CN114457315B - 一种玻璃磁控溅射镀膜*** - Google Patents

一种玻璃磁控溅射镀膜*** Download PDF

Info

Publication number
CN114457315B
CN114457315B CN202111628913.4A CN202111628913A CN114457315B CN 114457315 B CN114457315 B CN 114457315B CN 202111628913 A CN202111628913 A CN 202111628913A CN 114457315 B CN114457315 B CN 114457315B
Authority
CN
China
Prior art keywords
chamber
lifting
coating
vacuum
chambers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202111628913.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114457315A (zh
Inventor
倪值森
陈诚
赵琰
张见平
吴俊保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaisheng Information Display Materials Luoyang Co ltd
Original Assignee
Kaisheng Information Display Materials Luoyang Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaisheng Information Display Materials Luoyang Co ltd filed Critical Kaisheng Information Display Materials Luoyang Co ltd
Priority to CN202111628913.4A priority Critical patent/CN114457315B/zh
Publication of CN114457315A publication Critical patent/CN114457315A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114457315B publication Critical patent/CN114457315B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M3/00—Investigating fluid-tightness of structures
    • G01M3/02—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum
    • G01M3/04—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point
    • G01M3/20—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material
    • G01M3/202—Investigating fluid-tightness of structures by using fluid or vacuum by detecting the presence of fluid at the leakage point using special tracer materials, e.g. dye, fluorescent material, radioactive material using mass spectrometer detection systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
    • C03C2218/156—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by magnetron sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明提供一种玻璃磁控溅射镀膜***，包括连续型镀膜过渡腔室，所述连续型镀膜过渡腔室由若干真空腔室直列互通式焊接排列组成，所述升降镀膜腔室通过升降机构在升降套内升降平移使得上下两组真空镀膜腔室与连续型镀膜过渡腔室交替配合，所述真空镀膜腔室两侧均开设有环形封闭槽，两侧的所述环形封闭槽内均安装有闭合气缸，所述封闭挡板一侧还通过管道与氦质谱检漏仪连通，本发明通过在镀膜腔室设置可上下替换的平移式并列腔室结构，通过并列腔室的上下平移从而实现不同腔体与连续型镀膜过渡腔室的间歇性配合，从而有效解决了因磁场分布不均、换靶及检漏等操作造成的长时间停工停产现象，进而有效提高生产效率。

