现液体从坩埚盖的喷嘴直接飞溅的情况，可以避免造成蒸镀设备电路短路的风险。并且，由于螺旋结构遮挡第一开口，即便在喷嘴处存在积累过多的蒸镀材料液滴，液滴沿着螺旋结构流动而不是直接从喷嘴处掉落至蒸镀坩埚本体内造成液体飞溅，从而可以避免飞溅的液体随气流附着至待蒸镀基板影响蒸镀图案，可以提高产品良率、提升蒸镀品质、避免蒸镀材料浪费。还可以避免由于材料喷溅和液体掉落现象造成的蒸镀坩埚本体内部蒸发气流扰动，可以提高蒸镀稳定性，提高产品制备效率。
尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
显然，本领域的技术人员可以对本申请进行各种改动和变型而不脱离本申请的精神和范围。这样，倘若本申请的这些修改和变型属于本申请权利要求及其等同技术的范围之内，则本申请也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种坩埚盖，其特征在于，所述坩埚盖包括：
盖片，具有第一开口；
喷嘴，在所述盖片的一侧与所述第一开口的边缘连接；
螺旋结构，在所述第一开口之外的区域且在所述盖片背离所述喷嘴一侧与所述盖片连接；所述螺旋结构在所述盖片的正投影与所述第一开口具有交叠。
2.根据权利要求1所述的坩埚盖，其特征在于，所述螺旋结构包括：至少一组螺旋叶片。
3.根据权利要求2所述的坩埚盖，其特征在于，所述至少一组螺旋叶片在所述盖片的正投影覆盖所述第一开口。
4.根据权利要求3所述的坩埚盖，其特征在于，所述螺旋叶片的螺旋轴线在所述盖片的正投影与所述第一开口的中心重合。
5.根据权利要求2～4任一项所述的坩埚盖，其特征在于，在所述螺旋叶片的螺旋轴线延伸方向上，每层所述螺旋叶片的高度大于等于1厘米且小于等于1.5厘米。
6.一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，以及根据权利要求1～5任一项所述的坩埚盖；
所述坩埚盖与所述坩埚本体盖合。
7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构在所述盖片的正投影的形状与所述坩埚本体横截面的形状相似。
8.根据权利要求7所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构与所述坩埚本体内壁之间的间隙小于等于1.5毫米。
9.根据权利要求8所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述螺旋结构靠近所述坩埚本体底部的一端与所述坩埚本体的侧壁接触。
10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括根据权利要求6～9任一项所述的蒸镀坩埚。
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