CN114395068B - 一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂及其制备方法 - Google Patents
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- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 69
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 63
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 38
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 31
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxystyrene Chemical compound OC1=CC=C(C=C)C=C1 FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 50
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 48
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 claims description 38
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 26
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000005303 weighing Methods 0.000 claims description 13
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 12
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-cyano-2-methylpropyl)diazenyl]-3-methylbutanenitrile Chemical compound CC(C)C(C#N)N=NC(C#N)C(C)C MTLWTRLYHAQCAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 238000011161 development Methods 0.000 abstract description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 abstract description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 abstract description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 abstract 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 4
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000247 postprecipitation Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/14—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring substituted by heteroatoms or groups containing heteroatoms
- C08F212/22—Oxygen
- C08F212/24—Phenols or alcohols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/06—Hydrocarbons
- C08F212/08—Styrene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/20—Esters of polyhydric alcohols or phenols, e.g. 2-hydroxyethyl (meth)acrylate or glycerol mono-(meth)acrylate
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Materials For Photolithography (AREA)
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Abstract
本发明适用于高分子技术领域,提供一种窄分布的193 nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括:将BARC树脂单体、羧基化富勒烯、引发剂置于溶剂中溶解,得到单体溶液,高温加热,发生自由基聚合反应,得到反应液并冷却,利用不同极性的混合溶剂对冷却反应液进行沉淀处理、分离、干燥,得到光刻胶用BARC树脂。本发明中羧基化富勒烯的羧基可以与甲基丙烯酸羟丙酯、对羟基苯乙烯的羟基反应,减少一些链转移显影;富勒烯的空心球网状结构可以降低光反射;利用不同极性的混合溶剂处理沉淀,可以改变BARC树脂的分子量和分子量分布,从而制得窄分布的193 nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
Description
技术领域
本发明属于高分子技术领域,尤其涉及一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂及其制备方法。
背景技术
在集成电路微图形加工时,随着尺寸的越来越小,需要进一步提高光刻胶的分辨率。但是随着光刻胶技术曝光波长的不断减少,膜越薄,分辨率也在不断提高,但是出现的驻波效应会导致关键尺寸无法控制,加大了刻蚀精度。对此,引入了BARC的概念,即底部抗反射涂层,同样为聚合物,在涂光刻胶前,先涂上一层BARC,作用是吸收入射光以及改变入射光的路线,即k,n,消除驻波效应。
BARC树脂同样作为聚合物,需要调控其分子量以及分子量分布,在聚合过程中,通常采用自由基聚合反应,加入引发剂来调控,但是反应时由于含有羟基,会造成一些链转移显影,导致聚合不稳定,不好控制,得不到窄分布的聚合物。
中国专利公开号为CN112680052A的专利公开了一种抗反射涂料组合物,通过使用本发明所述消光树脂可强有力地吸收100~300nm的辐射,尤其在248nm下具有高吸光性能,消光系数K达0.4以上或0.5以上,从而允许使用较薄涂层和较短蚀刻时间,且制备得到的抗反射涂层材料容易清除,特别适合用在薄层光刻胶中使用以获得高分辨率光刻图形,但是该树脂聚合物的分子量并不是窄分布,不易加工,因此,迫切需要研究窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
发明内容
本发明实施例提供一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂及其制备方法,旨在解决现有技术中193nm深紫外光刻胶用BARC树脂分子量不具有窄分布的技术问题。
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质、引发剂,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S1中溶剂为四氢呋喃。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S1中对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1-10:1-10:1-10:12-120。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S2中空心球网状物质是羧基化富勒烯。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S2中引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈、偶氮二异庚腈中的一种或多种。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S2中羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13-130:0.06-0.6。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S3中溶剂沸点温度是65-66℃。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S3中自由基聚合反应的时间为18-20h。
更进一步地,在所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法中,所述步骤S4中不同极性的溶剂为甲醇/水=(0-10)/(10-0),乙醇/水=(0-10)/(10-0)等等。
有益效果
(1)本发明提供一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂及其制备方法,该方法包括:将193nm深紫外光刻胶用BARC树脂单体、引发剂置于溶剂中溶解,并将单体溶液置于氮气环境下进行高温加热,聚合反应,反应完成后得到冷却反应液,利用不同极性溶剂对冷却反应液进行沉淀、分离、干燥处理,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
(2)本发明提供一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂及其制备方法,羧基化富勒烯的羧基可以与甲基丙烯酸羟丙酯、对羟基苯乙烯的羟基反应,不会造成一些链转移显影,不会导致聚合不稳定,较好控制反应,可以得到窄分布的聚合物,同时,富勒烯的空心球网状结构可以降低光反射,使得BARC树脂吸光性能更稳定。
(3)本发明在制备窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的过程中,通过对193nm深紫外光刻胶用BARC树脂进行后处理,利用溶剂的极性关系,将短链的聚合物直接去除,保留长链的聚合物,从而得到窄分布的聚合物,窄分布的聚合物颗粒均匀,对外界应力反应相对一致,降低了破碎率,吸光性能更稳定,易于加工,能更好地消除驻波效应并应用于193nm深紫外光刻胶技术。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
实施例1
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1:1:1:12,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13:0.06。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异丁腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=9/1;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
实施例2
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为2:1-10:2:20,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为20:0.1。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异戊腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65.2℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18.2h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=5/5;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
实施例3
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为3:3:4:30,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为30:0.2。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异庚腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65.4℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18.4h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=1/9;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
实施例4