Description

一种玻璃磁控溅射镀膜***
技术领域
本发明涉及磁控溅射镀膜***技术领域，具体为一种玻璃磁控溅射镀膜***。
背景技术
现有技术中公开号为“CN206970710U”的一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空***，包括进片移动架、上片架、回片架、下片架、出片移动架及管道，还包括由安装在底架上的进片真空腔、进片粗真空缓冲腔、进片高真空缓冲腔、进片过渡真空腔、镀膜工艺真空腔、出片过渡真空腔、出片高真空缓冲腔、出片粗真空缓冲腔、出片真空腔依次胶圈密封连接组成，所述每个腔体正面安装有通过胶圈密封的维修门，所述进片真空腔和进片粗真空缓冲腔右侧分别安装有一个进片抽气***和一个进片粗真空抽气***；上述装置连续镀膜生产线为九段真空结构，可以实现有快速的从大气状态下抽气到真空镀膜真空状态；并实现连续批量生产，生产效率高，故障率小。
但是上述该对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空***在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：1、上述装置的连续镀膜腔室为直列互通式，然而在实际生产过程中，磁场分布不均匀及真空度不达标等现象时有发生，进而对膜层的分布产生影响，此外，磁控溅射镀膜的靶材也会因为损耗或材质替换而进行更换，在上述状况下，由于采用直列互通式结构，任意腔室的检修均需对整条产线进行停机停产，进而大大影响生产效率，且磁场分布不均匀、换靶以及检漏工作动辄花费数小时时间，且面临不断进片调试过程，延误生产进度的同时造成大量玻璃基板的报废，不利于企业降本降耗工作的落实；2、由于镀膜腔室内部结构复杂，在实际生产过程中由于靶材安装和磁场调整等工序，需要时常将镀膜腔室的舱门打开以便对内部进行人工调整，在此过程中受到腔室结构及封闭胶圈的影响，导致镀膜腔室相比于其他全封闭腔室而言更容易发生漏气现象，而现有技术中的漏气点查找通常需要人工在可疑漏气点位置喷射少量氦气，利用氦质谱检漏仪从镀膜腔室内部抽气来查找漏气点，该过程需要对腔室外部进行细致检查，而人工检漏往往容易遗漏检测区，进而延误漏气位置的查找，进而造成停工停产时间的延长，且在检测过程中需要耗费大量的时间和精力，给检漏人员造成较大的工作压力和心理负担。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃磁控溅射镀膜***，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种玻璃磁控溅射镀膜***，包括连续型镀膜过渡腔室，所述连续型镀膜过渡腔室由若干真空腔室直列互通式焊接排列组成，所述连续型镀膜过渡腔室中部一体式焊接设置有若干与相邻真空腔室左右贯通的升降套，若干所述升降套内一一对应设置有升降镀膜腔室，所述升降镀膜腔室由上下两组相同的真空镀膜腔室并行排列焊接组成，所述升降镀膜腔室通过升降机构在升降套内升降平移使得上下两组真空镀膜腔室与连续型镀膜过渡腔室交替配合，上下的所述真空镀膜腔室两侧均开设有环形封闭槽，两侧的所述环形封闭槽内均安装有闭合气缸，所述闭合气缸的伸缩臂均固定安装在同一环形推进板上，所述环形推进板远离闭合气缸一端固定连接有环形密封胶圈，所述环形密封胶圈通过挤压膨胀作用将真空镀膜腔室与相邻的真空腔室形成的接缝处封闭；
若干所述升降套上下两侧均固定安装有一对封闭挡板，上下的所述封闭挡板分别与升降镀膜腔室上下并行排列的真空镀膜腔室活动配合形成负压空间，上下两侧的所述封闭挡板位于真空镀膜腔室两侧分别升降式安装有检漏伸缩气杆，所述检漏伸缩气杆的伸缩臂上还固定安装有氦气喷头，两侧的所述氦气喷头相对设置，所述氦气喷头通过电磁阀与氦气罐连通，上下的所述封闭挡板一侧还通过管道与氦质谱检漏仪连通，所述氦质谱检漏仪用于测定负压空间内部的氦气含量。
优选的，所述升降镀膜腔室内布设有蛇形降温通道，所述蛇形降温通道首尾分别与进水管和出水管连通，所述进水管和出水管分别通过阀门与循环散热挠性管连通。
优选的，所述升降镀膜腔室上下两侧均安装有分子泵，上下的所述分子泵分别与上下的真空镀膜腔室内部连通。
优选的，若干所述真空腔室包括从进片端从前向后依次排列的进片腔室、过渡加热腔室、出片过渡腔室和出片腔室。
优选的，所述过渡加热腔室和出片过渡腔室一侧均固定安装有分子泵，所述进片腔室与过渡加热腔室、出片过渡腔室与出片腔室之间还设置有气动开闭阀门。
优选的，与真空镀膜腔室配合的相邻真空腔室或封闭挡板上还开设有与环形密封胶圈配合的密封槽。
优选的，所述升降机构包括升降电机，所述升降电机固定安装在升降套一侧，所述升降电机的驱动轴上固定安装有升降齿轮，所述升降齿轮与升降镀膜腔室侧边开设的齿槽啮合。
优选的，上下两侧的所述封闭挡板上均固定安装有丝杆电机，所述丝杆电机的驱动轴上固定安装有升降丝杆，所述升降丝杆上螺纹安装有升降座，所述检漏伸缩气杆固定安装在升降座上。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明通过在镀膜腔室设置可上下替换的平移式并列腔室结构，通过并列腔室的上下平移从而实现不同腔体与连续型镀膜过渡腔室的间歇性配合，从而有效解决了因磁场分布不均、换靶等操作造成的长时间停工停产现象，大大降低了工艺调整间隔，进而有效提高生产效率；
2、本发明在并列腔室调试工作完成后自主进行检漏操作，待检漏完成后再并入连续型镀膜过渡腔室的生产区间内部，该种自主检漏方式大大降低了检修人员的工作负担，同时提高了检漏准确度以及检漏效率，整个检漏过程无需并入连续型镀膜过渡腔室内部进行，从而减少了由于检漏造成的长时间停机停产状况发生。
本发明通过在镀膜腔室设置可上下替换的平移式并列腔室结构，通过并列腔室的上下平移从而实现不同腔体与连续型镀膜过渡腔室的间歇性配合，从而有效解决了因磁场分布不均、换靶及检漏等操作造成的长时间停工停产现象，降低了检修人员的工作负担的同时大大降低了工艺调整间隔，进而有效提高生产效率。
附图说明
图1为本发明的单个升降镀膜腔室组合整体结构示意图；
图2为本发明的多个升降镀膜腔室组合整体结构示意图；
图3为本发明的单个升降镀膜腔室组合俯视示意图；
图4为本发明的升降镀膜腔室整体结构立体示意图；
图5为本发明的A区域放大结构示意图；
图6为本发明的B区域放大结构示意图；
图7为本发明的C区域放大结构示意图；
图8为本发明的D区域放大结构示意图。
图中：1连续型镀膜过渡腔室、2真空腔室、3升降套、4升降镀膜腔室、5真空镀膜腔室、6环形封闭槽、7闭合气缸、8环形推进板、9环形密封胶圈、10封闭挡板、11检漏伸缩气杆、12氦气喷头、13管道、14氦质谱检漏仪、15进水管、16出水管、17分子泵、18进片腔室、19过渡加热腔室、20出片过渡腔室、21出片腔室、22气动开闭阀门、23密封槽、24升降电机、25升降齿轮、26齿槽、27丝杆电机、28升降丝杆、29升降座。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例：
请参阅图1-8，本发明提供一种技术方案：
实施例一：
一种玻璃磁控溅射镀膜***，包括连续型镀膜过渡腔室1，连续型镀膜过渡腔室1由若干真空腔室2直列互通式焊接排列组成，连续型镀膜过渡腔室1中部一体式焊接设置有若干与相邻真空腔室2左右贯通的升降套3，若干升降套3内一一对应设置有升降镀膜腔室4，升降镀膜腔室4由上下两组相同的真空镀膜腔室5并行排列焊接组成，升降镀膜腔室4通过升降机构在升降套3内升降平移使得上下两组真空镀膜腔室5与连续型镀膜过渡腔室1交替配合，上下的真空镀膜腔室5两侧均开设有环形封闭槽6，两侧的环形封闭槽6内均安装有闭合气缸7，闭合气缸7的伸缩臂均固定安装在同一环形推进板8上，环形推进板8远离闭合气缸7一端固定连接有环形密封胶圈9，环形密封胶圈9通过挤压膨胀作用将真空镀膜腔室5与相邻的真空腔室2形成的接缝处封闭；
若干升降套3上下两侧均固定安装有一对封闭挡板10，上下的封闭挡板10分别与升降镀膜腔室4上下并行排列的真空镀膜腔室5活动配合形成负压空间，上下两侧的封闭挡板10位于真空镀膜腔室5两侧分别升降式安装有检漏伸缩气杆11，检漏伸缩气杆11的伸缩臂上还固定安装有氦气喷头12，两侧的氦气喷头12相对设置，氦气喷头12通过电磁阀与氦气罐连通，上下的封闭挡板10一侧还通过管道13与氦质谱检漏仪14连通，氦质谱检漏仪14用于测定负压空间内部的氦气含量。