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为4:4:4:40,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为40:0.4。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异庚腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65.5℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18.5h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为乙醇/水=9/1;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
实施例5
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为5:5:5:56,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为50:0.051。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异庚腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65.6℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18.6h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为乙醇/水=5/5;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
实施例6
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为10:10:10:120,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为130:0.6。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异庚腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度66℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为20h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为乙醇/水=1/9;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
对比例1
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1:1:1:12,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13:0.06。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异丁腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=0/10;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
对比例2
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1:1:1:12,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13:0.06。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异丁腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为乙醇/水=10/0;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
对比例3
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1:1:1:12,羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13:0.06。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质羧基化富勒烯、引发剂偶氮二异丁腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=10/0;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
对比例4
一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,包括以下步骤:
质量配比:对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1:1:1:12,引发剂的用量为0.06g。
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有四氢呋喃溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入引发剂偶氮二异丁腈,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度65℃,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应,反应时间为18h;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理,不同极性的溶剂为甲醇/水=9/1;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂。
对窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂进行称重后测试GPC,计算实施例1-6以及对比例1-4中制备得到的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂进行产率、重均分子量以及PDI的测定,其测试结果如表1所示:
表1聚合反应结果
根据表1中的结果,首先从对比例来看,不同极性处理出来的树脂结果不一,如本发明的树脂,在极性最强的水中,产率最高,同时小分子未去除,导致分子量分布较宽,分子量低。而用极性弱点儿的甲醇来处理时,小分子被去除,同时分子量分布变窄。而进一步提高沉淀剂的极性,如乙醇。分子量分布进一步变窄。但因为过多的小分子被去除,导致最终产率很低,分子量变大。对比例4中未添加空心球网状物质羧基化富勒烯,甲基丙烯酸羟丙酯、对羟基苯乙烯的羟基会造成一些链转移显影,导致聚合不稳定,不可以得到窄分布的聚合物。
而实施例中,根据这一特性,用甲醇/水,乙醇/水两种体系进行沉淀处理,同样出现此结论,当水和极性较弱的甲醇组合时,可以有效的去除小分子,降低分子量分布,同时不会让产率变得太低。而当用到乙醇/水体系时,由于极性变化太大,在小链聚合物被去除的同时,长链也被去除部分,导致最终次体系处理出来的树脂产率低,分子量很大,当然分子量分布就窄,比较均一。
综上,利用不同溶剂调节极性进行沉淀后处理的方法,确实可以改变树脂的分子量和分子量分布,可以根据需求,调节极性的变化浮动,从而达到想要的聚合物。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、将对羟基苯乙烯、苯乙烯以及甲基丙烯酸羟丙酯置于含有溶剂的四口烧瓶中,搅拌至单体混合均匀;
S2、待单体溶解后,加入空心球网状物质、引发剂,搅拌至溶解;
S3、将装有反应液的四口烧瓶,置于装有磁力搅拌器的油浴锅中,安装好,冷凝管,氮气接口后,开启冷凝水,通入氮气,开启搅拌并将温度升至溶剂沸点温度,出现沸腾现象后,记录温度并进行自由基聚合反应;
S4、冷却反应液,利用不同极性的溶剂对其进行沉淀处理;
S5、固液分离,烘干,称重,得到窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂;
其中,所述步骤S4中不同极性的溶剂为甲醇/水=(0-10)/(10-0)或乙醇/水=(0-10)/(10-0),同时,不同极性的溶剂不是纯水或纯乙醇或纯甲醇。
2.根据权利要求1所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中溶剂为四氢呋喃。
3.根据权利要求1所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S1中对羟基苯乙烯、苯乙烯、甲基丙烯酸羟丙酯、四氢呋喃溶剂的用量比为1-10:1-10:1-10:12-120。
4.根据权利要求2所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中空心球网状物质是羧基化富勒烯。
5.根据权利要求2所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中羧基化富勒烯、引发剂的用量比为13-130:0.06-0.6。
6.根据权利要求2所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S2中引发剂为偶氮二异丁腈、偶氮二异戊腈、偶氮二异庚腈中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述步骤S3中溶剂沸点温度是65-66℃。
8.根据权利要求1所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法,其特征在于,所述骤S3中自由基聚合反应的时间为18-20h。
9.一种窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂,其特征在于,由权利要求1-8中任意一项所述的窄分布的193nm深紫外光刻胶用BARC树脂的制备方法制备得到。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114395068A CN114395068A (zh) | 2022-04-26 |
CN114395068B true CN114395068B (zh) | 2023-11-03 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114395068B (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115260348B (zh) * | 2022-09-30 | 2023-08-15 | 上海八亿时空先进材料有限公司 | 一种高分子量且窄分布phs树脂及其制备方法与应用 |
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JP2005241963A (ja) * | 2004-02-26 | 2005-09-08 | Jsr Corp | 反射防止膜形成用組成物および反射防止膜 |
CN104919370A (zh) * | 2012-12-13 | 2015-09-16 | Az电子材料(卢森堡)有限公司 | 上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法 |
CN109426100A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-03-05 | 福建泓光半导体材料有限公司 | 一种耐刻蚀的光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5395012B2 (ja) * | 2010-08-23 | 2014-01-22 | 信越化学工業株式会社 | レジスト下層膜材料、レジスト下層膜形成方法、パターン形成方法、フラーレン誘導体 |
-
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JPH08239209A (ja) * | 1995-03-01 | 1996-09-17 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | フラーレン・不飽和化合物結合体とその製造方法 |
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CN109426100A (zh) * | 2018-10-29 | 2019-03-05 | 福建泓光半导体材料有限公司 | 一种耐刻蚀的光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法 |
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CN114395068A (zh) | 2022-04-26 |
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PB01 | Publication | ||
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