在该实施例中，连续型镀膜过渡腔室1用于供玻璃基板通过，从而完成镀膜前后的准备工作，连续型镀膜过渡腔室1内部设置有供玻璃基片架穿过的左右贯通腔体，玻璃基片架在移动过程中完成镀膜操作，连续型镀膜过渡腔室1包括若干真空腔室2，若干真空腔室2包括从进片端从前向后依次排列的进片腔室18、过渡加热腔室19、出片过渡腔室20和出片腔室21，升降镀膜腔室4通过升降方式使得上下的真空镀膜腔室5交替与连续型镀膜过渡腔室1进行配合，当真空镀膜腔室5与相邻的真空腔室2配合完成时，通过控制环形封闭槽6内的闭合气缸7工作，通过闭合气缸7伸缩带动环形推进板8移动，通过环形推进板8的移动带动环形密封胶圈9向真空镀膜腔室5与相邻的真空腔室2的接缝处挤压，通过环形密封胶圈9的挤压形变从而对接缝处进行完全密封，进而保证内部的真空度，通过上下设置的相同真空镀膜腔室5，使得当薄层溅射不均匀、所在真空镀膜腔室5发生漏气以及换靶过程中，均能够及时替换成替代的真空镀膜腔室5，从而大大减少了停工停产的时间，具体的，当真空镀膜腔室5所在内部磁场分布不均匀时，通过检查备用真空镀膜腔室5内的磁铁排布状况，进而进行调整，并通过将调整后的真空镀膜腔室5并入连续型镀膜过渡腔室1内，从而快速进行膜层溅射均匀性调节，当需要更换靶材时，通过将靶材状况良好的备用真空镀膜腔室5及时并入连续型镀膜过渡腔室1内，从而对替换下的真空镀膜腔室5进行换靶操作，当检测到正在工作的真空镀膜腔室5发生漏气时，通过迅速将备用真空镀膜腔室5调整为工作状态，进而对漏气的替换真空镀膜腔室5进行漏气检测及维修，同上所述，通过升降镀膜腔室4的升降操作，从而快速进行真空镀膜腔室5的替换，进而克服了现有技术中检修即停产的产线布局，大大提高了生产效率，同时，替换下的真空镀膜腔室5能够自主完成漏气点的检测，具体操作为，当怀疑所在升降镀膜腔室4发生漏气后，通过升降方式及时替换备用真空镀膜腔室5，由于备用真空镀膜腔室5已在备用间隙完成漏气点自检，因而不存在漏气点，此时替换下来的真空镀膜腔室5进入上部或下部的封闭挡板10之间，上下的封闭挡板10分别与升降镀膜腔室4上下并行排列的真空镀膜腔室5活动配合形成负压空间，通过负压泵经管道13向外部抽气，此时真空镀膜腔室5内部形成负压状态，若存在漏气点，外部的气体得以通过该漏气点进入真空镀膜腔室5的负压空间内部，而设置在管道13上的氦质谱检漏仪14能够精确检测到氦气的实时通过量，进而对漏气点进行判断，因此通过向氦气喷头12内连续供应小计量气体，并通过检漏伸缩气杆11在封闭挡板10上的升降和伸缩完成备用真空镀膜腔室5两侧的行列式检测，若检测到瞬时氦气量增大，即可判定该区域周围存在漏气点，通过设置在氦质谱检漏仪14内部的PLC芯片控制检漏伸缩气杆11的升降和伸缩，当监控到异常瞬时氦气量时，即行停止氦气喷头12的移动，并通过报警的方式提示检修人员检查该异常区域，进而快速确定漏气点。
实施例二：
在该实施例中，升降镀膜腔室4内布设有蛇形降温通道，蛇形降温通道首尾分别与进水管15和出水管16连通，进水管15和出水管16分别通过阀门与循环散热挠性管连通，通过升降镀膜腔室4两侧内部开设的蛇形降温通道从而在镀膜过程中对磁场和靶材周围进行降温，保证镀膜的正常进行。
实施例三：
在该实施例中，升降镀膜腔室4上下两侧均安装有分子泵17，上下的分子泵17分别与上下的真空镀膜腔室5内部连通，通过分子泵17分别将所在的真空镀膜腔室5内部气体排出，在实际操作过程中，当真空镀膜腔室5从备用状态替换为工作状态时，控制分子泵17通过向替换前的真空镀膜腔室5内供气，从而降低真空镀膜腔室5与外环境之间的气压差，当内外气压差异在允许范围后，通过缩回闭合气缸7从而完成真空镀膜腔室5与相邻真空腔室2的脱离，此时通过升降方式将备用真空镀膜腔室5变更为工作状态，在闭合气缸7挤压完成密封后，通过分子泵17进行抽气，从而使得处于工作状态的真空镀膜腔室5处于设定的真空度。
实施例四：
在该实施例中，过渡加热腔室19和出片过渡腔室20一侧均固定安装有分子泵17，进片腔室18与过渡加热腔室19、出片过渡腔室20与出片腔室21之间还设置有气动开闭阀门22，通过各自安装的分子泵17完成所在腔室的抽真空操作。
实施例五：
在该实施例中，与真空镀膜腔室5配合的相邻真空腔室2或封闭挡板10上还开设有与环形密封胶圈9配合的密封槽23，通过密封槽23的设置，使得环形密封胶圈9在闭合过程中进入密封槽23内，并通过挤压膨胀的作用，能够充分贴合真空镀膜腔室5与相邻的真空腔室2形成的接缝，进而保证密封性。
实施例六：
在该实施例中，升降机构包括升降电机24，升降电机24固定安装在升降套3一侧，升降电机24的驱动轴上固定安装有升降齿轮25，升降齿轮25与升降镀膜腔室4侧边开设的齿槽26啮合，通过升降电机24的旋转带动升降齿轮25转动，由于升降齿轮25与齿槽26啮合，升降齿轮25转动带动升降镀膜腔室4完成升降操作。
实施例七：
在该实施例中，上下两侧的封闭挡板10上均固定安装有丝杆电机27，丝杆电机27的驱动轴上固定安装有升降丝杆28，升降丝杆28上螺纹安装有升降座29，检漏伸缩气杆11固定安装在升降座29上，通过丝杆电机27的旋转完成升降座29的升降，进而带动检漏伸缩气杆11升降，检漏伸缩气杆11在升降过程中进行伸缩操作，从而能够完成行列移动，配合氦气喷头12缓慢喷射氦气，从而对备用的真空镀膜腔室5两侧进行漏气点自主查找。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种玻璃磁控溅射镀膜***，包括连续型镀膜过渡腔室(1)，其特征在于：所述连续型镀膜过渡腔室(1)由若干真空腔室(2)直列互通式焊接排列组成，所述连续型镀膜过渡腔室(1)中部一体式焊接设置有若干与相邻真空腔室(2)左右贯通的升降套(3)，若干所述升降套(3)内一一对应设置有升降镀膜腔室(4)，所述升降镀膜腔室(4)由上下两组相同的真空镀膜腔室(5)并行排列焊接组成，所述升降镀膜腔室(4)通过升降机构在升降套(3)内升降平移使得上下两组真空镀膜腔室(5)与连续型镀膜过渡腔室(1)交替配合，上下的所述真空镀膜腔室(5)两侧均开设有环形封闭槽(6)，两侧的所述环形封闭槽(6)内均安装有闭合气缸(7)，所述闭合气缸(7)的伸缩臂均固定安装在同一环形推进板(8)上，所述环形推进板(8)远离闭合气缸(7)一端固定连接有环形密封胶圈(9)，所述环形密封胶圈(9)通过挤压膨胀作用将真空镀膜腔室(5)与相邻的真空腔室(2)形成的接缝处封闭；
若干所述升降套(3)上下两侧均固定安装有一对封闭挡板(10)，上下的所述封闭挡板(10)分别与升降镀膜腔室(4)上下并行排列的真空镀膜腔室(5)活动配合形成负压空间，上下两侧的所述封闭挡板(10)位于真空镀膜腔室(5)两侧分别升降式安装有检漏伸缩气杆(11)，所述检漏伸缩气杆(11)的伸缩臂上还固定安装有氦气喷头(12)，两侧的所述氦气喷头(12)相对设置，所述氦气喷头(12)通过电磁阀与氦气罐连通，上下的所述封闭挡板(10)一侧还通过管道(13)与氦质谱检漏仪(14)连通，所述氦质谱检漏仪(14)用于测定负压空间内部的氦气含量。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：所述升降镀膜腔室(4)内布设有蛇形降温通道，所述蛇形降温通道首尾分别与进水管(15)和出水管(16)连通，所述进水管(15)和出水管(16)分别通过阀门与循环散热挠性管连通。
3.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：所述升降镀膜腔室(4)上下两侧均安装有分子泵(17)，上下的所述分子泵(17)分别与上下的真空镀膜腔室(5)内部连通。
4.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：若干所述真空腔室(2)包括从进片端从前向后依次排列的进片腔室(18)、过渡加热腔室(19)、出片过渡腔室(20)和出片腔室(21)。
5.根据权利要求4所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：所述过渡加热腔室(19)和出片过渡腔室(20)一侧均固定安装有分子泵(17)，所述进片腔室(18)与过渡加热腔室(19)、出片过渡腔室(20)与出片腔室(21)之间还设置有气动开闭阀门(22)。
6.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：与真空镀膜腔室(5)配合的相邻真空腔室(2)或封闭挡板(10)上还开设有与环形密封胶圈(9)配合的密封槽(23)。
7.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：所述升降机构包括升降电机(24)，所述升降电机(24)固定安装在升降套(3)一侧，所述升降电机(24)的驱动轴上固定安装有升降齿轮(25)，所述升降齿轮(25)与升降镀膜腔室(4)侧边开设的齿槽(26)啮合。
8.根据权利要求1所述的一种玻璃磁控溅射镀膜***，其特征在于：上下两侧的所述封闭挡板(10)上均固定安装有丝杆电机(27)，所述丝杆电机(27)的驱动轴上固定安装有升降丝杆(28)，所述升降丝杆(28)上螺纹安装有升降座(29)，所述检漏伸缩气杆(11)固定安装在升降座(29)上。
CN202111628913.4A 2021-12-28 2021-12-28 一种玻璃磁控溅射镀膜*** Active CN114457315B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111628913.4A CN114457315B (zh) 2021-12-28 2021-12-28 一种玻璃磁控溅射镀膜***

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111628913.4A CN114457315B (zh) 2021-12-28 2021-12-28 一种玻璃磁控溅射镀膜***

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114457315A CN114457315A (zh) 2022-05-10
CN114457315B true CN114457315B (zh) 2023-07-25

Family

ID=81407361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111628913.4A Active CN114457315B (zh) 2021-12-28 2021-12-28 一种玻璃磁控溅射镀膜***

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114457315B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115261797B (zh) * 2022-08-31 2023-11-14 北京北方华创微电子装备有限公司 一种腔室漏率检测方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103741111A (zh) * 2014-01-24 2014-04-23 赫得纳米科技(昆山)有限公司 抗反射导电ito膜连续镀膜生产线
WO2014063023A1 (en) * 2012-10-19 2014-04-24 Marca Machinery, Llc In-line metallizer assemblies and part-coating conveyor systems incorporating the same
CN203700510U (zh) * 2014-01-24 2014-07-09 赫得纳米科技(昆山)有限公司 抗反射导电ito膜连续镀膜生产线
CN103938168A (zh) * 2014-04-08 2014-07-23 江西沃格光电股份有限公司 磁控溅射镀膜***
CN206970710U (zh) * 2017-06-28 2018-02-06 武汉科瑞达真空科技有限公司 一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空***
EP3279364A1 (en) * 2016-08-03 2018-02-07 IHI Hauzer Techno Coating B.V. Apparatus for coating substrates
CN108179396A (zh) * 2018-01-09 2018-06-19 温州职业技术学院 环形循环连续式真空镀膜装置
CN209508399U (zh) * 2018-11-05 2019-10-18 肇庆市前沿真空设备有限公司 一种真空镀膜生产线

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180105248A (ko) * 2011-11-30 2018-09-27 코닝 인코포레이티드 광학 코팅 방법, 기기 및 제품

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014063023A1 (en) * 2012-10-19 2014-04-24 Marca Machinery, Llc In-line metallizer assemblies and part-coating conveyor systems incorporating the same
CN103741111A (zh) * 2014-01-24 2014-04-23 赫得纳米科技(昆山)有限公司 抗反射导电ito膜连续镀膜生产线
CN203700510U (zh) * 2014-01-24 2014-07-09 赫得纳米科技(昆山)有限公司 抗反射导电ito膜连续镀膜生产线
CN103938168A (zh) * 2014-04-08 2014-07-23 江西沃格光电股份有限公司 磁控溅射镀膜***
EP3279364A1 (en) * 2016-08-03 2018-02-07 IHI Hauzer Techno Coating B.V. Apparatus for coating substrates
CN206970710U (zh) * 2017-06-28 2018-02-06 武汉科瑞达真空科技有限公司 一种对显示屏模组连续磁控溅射镀膜的真空***
CN108179396A (zh) * 2018-01-09 2018-06-19 温州职业技术学院 环形循环连续式真空镀膜装置
CN209508399U (zh) * 2018-11-05 2019-10-18 肇庆市前沿真空设备有限公司 一种真空镀膜生产线

Also Published As

Publication number Publication date
CN114457315A (zh) 2022-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN114457315B (zh) 一种玻璃磁控溅射镀膜***
CN104004999B (zh) 一种立式真空溅射镀膜生产线
CN104018130B (zh) 一种真空镀膜生产线
CN108179396B (zh) 环形循环连续式真空镀膜装置
CN105887396B (zh) 一种超临界流体无水染色的万能打样机
CN114517249B (zh) 一种用于火箭壳体的辊底式淬火装置及淬火方法
CN114878100A (zh) 一种水表密封检测方法
CN117249946A (zh) 一种发动机支架压铸用气密检测设备
CN220346293U (zh) 一种喷淋冷却设备的喷头角度调节机构
CN219689835U (zh) 一种真空磁控溅射双面镀膜***
WO2023245883A1 (zh) 一种真空腔体
CN216687922U (zh) 一种镀膜玻璃生产用的冷却装置
CN216445249U (zh) 一种双风机串联精准控风的送风装置
CN209726891U (zh) 一种钢铁厂余热回收利用装置
CN112899636B (zh) 反应堆用大长径比管材真空镀膜机的工件架及其镀膜机
CN110790488B (zh) 用于浮法玻璃锡槽中的内窥镜执行机构及其调节方法
CN208812515U (zh) Pvc管材用真空定型机
CN107940798B (zh) 多工况分段组合式喷射器转换总成及在线自动转换装置
CN220300840U (zh) 真空***及镀膜设备
CN111504567A (zh) 一种中空玻璃窗窗框密封检测装置及检测方法
CN220619093U (zh) 一种具有双重密封结构的真空镀膜设备
CN216524619U (zh) 一种换热器检漏设备
WO2023245882A1 (zh) 变距结构
WO2023245884A1 (zh) 一种真空镀膜设备
CN219570507U (zh) 一种数控设备用双油泵式液压站

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20230614

Address after: No. 39, Lantai Road, Yibin District, Luoyang City, Luolong District, Luoyang City, Henan Province, 471000

Applicant after: KAISHENG INFORMATION DISPLAY MATERIALS (LUOYANG) CO.,LTD.

Address before: 245400 incubator of high tech electronic information industrial park, Xiuning Economic Development Zone, Huangshan City, Anhui Province

Applicant before: KAISHENG INFORMATION DISPLAY MATERIALS (HUANGSHAN) CO.,LTD.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant