CN114384729A - 显示模组及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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王炎
张新亚
李喆
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Abstract

本公开的实施例公开了一种显示模组及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，可避免驱动电路对光线的阻挡导致其透过率降低的问题。显示模组包括显示面板，以及与显示面板叠加设置的调光面板。显示面板具有多个像素区域。调光面板具有多个调光区域，沿垂直于显示面板的方向，一个调光区域覆盖至少一个像素区域。其中，调光面板包括多个调光电极和多条信号线。一个调光电极位于一个调光区域内，任意相邻两个调光电极之间具有间隙。每个调光电极与至少一条信号线直接电连接；信号线被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。上述显示模组应用于显示装置中，以使显示装置显示画面。

Description

显示模组及其制备方法、显示装置
技术领域
本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示模组及其制备方法、显示装置。
背景技术
目前，高动态范围(High Dynamic Range，简称HDR)技术广泛应用于电视机(Television，简称TV)等大尺寸显示装置，使显示装置具有高对比度(Contrast Ratio，简称CR)。
在相关技术中，高动态范围技术包括两种实现方式，一种为背光单元(英文简称：Mini LED BLU)技术，一种为双层面板(Panel BD Cell)技术。其中，背光单元技术可实现显示装置的多分区调光，但背光单元设置的LED灯的数量多、良率低，导致显示装置的厚度大、制造成本高。相较于背光单元技术，双层面板技术可实现显示装置多分区调光的同时，可减小显示装置的厚度和制造成本，成为显示技术领域的发展方向之一。
公开内容
本公开的一些实施例的目的在于提供一种显示模组及其制备方法、显示装置，以提高显示模组中的调光面板的光线透过率，改善显示模组的显示效果。
为达到上述目的，本公开的一些实施例提供了如下技术方案：
第一方面，提供了一种显示模组，包括显示面板，以及与所述显示面板叠加设置的调光面板。所述显示面板具有多个像素区域。所述调光面板具有多个调光区域，沿垂直于所述显示面板的方向，一个调光区域覆盖至少一个像素区域。其中，所述调光面板包括多个调光电极和多条信号线。一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙。每个所述调光电极与至少一条信号线直接电连接；所述信号线被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。
在本公开的上述实施例中，调光面板中的每个调光电极与至少一条信号线直接电连接，通过信号线向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号，即调光面板采用无源驱动的方式，调光面板中不需要设置驱动电路，避免了驱动电路对光线的阻挡导致其透过率降低的问题，从而提高了调光面板的光线透过率，改善了显示模组的显示效果。
在一些实施例中，所述多个调光电极呈阵列式布置。所述多个调光电极排列的行方向为第一方向，所述多个调光电极排列的列方向为第二方向。
每条所述信号线整体沿所述第二方向延伸，且所述多条信号线沿所述第一方向并列布置。每条所述信号线在所述显示面板上的正投影，与其所电连接的调光电极所在的一列调光电极在所述显示面板上的正投影至少部分重叠。
在一些实施例中，所述信号线包括依次连接的多个弯折部，所述信号线呈折线状。每相邻两个弯折部形成一个弯折单元。沿垂直于所述显示面板的方向，一个所述调光电极覆盖所述信号线的多个弯折单元。
在一些实施例中，沿所述第一方向，一个所述弯折单元经过1个～6个像素区域。沿所述第二方向，一个所述弯折单元经过1个～6个像素区域。
在一些实施例中，所述调光面板还包括第一遮光图案，所述第一遮光图案在所述显示面板上的正投影，位于相邻两列所述调光电极在所述显示面板上的正投影之间。所述第一遮光图案整体沿所述第二方向延伸。所述第一遮光图案与所述信号线材料相同且同层设置。
在一些实施例中，在所述信号线呈折线状的情况下，所述调光电极的沿所述第二方向延伸的边缘轮廓呈与所述信号线的形状相同的折线状，且该边缘轮廓与所述信号线相互平行。沿所述第一方向，相邻的两个所述调光电极的相互靠近的边缘轮廓的形状互补。
所述第一遮光图案呈与所述调光电极的沿所述第二方向延伸的边缘轮廓形状相同的折线状，且所述第一遮光图案与该边缘轮廓相互平行。
在一些实施例中，所述调光面板还包括第二遮光图案，所述第二遮光图案在所述显示面板上的正投影，位于相邻两行所述调光电极在所述显示面板上的正投影之间。所述第二遮光图案整体沿所述第一方向延伸，且所述第二遮光图案在与所述信号线交叉的位置处断开。所述第二遮光图案与所述信号线材料相同且同层设置。
在一些实施例中，所述调光面板还包括设置于所述调光面板一侧的驱动芯片，所述驱动芯片与所述多条信号线直接电连接。所述驱动芯片被配置为分别向所述多条信号线提供所述控制电压信号，以控制与各所述信号线电连接的调光电极所在的调光区域的光线透过率。
在一些实施例中，所述调光面板还包括设置于所述多个调光电极与所述多条信号线之间的第一钝化层，所述第一钝化层具有多个第一过孔，每个所述调光电极通过至少一个第一过孔与相应的信号线电连接。
在一些实施例中，在所述信号线包括依次连接的多个弯折部，所述信号线呈折线状的情况下，所述第一过孔在所述显示面板上的正投影，位于相邻两个弯折部在所述显示面板上的正投影的相交位置处。
在一些实施例中，所述信号线的线宽范围为2.2μm～3.0μm。
在一些实施例中，所述显示面板包括相对设置的第一衬底、第二衬底、设置于所述第一衬底朝向所述第二衬底一侧的多个像素驱动电路，以及设置于所述第二衬底朝向所述第一衬底一侧的彩色滤光层和黑矩阵图案。
所述调光面板还包括位于所述第二衬底远离所述第一衬底一侧，且与所述第二衬底相对设置的第三衬底。所述多个调光电极和所述多条信号线设置于所述第三衬底朝向所述第二衬底的一侧，或者设置于所述第二衬底朝向所述第三衬底的一侧。
其中，所述调光面板与所述显示面板共用所述第二衬底；且所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
在一些实施例中，所述调光面板还包括设置于所述第二衬底和所述第三衬底中的一者上的参考电极。所述参考电极在所述第二衬底上的正投影，与各所述调光电极在所述第二衬底上的正投影均有交叠。所述参考电极被配置为传输参考电压信号，与各所述调光电极之间产生电场。
在一些实施例中，所述参考电极与所述多个调光电极分别设置于不同的衬底上。
或者，所述参考电极与所述多个调光电极设置于相同的衬底上。所述参考电极相对于所述多个调光电极，远离所述参考电极和所述多个调光电极所在的衬底，且所述参考电极中与每个所述调光电极正对的部分具有多条狭缝。
或者，所述参考电极与所述多个调光电极设置于相同的衬底上。所述参考电极相对于所述多个调光电极，靠近所述参考电极和所述多个调光电极所在的衬底，且每个所述调光电极具有多条狭缝。
在一些实施例中，所述多个调光电极之间的间隙的宽度的范围为3.0μm～3.5μm。
在一些实施例中，所述黑矩阵图案的宽度的范围为4μm～6μm。
在一些实施例中，所述显示模组还包括设置于所述第一衬底远离所述第二衬底一侧的第一偏振片，设置于所述第二衬底远离所述第一衬底一侧的金属线栅偏振层，以及设置于所述第三衬底远离所述第一衬底一侧的第二偏振片。其中，所述第一偏振片和所述第二偏振片的吸收轴的方向，分别与所述金属线栅偏振层的吸收轴的方向垂直。
在一些实施例中，在所述多个调光电极设置于所述第二衬底上，且所述参考电极设置于所述第三衬底上的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述多个调光电极之间。在所述参考电极设置于所述第二衬底上，且所述多个调光电极设置于所述第三衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述参考电极之间。
在所述多个调光电极和所述参考电极均设置于所述第二衬底上，且所述多个调光电极相对于所述参考电极靠近所述第二衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述多个调光电极之间。
在所述多个调光电极和所述参考电极均设置于所述第二衬底上，且所述参考电极相对于所述多个调光电极靠近所述第二衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述参考电极之间。
第二方面，提供了一种显示装置，包括上述任一实施例所述的显示模组，以及设置于所述调光面板远离所述显示面板一侧的背光模组。所述背光模组被配置为，为所述显示模组提供光线。
本公开实施例所提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述任一实施例所述的显示模组所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。
第三方面，提供了一种显示模组的制备方法，包括：在所述第一衬底上形成多个像素驱动电路。
在所述第二衬底上形成彩色滤光层和黑矩阵图案。
将形成有所述多个像素驱动电路的第一衬底，与形成有所述彩色滤光层和所述黑矩阵图案的第二衬底进行对盒，形成显示面板。其中，所述显示面板具有多个像素区域。
在第三衬底上或者在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成多个调光电极和多条信号线。
将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒，形成调光面板。所述第三衬底位于所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧。所述调光面板与所述显示面板共用所述第二衬底。其中，所述调光面板具有多个调光区域，沿垂直于所述显示面板的方向，一个调光区域覆盖至少一个像素区域。一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙。每个所述调光电极与至少一条信号线直接电连接，所述信号线被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。
本公开实施例所提供的显示模组的制备方法所能实现的有益效果，与上述任一实施例所述的显示模组所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。
在一些实施例中，在所述多个调光电极和所述多条信号线形成于所述第三衬底上的情况下，所述制备方法还包括：在所述将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成参考电极；在所述第三衬底靠近所述第一衬底的一侧形成多个调光电极，一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙。
在将第三衬底与所述显示面板进行对盒的过程中，使所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
在一些实施例中，在所述多个调光电极和所述多条信号线形成于所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧的情况下，所述制备方法还包括：在所述将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成多个调光电极，一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙；在所述第三衬底靠近所述第一衬底的一侧形成参考电极。
在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成多个调光电极的过程中，使所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
在一些实施例中，所述制备方法还包括：在将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，采用构图工艺，在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成金属线栅偏振层；在所述金属线栅偏振层远离所述第一衬底的一侧形成绝缘层。
附图说明
为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。
图1为根据相关技术的显示模组的结构示意图；
图2为根据本公开的一些实施例的显示模组的俯视图；
图3为图2中沿剖面线O-O＇的局部剖面图；
图4为根据本公开的一些实施例的显示面板的俯视图；
图5为根据本公开的一些实施例的显示面板的像素架构图；
图6A为根据本公开的一些实施例的一种调光面板的俯视图；
图6B为根据本公开的一些实施例的另一种调光面板的俯视图；
图7为根据本公开的一些实施例的显示模组的局部剖面图；
图8为根据本公开的一些实施例的另一种显示模组的局部剖面图；
图9为根据本公开的一些实施例的又一种显示模组的局部剖面图；
图10为根据本公开的一些实施例的又一种显示模组的局部剖面图；
图11为根据本公开的一些实施例的又一种显示模组的局部剖面图；
图12为根据本公开的一些实施例的显示装置的结构图；
图13A为根据本公开的一些实施例的一种显示模组的制备方法的基本流程图；
图13B为根据本公开的一些实施例的一种显示模组的制备方法的具体流程图；
图14A～图14K为根据本公开的一些实施例的一种显示模组的制备方法的各步骤图；
图15A为根据本公开的一些实施例的另一种显示模组的制备方法的基本流程图；
图15B为根据本公开的一些实施例的另一种显示模组的制备方法的具体流程图；
图16A～图16K为根据本公开的一些实施例的另一种显示模组的制备方法的各步骤图；
图17A和图17B为根据本公开的一些实施例的调光电极之间的间隙区域内各个位置的亮度值的分布图。
具体实施方式
下面将结合附图，对本公开一些实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开所提供的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
除非上下文另有要求，否则，在整个说明书和权利要求书中，术语“包括(comprise)”及其其他形式例如第三人称单数形式“包括(comprises)”和现在分词形式“包括(comprising)”被解释为开放、包含的意思，即为“包含，但不限于”。在说明书的描述中，术语“一个实施例(one embodiment)”、“一些实施例(some embodiments)”、“示例性实施例(exemplary embodiments)”、“示例(example)”、“特定示例(specific example)”或“一些示例(some examples)”等旨在表明与该实施例或示例相关的特定特征、结构、材料或特性包括在本公开的至少一个实施例或示例中。上述术语的示意性表示不一定是指同一实施例或示例。此外，所述的特定特征、结构、材料或特点可以以任何适当方式包括在任何一个或多个实施例或示例中。
以下，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本公开实施例的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在描述一些实施例时，可能使用了“电连接”及其衍伸的表达。例如，描述一些实施例时可能使用了术语“电连接”以表明两个或两个以上部件彼此间有直接物理接触或电接触。这里所公开的实施例并不必然限制于本文内容。
“A和/或B”，包括以下三种组合：仅A，仅B，及A和B的组合。
本文中“被配置为”的使用意味着开放和包容性的语言，其不排除适用于或被配置为执行额外任务或步骤的设备。
本文参照作为理想化示例性附图的剖视图和/或平面图描述了示例性实施方式。在附图中，为了清楚，放大了层和区域的厚度。因此，可设想到由于例如制造技术和/或公差引起的相对于附图的形状的变动。因此，示例性实施方式不应解释为局限于本文示出的区域的形状，而是包括因例如制造而引起的形状偏差。例如，示为矩形的蚀刻区域通常将具有弯曲的特征。因此，附图中所示的区域本质上是示意性的，且它们的形状并非旨在示出设备的区域的实际形状，并且并非旨在限制示例性实施方式的范围。
在相关技术中，如图1所示，显示模组100包括叠加设置的显示面板1和调光面板2。其中，调光面板2与显示面板1对位并贴合在一起，实现调光面板2与显示面板1的组装。可将背光模组设置于显示模组100中的调光面板2远离显示面板1的一侧，背光模组发出的光线依次透过调光面板2和显示面板1。调光面板2被配置为对通过自身并入射至显示面板1的光线进行分区调制，显示面板1被配置为进行画面的显示。
为了实现调光面板2对背光亮度的分区调制，会在调光面板2中对应每个调光区域设置调光电极，以及与调光电极电连接的驱动电路，驱动电路被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。也就是说，该调光面板2采用有源驱动的方式，但是，由于驱动电路包括薄膜晶体管和金属信号线等不透光的结构，因此会导致调光面板2的光线透过率降低，这影响了显示模组100的显示效果。
为解决上述问题，本公开的一些实施例提供了一种显示模组，如图2和图3所示，显示模组200包括显示面板3，以及与显示面板3叠加设置的调光面板4。
其中，显示面板3被配置为进行图像显示。如图4和图5所示，显示面板3具有显示区AA(Active Area，简称AA区；也可称为有效显示区)和位于显示区AA至少一侧的周边区BB。显示面板3的显示区AA包括多个子像素区域P，每个子像素区域P内设置有一个子像素。显示区AA还设置有沿多个子像素区域P排列的行方向X延伸的多条栅扫描信号线GL(GateLine)、沿多个子像素区域P排列的列方向Y延伸的多条数据信号线DL(Data Line)。
为了方便说明，本公开中上述多个子像素区域P以及位于多个子像素区域P内的多个子像素均是以矩阵形式排列为例进行的说明。此时，沿行方向X排列成一排的子像素称为一行子像素，沿列方向Y排列成一排的子像素称为一列子像素，一行子像素可以与一条栅扫描信号线GL连接，一列子像素可以与一根数据信号线DL连接。一个子像素区域P内设置有一个像素驱动电路T＇，用于控制子像素进行显示。
以下对子像素区域P中的像素驱动电路T＇进行举例说明。
如图5所示，像素驱动电路T＇包括薄膜晶体管M和液晶电容器C。该液晶电容器C的两个极板分别由像素电极和公共电极形成。薄膜晶体管M的栅极连接栅线GL，第一极连接数据线DL，第二极连接液晶电容器C，薄膜晶体管M用于将数据线DL上的数据信号传输至液晶电容器C。
至少两个子像素组成一个像素，一个像素所包括的所述至少两个像素所在的子像素区域P组成一个像素区域P＇。如图2和图4所示，沿多个子像素区域P排列的行方向X，每三个子像素组成一个像素。一个像素所包括的三个子像素可分别为红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素。相应的，一个像素所包括的三个子像素所在的子像素区域P组成一个像素区域P＇。
如图2、图3和图6A所示，调光面板4具有多个调光区域D，沿垂直于显示面板3的方向C，一个调光区域D覆盖至少一个像素区域P＇，图2示出了一个调光区域D覆盖一个像素区域P＇的情形。调光面板4被配置为分别调节经过每个调光区域D射向显示面板3的光线的透过率，即调光面板4具有局部调光(英文全称：Local Dimming)的功能，从而使显示模组200的显示图像具有较高的对比度。
示例性地，沿垂直于显示面板3的方向C，一个调光区域D覆盖一个像素区域P＇或至少两个像素区域P＇。例如，在显示面板3的分辨率为3840×2160，一个像素区域P＇的尺寸为90μm×90μm的情况下，“分辨率为3840×2160”，表示沿多个像素区域P＇排列的行方向(即多个子像素区域P排列的行方向X)有3840个像素，沿多个像素区域P＇排列的列方向(即多个子像素区域P排列的行方向Y)有2160个像素。可设定一个调光区域D覆盖80×80个像素区域P＇，这样，调光区域D的数量为
Figure BDA0002731751480000091
这样可满足调光面板4的局部调光的需要，从而提高显示模组200的显示图像的对比度。
需要说明的是，在前面的表达中，“像素区域P＇的尺寸为90μm×90μm”是指，沿多个像素区域P＇排列的行方向，像素区域P＇的尺寸为90μm，沿多个像素区域P＇排列的列方向，像素区域P＇的尺寸为90μm。
如图3和图7所示，调光面板4包括多个调光电极43和多条信号线41A。
其中，一个调光电极43位于一个调光区域D内，任意相邻两个调光电极43之间具有间隙S。
每个调光电极43与至少一条信号线41A直接电连接，即调光面板4采用无源驱动的方式。信号线41A被配置为向与其电连接的调光电极43传输用于控制该调光电极43所在的调光区域D的光线透过率的控制电压信号。
相对于常规调光面板采用有源驱动的方式，在本公开的上述实施例中，通过信号线41A向与其电连接的调光电极43传输用于控制该调光电极43所在的调光区域D的光线透过率的控制电压信号，即调光面板4采用无源驱动的方式，调光面板4中不需要设置驱动电路，避免了驱动电路对光线的阻挡导致其透过率降低的问题，从而提高了调光面板2的光线透过率，改善了显示模组100的显示效果。
如图6A所示，多个调光电极43呈阵列式布置，且多个调光电极43排列的行方向为第一方向V，多个调光电极43排列的列方向为第二方向U。
每条信号线41A整体沿第二方向U延伸，且多条信号线41A沿第一方向V并列布置。
每条信号线41A在显示面板3上的正投影，与其所电连接的调光电极43所在的一列调光电极43在显示面板3上的正投影至少部分重叠，以便于调光电极43与信号线41A通过过孔实现电连接。
需要说明的是，第一方向V和第二方向U可以相互垂直。在此情况下，第一方向V可与多个像素区域P＇排列的行方向X同向，第二方向U可与多个像素区域P＇排列的列方向Y同向。
需要说明的是，“每条信号线41A整体沿第二方向U延伸”是指，信号线41A整体上具有沿第二方向U延伸的趋势。信号线41A可以为直线，这样信号线41A的各部分均沿第二方向U延伸；信号线也可以为非直线，例如波浪线、折线、锯齿线等，这样信号线41A的各部分可能偏离第二方向U，但是信号线41A整体上具有沿第二方向U延伸的趋势。
在一些实施例中，如图6A和图6B所示，信号线41A包括依次连接的多个弯折部410，信号线41A整体呈折线状。并且，信号线41A中，每相邻两个弯折部410形成一个弯折单元411。沿垂直于显示面板3的方向C，一个调光电极43覆盖信号线41A的多个弯折单元411。通过上述信号线41A的设计方式，可改善显示画面产生摩尔纹的问题。
在一些实施例中，每个弯折单元411中，弯折部410的长度和倾斜角度可根据调光电极43的尺寸以及每个调光电极43沿第二方向U所覆盖的弯折单元411的数量进行设置。此处，“弯折部410的倾斜角度”是指弯折部与第一方向V之间的夹角。弯折部410的倾斜角度小于90°，例如在0～45°的范围之内，例如为26°或30°等等。
在一些实施例中，如图6B所示，沿第一方向V，一个弯折单元411经过1个～6个像素区域P＇。例如，一个弯折单元411可经过1个、2个、3个、4个、5个或6个像素区域P＇。
沿第二方向U，一个弯折单元411经过1个～6个像素区域P＇。例如，一个弯折单元411可经过1个、2个、3个、4个、5个或6个像素区域P＇。可见，信号线41A可以有多种设计方式。
对采用不同设计的信号线41A进行摩尔纹模拟实验，实验结果如下表1所示：
表1
Figure BDA0002731751480000111
其中，“split”是指信号线41A的不同设计的例子。
“线宽”是指信号线41A的线宽。
“比例(列方向Y)main:sub”是指沿多个像素区域P＇排列的列方向Y(即第二方向U)，信号线41A的每个弯折单元411所经过的像素区域P＇的数量的比值。例如，比例(列方向Y)main:sub为1∶2，表示沿列方向Y(即第二方向U)，每个弯折单元411经过2个像素区域P＇。
“比例(行方向X)main:sub”是指沿多个像素区域P＇排列的行方向X(即第一方向V)，信号线41A的每个弯折部410所经过的像素区域P＇的数量的比值。例如，比例(行方向X)main:sub为1∶3，表示沿行方向X(即第一方向V)，每个弯折部410经过3个像素区域P＇。
“摩尔纹结果”是指信号线41A在不同的设计下，显示画面产生的摩尔纹的轻重情况。
由上表1可见，信号线41A在split4的设计下，即信号线41A采用线宽为2.2μm，比例(列方向Y)main:sub为1:4，比例(行方向X)main:sub为1:3的设计下，显示画面产生的摩尔纹最轻。
并且，对比split3和split4可知，在信号线41A的比例(列方向Y)main:sub和比例(行方向X)main:sub相同的情况下，信号线41A的线宽越小，显示画面产生的摩尔纹越轻。
因此，结合表1中split4的走线设计，为进一步改善显示画面产生的摩尔纹问题，在本公开的一些实施例中，信号线41A的线宽范围可为2.2μm～3.0μm，例如2.2μm、2.4μm、2.6μm、2.8μm或3.0μm等等。
示例性地，如图6B所示，沿第二方向U，信号线41A的每个弯折单元411与其经过的像素区域P＇的数量的比值为1∶4，即每个弯折单元411经过4个像素区域P＇；沿第一方向V，信号线41A的每个弯折单元411与其经过的像素区域P＇的数量的比值为1∶3，即每个弯折单元411经过3个像素区域P＇。
在一些实施例中，如图3、图6A、图6B和图7所示，调光面板4还包括设置于多个调光电极43与多条信号线41A之间的第一钝化层42A，第一钝化层42A具有多个第一过孔H1，每个调光电极43通过至少一个第一过孔H1与相应的信号线41A电连接。
示例性地，每个调光电极43通过一个第一过孔H1与相应的信号线41A电连接。
示例性地，每个调光电极43通过至少两个第一过孔H1与相应的信号线41A电连接，例如两个、三个或四个第一过孔H1，这样可减小调光电极43余信号线41A之间的电连接的电阻率。
示例性地，第一钝化层42a的材料包括氮化硅(化学式：SiNx)。
在一些实施例中，如图6B所示，在信号线41A包括依次连接的多个弯折部410，信号线41A呈折线状的情况下，第一过孔H1在显示面板3上的正投影，位于相邻两个弯折部410在显示面板3上的正投影的相交位置处，即第一过孔H1位于弯折单元411的拐角位置处。相对于将第一过孔H1设置在弯折部410的非两端位置(例如弯折部410的中间位置)，上述将第一过孔H1设置于相邻两个弯折部410的相交位置处，可减小调光电极43与信号线41A之间电连接的电阻率。
在一些实施例中，如图6A和图6B所示，调光面板4还包括设置于调光面板4一侧的驱动芯片48，驱动芯片48与多条信号线41A电连接。
驱动芯片48被配置为分别向每条信号线41A提供控制电压信号，以控制与各信号线41A电连接的调光电极43的电压，实现对调光电极43的单独控制。
在相关技术中，如图1所示，显示模组100在进行画面显示时，存在调光电极的边缘发亮的问题，影响显示品质；尤其是在显示低灰阶画面时，这种问题更加明显。
本公开的发明人经研究发现造成上述问题的原因之一在于，由于多个调光电极之间具有间隙(Space)，间隙正对的区域内的液晶无法得到有效地调控，因此会导致间隙出现漏光问题。
为解决上述问题，在一些实施例中，针对多个调光电极43之间的间隙S，在不同的间隙宽度下，进行漏光模拟实验，实验结果如下表2所示：
表2
Figure BDA0002731751480000131
其中，“影响宽度”是指间隙S所影响的漏光区域的宽度。需要说明的是，受液晶分子偏转的影响，相邻两个调光电极43之间的间隙S所引起的漏光区域，不仅包括间隙区域，还包括在垂直于间隙S的延伸方向上，间隙S两侧的区域，因此在垂直于间隙S的延伸方向上，漏光区域的宽度会大于间隙区域的宽度。
“间隙亮度Max”是指漏光区域中的最大亮度值。
“块亮度”是指调光电极43所在调光区域D的平均亮度值。
从上表2中可以得到，在块亮度相同的情况下，可以认为是在调光电极43上的控制电压相同的情况下，间隙S宽度越小，影响宽度越小，间隙亮度Max越小，即相邻两个调光电极43之间的间隙S的宽度越小，间隙S所影响的漏光区域的宽度越小，且间隙中的最大亮度值越小，从而漏光的目视效果越轻微。
因此，结合上述实验结果，可以将相邻两个调光电极43之间的间隙S的宽度设置的尽量小，以减少间隙S的漏光。例如，间隙S的宽度可以设置为设备所能达到的最小值。例如，间隙S的宽度可设置为2.8μm。
考虑到如果间隙S的宽度设置的太小，则可能制备难度会增大，并且可能会存在刻蚀残余量过多，而导致无法使相邻调光电极43之间做到有效绝缘的问题，因此多个调光电极43之间的间隙S的宽度的范围可设置为3.0μm～3.5μm，例如3.0μm、3.1μm、3.3μm、3.4μm或3.5μm等等，以在不明显增加工艺难度，保证相邻调光电极43之间有效绝缘的前提下，减小间隙S的漏光。
为验证上述漏光模拟实验的实验结果，进行如下实验：
参考图17A和图17B，图17A示出了间隙S宽度为3.5μm的情况下，在垂直于间隙S的延伸方向上，间隙内各个位置的亮度值的分布情况；图17B示出了间隙宽度为10μm的情况下，在垂直于间隙S的延伸方向上，间隙S内各个区域的亮度值的分布情况。
可见，在调光电极43上的控制电压相同的情况，也即在块亮度相同的情况下，间隙S宽度越小，间隙亮度Max越小，即漏光区域中的最大亮度值越小，从而漏光的目视效果越轻微。
此外，还可通过如下实施例解决调光电极43之间的间隙S漏光的问题。
在一些实施例中，如图6B所示，调光面板4还包括与信号线41A材料相同且同层设置的第一遮光图案41B，第一遮光图案41B整体沿第二方向U延伸。
需要说明的是，此处“第一遮光图案41B整体沿第二方向U延伸”与上文提到的“每条信号线41A整体沿第二方向U延伸”的描述是类似的，即第一遮光图案41B整体上具有沿第二方向U延伸的趋势。
第一遮光图案41B在显示面板3上的正投影，位于相邻两列调光电极43在显示面板3上的正投影之间，利用第一遮光图案41B遮挡相邻两列调光电极43之间的间隙，从而减少调光电极之间的间隙漏光，以减轻调光电极43的边缘出现发亮的现象。
示例性地，如图6B所示，在信号线41A呈折线状的情况下，调光电极43的沿第二方向U延伸的边缘轮廓呈与信号线41A的形状相同的折线状，且该边缘轮廓与信号线41A相互平行。且沿第一方向V，相邻的两个调光电极43的相互靠近的边缘轮廓的形状互补。在此基础上，第一遮光图案41B呈与调光电极43的沿第二方向U延伸的边缘轮廓形状相同的折线状，且第一遮光图案41B与该边缘轮廓相互平行。
通过上述设置方式，调光电极43的沿第二方向U延伸的边缘轮廓和第一遮光图案41B均与信号线41A的形状相同，即均呈折线状，使第一遮光图案41B在显示面板3上的正投影，位于相邻两列调光电极43在显示面板3上的正投影之间，这样能够遮挡相邻两个调光电极43之间的间隙。
并且，相对于信号线41A的形状呈折线状，第一遮光图案41B的形状呈直线状的设计，上述实施例中第一遮光图案41B和信号线41A的形状相同，可保证显示效果的均一性。
此外，第一遮光图案41B与信号线41A材料相同且同层设置，使得二者可在相同的工艺制程下形成，无需额外设置用于形成第一遮光图案41B的工艺步骤，有利于简化显示模组的制备工艺。
需要说明的是，在本公开实施例中，调光电极43的形状可以为矩形，例如为正方形。调光电极43的形状还可以为其他形状，本公开实施例对此不作限定。在调光电极43整体的形状确定的情况下，调光电极43的边缘轮廓可以是直线，也可以是非直线，例如如图6B所示，虽然调光电极43的沿第二方向U延伸的边缘边缘轮廓呈折线状，但是仍然可将调光电极43的整体形状视为大致为矩形，例如可大致为正方形。
在一些实施例中，如图6B所示，调光面板43还包括与信号线41A材料相同且同层设置的第二遮光图案41C。第二遮光图案41C整体沿第一方向V延伸，且第二遮光图案41C在与信号线41A交叉的位置处断开。
基于此，使第二遮光图案41C在显示面板3上的正投影，位于相邻两行调光电极43在显示面板3上的正投影之间，利用第二遮光图案41C可遮挡相邻两行调光电极43之间的间隙，进一步减少调光电极43之间的间隙漏光，改善调光电极43的边缘出现发亮的现象。
并且，第二遮光图案41C与信号线41A材料相同且同层设置，使得二者可在相同的工艺制程下形成，无需额外设置用于形成第二遮光图案41C的工艺步骤，有利于简化显示模组的制备工艺。
此外，第二遮光图案41C整体沿第一方向V延伸，且第二遮光图案41C在与信号线41A交叉的位置处断开，这样可避免第二遮光图案41C与信号线41A之间发生电连接，而导致信号线41A上所传输的控制电压信号发生串扰。
除上述实施例以外，在相关技术中，在将调光面板2和显示面板1进行贴合组装的过程中，会尽量使显示面板1中的黑矩阵图案与相邻两个调光电极之间的间隙相对应，以利用黑矩阵图案遮挡相邻两个调光电极之间的间隙，从而减少间隙漏光。
然而，由于调光面板2中每个调光电极对应显示面板1中的多个子像素，因此调光电极的尺寸相对于子像素的尺寸而言是较大的，相邻两个调光电极之间的间隙宽度也是较大的；加之调光面板2和显示面板1之间的对位是两个面板之间进行对位，因此对位精度并不高。因此，黑矩阵图案并不能有效地遮挡相邻两个调光电极之间的间隙，这导致调光电极的边缘出现发亮的现象，影响显示模组100的画面品质；尤其是在显示低灰阶画面时，调光电极边缘发亮的现象会更加明显。
为解决上述问题，在一些实施例中，如图3所示，显示面板3包括相对设置的第一衬底30和第二衬底31，设置于第一衬底30朝向第二衬底31一侧的驱动电路层T，以及设置于第二衬底31朝向第一衬底30一侧的彩色滤光层32和黑矩阵图案33。
在第一衬底30上设置驱动电路层T，可形成阵列基板3A，在第二衬底31上设置彩色滤光层32和黑矩阵图案33，可形成彩膜基板3B，将阵列基板3A和彩膜基板3B对盒，可形成上述显示面板3。
如图2和图3所示，黑矩阵图案33在第二衬底31上的正投影覆盖任意相邻两个调光电极43之间的间隙S在第二衬底31上的正投影。
通过上述的设置方式，黑矩阵图案33在第二衬底31上的正投影覆盖任意相邻两个调光电极43之间的间隙S在第二衬底31上的正投影，使得黑矩阵图案33遮挡任意相邻两个调光电极43之间的间隙S，避免光线直接从间隙S透过并射向显示面板1，进一步改善了调光电极43的边缘发亮的问题。
上述显示面板3可以是液晶显示面板，在此情况下，显示面板3除包括上述阵列基板3A和彩膜基板3B外，还包括位于阵列基板3A和彩膜基板3B之间的第一液晶层34。通过向第一液晶层34施加电场，控制第一液晶层34中位于各子像素区域P内的液晶分子进行不同程度的偏转，可实现对每个子像素的灰阶的控制。
如图2和图3所示，彩色滤光层32包括多个滤光部，所述多个滤光部分别与多个子像素区域P一一正对。所述多个滤光部例如包括多个红色滤光部、多个绿色滤光部以及多个蓝色滤光部。黑矩阵图案33将所述多个滤光部间隔开，以防止不同颜色子像素之间串色。
如图2和图3所示，调光面板4包括位于第二衬底31远离第一衬底30一侧，且与第二衬底31相对设置的第三衬底40。其中，调光面板4与显示面板3共用第二衬底31。通过将第三衬底40与显示面板3对盒，可形成调光面板4。
需要说明的是，“调光面板4与显示面板3共用第二衬底31”是指，第二衬底31既作为显示面板3的一个衬底，又作为调光面板4的一个衬底。
如图3所示，调光面板4还包括设置于第二衬底31与第三衬底40之间的第二液晶层45。通过向第二液晶层45施加电场，控制第二液晶层45中位于不同调光区域D的液晶分子进行不同程度的偏转，可对第二液晶层45的光线的透过率进行分区调制。
相对于常规显示面板中彩膜基板相对于阵列基板靠近显示面板的显示侧(即出光侧)的设置方式，在本公开的上述实施例中，请参见图2和图3，通过使显示面板3的阵列基板3A靠近显示模组200的显示侧E(即出光侧)，彩膜基板3B设置于阵列基板3A靠近调光面板4的一侧，减小了彩膜基板3B中的黑矩阵图案33与调光面板4中的调光电极的距离，降低了黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙S的对位难度，从而有利于提高黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙S的对位精度，使得黑矩阵图案33可以有效遮挡相邻两个调光电极之间的间隙区域的漏光，避免调光电极的边缘出现发亮的现象，从而提高显示模组200的画面品质。
并且，在常规技术中需要进行对位的是调光面板4与显示面板3这两个面板，而本公开的上述实施例中，通过使调光面板4与显示面板3共用第二衬底31，使得在形成调光面板4的过程中，进行对位的是调光面板4的第三衬底40与显示面板3，衬底与面板的对位精度要高于两个面板的对位精度，即调光面板4的第三衬底40与显示面板3的对位精度较高，这有利于黑矩阵图案33可以更有效地遮挡相邻两个调光电极之间的间隙区域的漏光。
此外，由于调光面板4与显示面板3共用第二衬底31，使得显示模组200减少了一个衬底，从而减小了显示模组200的厚度，有利于显示模组200的轻薄化。
在一些实施例中，在调光面板4与显示面板3的对位精度提高，且可保证黑矩阵图案33遮挡任意相邻两个调光电极43之间的间隙S的情况下，可适度减小黑矩阵图案33的宽度，这有利于提高子像素区域P的开口率，从而有利于提高显示模组200的显示亮度。
示例性地，黑矩阵图案33的宽度的范围可设置为5.0μm±1.0μm，例如5μm、5.2μm、5.4μm、5.6μm、5.8μm或6.0μm等等。
在一些实施例中，如图3和图7所示，显示面板3还包括分别设置于第一液晶层34两侧的第一配向膜35。即，阵列基板3A朝向彩膜基板3B的一面，以及彩膜基板3B朝向阵列基板3A的一面，均设置有第一配向膜35。
在一些实施例中，如图3和图7所示，多个调光电极43设置于第二衬底31或第三衬底40中的一者上。
示例性地，如图3所示，在多个调光电极43设置于第三衬底40的情况下，多条信号线41A设置于第三衬底40上。
在多条信号线41A设置于第三衬底40上的情况下，多条信号线41A位于多个调光电极43靠近第三衬底40的一侧，图3示出了这种情形。或者，多条信号线41A位于多个调光电极43远离第三衬底40的一侧。
示例性地，如图7所示，在多个调光电极43设置于第二衬底31的情况下，多条信号线41A设置于第二衬底31上。
在多条信号线41A设置于第二衬底31上的情况下，多条信号线41A位于多个调光电极43靠近第二衬底31的一侧，图7示出了这种情形。或者，多条信号线41A位于多个调光电极43远离第二衬底31的一侧。
在一些实施例中，如图3和图7所示，调光面板4还包括设置于第二衬底31和第三衬底40中的一者上的参考电极46。参考电极46在第二衬底31上的正投影，与各调光电极43在第二衬底31上的正投影均有交叠。
在调光面板4工作时，参考电极46被配置为传输参考电压信号，每个调光电极43分别传输控制电压信号，从而在每个调光电极43与参考电极46之间产生电场，该电场可驱动位于相应调光区域D内的第二液晶层45的液晶分子偏转，实现对经过每个调光区域D射向显示面板3的光线的透过率的调节。
示例性地，参考电极46可覆盖调光面板4的整个显示区。在一些实施例中，如图3和图7所示，参考电极46与多个调光电极43分别设置于不同的衬底上。调光面板4的液晶调制类型可采用TN(Twisted Nematic，扭曲向列)型。
示例性地，如图3和图7所示，调光电极43为块状电极，多个调光电极43相互独立设置；参考电极46为覆盖调光面板4的整个显示区的面状电极。
示例性地，如图3所示，多个调光电极43设置于第三衬底40靠近第一衬底30的一侧，参考电极46设置于第二衬底31远离第一衬底30的一侧。
在上述实施例中，由于调光电极43为块状电极，制备调光电极43需要采用光刻工艺，因此将调光电极43设置在结构简单的第三衬底40(第三衬底40相对于显示面板3的结构更简单)上，可降低调光电极43的制备工艺的难度，并且避免制备调光电极43可能会对显示面板3中的结构造成的影响。
示例性地，如图7所示，多个调光电极43设置于第二衬底31远离第一衬底30的一侧，参考电极46设置于第三衬底40靠近第一衬底30的一侧。黑矩阵图案33和调光电极43均设置在第二衬底31上，且分别位于第二衬底31的两侧，可进一步减小黑矩阵图案33与调光电极43的距离，从而进一步降低黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙S的对位难度。
并且，如果将黑矩阵图案33和调光电极43分别制作在两个衬底上，后续需要将二者所在的衬底进行对位，不可避免的会存在对位偏差的问题。而在上述实施例中，黑矩阵图案33和调光电极43均设置在第二衬底31上，且分别位于第二衬底31的两侧，在将黑矩阵图案33和调光电极43对位时，仅需要通过在相应的膜层设置对位标记，即可实现二者的精准对位，从而消除了两个衬底对位所带来的对位偏差，使得黑矩阵图案33能够更加有效地遮挡相邻两个调光电极43之间的间隙S。
在另一些实施例中，如图8和图9所示，参考电极46与多个调光电极43设置于相同的衬底上。调光面板4的液晶调制类型可采用高级超维场转换(Advanced Super DimensionSwitch，简称ADS)型。
参考电极46相对于多个调光电极43，远离参考电极46和多个调光电极43所在的衬底。调光电极43为块状电极，多个调光电极43相互独立设置；参考电极46为覆盖调光面板4的整个显示区的面状电极，且参考电极46中与每个调光电极43正对的部分具有多条狭缝461。
示例性地，如图8所示，参考电极46与多个调光电极43均设置于第三衬底40靠近第一衬底30的一侧。将参考电极46与多个调光电极43均设置在结构简单的第三衬底40上，可降低参考电极46与调光电极43的制备工艺的难度，并且避免制备参考电极46与调光电极43可能会对显示面板3中的结构造成的影响。
示例性地，如图9所示，参考电极46与多个调光电极43均设置于第二衬底31远离第一衬底30的一侧。参考电极46与多个调光电极43均设置于第二衬底31上，可降低黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙S的对位难度。
在另一些实施例中，如图10和图11所示，参考电极46与多个调光电极43设置于相同的衬底上，参考电极46相对于多个调光电极43，靠近参考电极46和多个调光电极43所在的衬底。
示例性地，参考电极46为覆盖调光面板4的整个显示区的面状电极；调光电极43为块状电极，多个调光电极43相互独立设置，且每个调光电极43具有多条狭缝431。
参考电极46上开设有多个第三过孔H3，使多个调光电极43可穿过第三过孔H3与衬底上的信号线41A电连接，以将控制电压信号传输至多个调光电极43。
示例性地，如图10所示，参考电极46与多个调光电极43均设置于第三衬底40靠近第一衬底30的一侧。
示例性地，如图11所示，参考电极46与多个调光电极43均设置于第二衬底31远离第一衬底30的一侧。
在一些实施例中，如图8～图11所示，在参考电极46与多个调光电极43设置于相同的衬底上的情况下，调光面板4还包括设置于多个调光电极43与参考电极46之间的第二钝化层42B，使多个调光电极43与参考电极46之间绝缘。
示例性地，如图8和图9所示，在参考电极46相对于多个调光电极43，远离参考电极46和多个调光电极43所在的衬底的情况下，第二钝化层42B覆盖多个调光电极43，使多个调光电极43与参考电极46隔开，实现调光电极43与参考电极46的绝缘。
示例性地，如图10和图11所示，在参考电极46相对于多个调光电极43，靠近参考电极46和多个调光电极43所在的衬底，且参考电极46位于多条信号线41A所在膜层与多个调光电极43之间的情况下，第二钝化层42B的部分陷入参考电极46中的第三过孔H3内并与第一钝化层42A接触。第二钝化层42B内设置有贯通的第二过孔H2，第二过孔H2与第一过孔H1连通以暴露信号线41A的至少一部分。每个调光电极43通过第二过孔H2和第一过孔H1与一条信号线41A电连接。
其中，第二钝化层42B陷入参考电极46中的第三过孔H3内的部分，将每个调光电极43与参考电极46的第三过孔H3的内壁隔开，实现调光电极43与参考电极46的绝缘。
在一些实施例中，如图3和图7所示，调光面板4还包括设置于第二液晶层45两侧表面的第二配向膜44。即，彩膜基板3B朝向第三衬底40的一面，以及第三衬底40朝向彩膜基板3B的一面，均设置有第二配向膜44。
在一些实施例中，如图3和图7所示，显示模组200还包括设置于第一衬底30远离第二衬底31一侧的第一偏振片50，设置于第二衬底31远离第一衬底30一侧的金属线栅偏振层(Wire Grid Polarizer，简称WGP)6，以及设置于第三衬底40远离第一衬底30一侧的第二偏振片51。
其中，第一偏振片50和第二偏振片51的吸收轴的方向，分别与金属线栅偏振层6的吸收轴的方向垂直。
在显示模组200为常白模式的显示模组的情况下，在调光面板4关闭的状态下，来自背光模组的光线中偏振方向垂直于第二偏振片51的吸收轴的光线，经第二偏振片51进入显示模组200的调光面板4内。而后，偏振光的偏振方向经第二液晶层45偏转90°后，与金属线栅偏振层6的吸收轴垂直，使偏振光可全部通过金属线栅偏振层6进入显示面板3内。而后，偏振光的偏振方向经第一液晶层34偏转90°后与第一偏振片50的吸收轴垂直，最终偏振光可全部通过第一偏振片50，从而使显示模组200处于常白模式。
需要说明的是，第一偏振片50、第二偏振片51和金属线栅偏振层6的吸收轴之间的方向关系并不限于上述关系，三者的吸收轴之间的方向关系，可根据显示面板3和调光面板4各自的液晶调制模式以及显示模组200位常白或常黑模式等因素，进行相应的设置。
示例性地，金属线栅偏振层6包括多条平行的金属线。金属线的材料可包括铝或银或钼等。
在本公开的上述实施例中，可采用光刻工艺，将金属线栅偏振层6设置于第二衬底31远离第一衬底30一侧的表面上，代替粘贴在第二衬底31上的偏光片，从而使得在后续步骤中可进一步在第二衬底31上制备膜层，例如调光电极43或参考电极46等，使得调光面板4与显示面板3共用第二衬底31的目的得以实现；并且，相对应采用偏光片，采用金属线栅偏振层6，有利于减小显示模组200的厚度。
在一些实施例中，如图3所示，在参考电极46设置于第二衬底31上，且多个调光电极43设置于第三衬底40上的情况下，金属线栅偏振层6位于第二衬底31与参考电极46之间。
在此基础上，显示模组200还包括设置于金属线栅偏振层6与参考电极46之间的绝缘层7，通过绝缘层7将金属线栅偏振层6与参考电极46隔开，实现金属线栅偏振层6与多个调光电极43的绝缘。
示例性地，绝缘层7的材料包括氮化硅。
在另一些实施例中，如图7所示，在多个调光电极43设置于第二衬底31上，且参考电极46设置于第三衬底40上的情况下，金属线栅偏振层6位于第二衬底31与多个调光电极43之间。
在此基础上，显示模组200还包括设置于金属线栅偏振层6与多条信号线41A之间的绝缘层7，通过绝缘层7将金属线栅偏振层6与多条信号线41A隔开，实现金属线栅偏振层6与多条信号线41A的绝缘。
在上述实施例中，绝缘层7的材料可包括氮化硅。
在另一些实施例中，如图8和图10所示，在多个调光电极43和参考电极46均设置于第三衬底40上的情况下，金属线栅偏振层6位于第二衬底31与第二配向膜44之间。
在另一些实施例中，如图9所示，在多个调光电极43和参考电极46均设置于第二衬底31上，且多个调光电极43相对于参考电极46靠近第二衬底31的情况下，金属线栅偏振层6位于第二衬底31与多个调光电极43之间。
在另一些实施例中，如图11所示，在多个调光电极43和参考电极46均设置于第二衬底31上，且参考电极46相对于多个调光电极43靠近第二衬底31的情况下，金属线栅偏振层6位于第二衬底31与参考电极46之间。
在此基础上，如图9和图11所示，显示模组200还包括设置于金属线栅偏振层6与多条信号线41A之间的绝缘层7，通过绝缘层7将金属线栅偏振层6与多条信号线41A隔开，实现金属线栅偏振层6与多条信号线41A的绝缘。
在一些实施例中，显示面板3的第一衬底30和第二衬底31，以及调光面板4的第三衬底40为柔性可拉伸(Stretchable)的衬底，有利于显示模组200采用COP(英文全称：ChipOn Pi)封装工艺，从而可实现显示模组200的窄边框化，提高显示模组200的屏占比。
示例性地，第一衬底30、第二衬底31以及第三衬底40的材料可包括无色聚酰亚胺(Colorless Polymide，简称CPI)。
本公开的一些实施例还提供了一种显示装置，如图12所示，显示装置400包括上述实施例中的显示模组200，以及设置于调光面板4远离显示面板3一侧的背光模组300。背光模组300用于为显示模组200提供显示画面所需要的光线。
在本公开实施例所提供的显示装置400中，调光面板4采用无源驱动的方式，这样调光面板4中无需设置驱动电路，避免了驱动电路对光线的阻挡导致其透过率的降低，从而提高了调光面板2的光线透过率，改善了显示装置400的画面质量。
以上所述的显示装置400中的显示面板3可以为高透过率高级超维场转换(HighTransmission rate Advanced Super Dimension Switch，简称HADS)型液晶显示装置，还可以为高级超维场转换型、IPS(In-Plane Switching，平面转换)型、FFS(Fringe FieldSwitching，边界电场切换)型、TN型、MVA(Multi-domain Vertical Alignment，多畴垂直定向)型、或PVA(Patterned Vertical Alignment，图像垂直定向)型等类型的液晶显示装置。
上述显示装置400可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。
本公开的一些实施例还提供了一种显示模组200的制备方法，如图13A所示，包括如下S10～S50：
S10：在第一衬底30上形成多个像素驱动电路T＇。
示例性地，如图14A所示，在第一衬底30上形成驱动电路层T，驱动电路层T包括多个像素驱动电路T＇，得到阵列基板3A。其中，一个像素驱动电路T＇位于一个子像素区域P内，用于控制子像素的灰阶。
S20：在第二衬底31上形成彩色滤光层32和黑矩阵图案33。
示例性地，如图14B所示，在第二衬底31上形成彩色滤光层32和黑矩阵图案33，得到彩膜基板3B。其中，彩色滤光层32包括红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元。黑矩阵图案33将红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元间隔开，以防止不同颜色子像素之间串色。
示例性地，可先形成黑矩阵图案33，黑矩阵图案33具有多个过孔；然后在黑矩阵图案33的过孔内形成彩色滤光层32。
S30：如图14C所示，将形成有驱动电路层T的第一衬底30，与形成有彩色滤光层32和黑矩阵图案33的第二衬底31进行对盒，形成显示面板3。
显示面板3具有多个子像素区域P，显示面板3被配置为进行图像显示。
上述步骤中，在对盒过程中将液晶分子注入第一衬底30和第二衬底31所形成的液晶盒内，形成显示面板3的第一液晶层34。
在一些实施例中，如图13B所示，在S30之后，在S40之前，显示模组200的制备方法还包括如下S31～S33：
S31：如图14D所示，在S33之前，采用构图工艺，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成金属线栅偏振层6。
示例性地，采用薄膜沉积工艺，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成金属线栅偏振薄膜；采用光刻工艺，图案化金属线栅偏振薄膜形成金属线栅偏振层6。例如，薄膜沉积工艺可包括化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)或等离子体增强化学的气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，简称PECVD)或磁控溅射(Sputter)等。
S32：如图14E所示，在S31之后，采用薄膜沉积工艺，在金属线栅偏振层6远离第一衬底30的一侧形成绝缘层7。
通过绝缘层7将金属线栅偏振层6与后续将要形成的参考电极46隔开，以实现金属线栅偏振层6与参考电极46的绝缘。
S33：如图14F所示，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成参考电极46。
示例性地，采用磁控溅射工艺，在绝缘层7远离第一衬底30的一侧形成参考电极46。
S40：在第三衬底40上形成多个调光电极43和多条信号线41A。
示例性地，S40可包括如下S41～S43：
S41：如图14G所示，在第三衬底40的一侧形成多条信号线41A。
示例性地，采用化学气相沉积法，在第三衬底40的一侧形成信号线金属层；采用光刻工艺，图案化信号线金属层形成多条信号线41A。
S42：如图14H所示，在多条信号线41A远离第三衬底40的一侧形成第一钝化层42A。
示例性地，采用化学气相沉积法，在多条信号线41A远离第三衬底40的一侧形成覆盖多条信号线41A的第一钝化层42A；采用干法刻蚀工艺，在第一钝化层42A上形成多个第一过孔H1，一个第一过孔H1暴露一条信号线41A的至少一部分。
S43：如图14I所示，在第一钝化层42A远离第三衬底40的一侧形成多个调光电极43。
其中，每个调光电极43通过一个第一过孔H1与相应的信号线41A电连接。一个调光电极43位于一个调光区域D内，任意相邻两个调光电极43之间具有间隙S。
示例性地，采用磁控溅射工艺，在第一钝化层42A靠近第一衬底30的一侧形成电极薄膜；采用湿法刻蚀工艺，图案化电极薄膜形成多个调光电极43。
S50：如图14J所示，将第三衬底40与显示面板3进行对盒，形成调光面板4。
其中，第三衬底40位于第二衬底31远离第一衬底30的一侧，调光面板4与显示面板3共用第二衬底31。调光面板4具有多个调光区域D，沿垂直于显示面板的方向，一个调光区域D覆盖至少一个像素区域P＇。一个调光电极43位于一个调光区域D内，任意相邻两个调光电极43之间具有间隙S。每个调光电极43与至少一条信号线41A直接电连接，信号线41A被配置为向与其电连接的调光电极43传输用于控制该调光电极43所在的调光区域D的光线透过率的控制电压信号。调光面板4被配置为分别调节经过每个调光区域D射向显示面板3的光线的透过率。
在将第三衬底40与显示面板3进行对盒的过程中，使黑矩阵图案33在第二衬底31上的正投影覆盖任意相邻两个调光电极43之间的间隙S在第二衬底31上的正投影。
示例性地，首先采用PI Coat工艺，在第三衬底40和显示面板3上涂覆第二配向膜44；然后采用液晶滴下式注入(One Drop Filling，ODF)工艺，将第三衬底40与显示面板3进行对盒，形成调光面板4。
在一些实施例中，在S50之后，显示模组200的制备方法还包括：
S51：如图14K所示，在第一衬底30上粘贴第一偏振片50；在第三衬底40上粘贴第二偏振片51。
本公开的上述实施例中的制备方法，显示面板3的阵列基板3A位于显示模组200的显示侧(即出光侧)，彩膜基板3B设置于阵列基板3A靠近调光面板4的一侧，减小了彩膜基板3B中的黑矩阵图案33与调光面板4中的调光电极43的距离，降低了黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙的对位难度，有利于提高黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙的对位精度，使得黑矩阵图案33可以有效遮挡相邻两个调光电极之间的间隙区域的漏光，避免调光电极的边缘出现发亮的现象，从而保证显示模组200的画面品质。
并且，相较于将调光面板4与显示面板3这两个面板进行对位，本公开实施例中通过使调光面板4与显示面板3共用第二衬底31，调光面板4的第三衬底40与显示面板3的对位是衬底与面板的对位，可提高对位精度，从而提高了黑矩阵图案33与相邻两个调光电极43之间的间隙S区域的对位精度。
本公开的一些实施例还提供了另一种显示模组200的制备方法，如图15A所示，包括如下S60～S100：
S60：如图16A所示，与上述S10相同，在第一衬底30上形成多个像素驱动电路T＇。
S70：如图16B所示，与上述S20相同，在第二衬底31上形成彩色滤光层32和黑矩阵图案33。
S80：如图16C所示，与上述S30相同，将形成有驱动电路层T的第一衬底30，与形成有彩色滤光层32和黑矩阵图案33的第二衬底31进行对盒，形成显示面板3。
在一些实施例中，如图15B所示，在S80之后，在S90之前，显示模组200的制备方法还包括如下S81～S82：
S81：如图16D所示，与上述S31相同，采用构图工艺，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成金属线栅偏振层6。
S82：如图16E所示，与上述S31相同，采用薄膜沉积工艺，在金属线栅偏振层6远离第一衬底30的一侧形成绝缘层7。
S90：在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成多个调光电极43和多条信号线41A。
示例性地，S90可包括如下S91～S94：
S91：如图16F所示，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成多条信号线41A。
示例性地，采用化学气相沉积法，在绝缘层7远离第一衬底30的一侧形成信号线金属层；采用光刻工艺，图案化信号线金属层形成多条信号线41A。
S92：如图16G所示，在多条信号线41A远离第一衬底30的一侧形成第一钝化层42A。
示例性地，采用化学气相沉积法，在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成覆盖多条信号线41A的第一钝化层42A；采用干法刻蚀工艺，在第一钝化层42A上形成多个第一过孔H1，一个第一过孔H1暴露一条信号线41A的至少一部分。
S93：如图16H所示，在第一钝化层42A远离第一衬底30的一侧形成多个调光电极43。
其中，每个调光电极43通过一个第一过孔H1与相应的信号线41A电连接。一个调光电极43位于一个调光区域D内，任意相邻两个调光电极43之间具有间隙S。
在第二衬底31远离第一衬底30的一侧形成多个调光电极43的过程中，使黑矩阵图案33在第二衬底31上的正投影覆盖任意相邻两个调光电极43之间的间隙S在第二衬底31上的正投影。
示例性地，采用磁控溅射工艺，在第一钝化层42A远离第一衬底30的一侧形成电极薄膜；采用湿法刻蚀工艺，图案化电极薄膜形成多个调光电极43。
本公开的上述实施例中的制备方法，将黑矩阵图案33和调光电极43均制作在第二衬底31上，进一步减小了黑矩阵图案33与调光电极43的距离，降低了黑矩阵图案33与相邻两个调光电极之间的间隙的对位难度，可避免将黑矩阵图案33和调光电极43分别制作在两个衬底上，后续需要将二者所在的衬底进行对位，导致黑矩阵图案33与相邻两个调光电极43之间的间隙S的对位偏差的问题。
S94：如图16I所示，采用磁控溅射工艺，在第三衬底40的一侧形成参考电极46。
S100：如图16J所示，与上述S50相同，将第三衬底40与显示面板3进行对盒，形成调光面板4。
在一些实施例中，在S100之后，显示模组200的制备方法还包括：
S110：如图16K所示，与上述S41相同，在第一衬底30上粘贴第一偏振片50；在第三衬底40上粘贴第二偏振片51。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (23)

1.一种显示模组，包括：
显示面板，所述显示面板具有多个像素区域；
与所述显示面板叠加设置的调光面板，所述调光面板具有多个调光区域，沿垂直于所述显示面板的方向，一个调光区域覆盖至少一个像素区域；
其中，所述调光面板包括：
多个调光电极，一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙；
多条信号线，每个所述调光电极与至少一条信号线直接电连接；所述信号线被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。
2.根据权利要求1所述的显示模组，其中，所述多个调光电极呈阵列式布置；所述多个调光电极排列的行方向为第一方向，所述多个调光电极排列的列方向为第二方向；
每条所述信号线整体沿所述第二方向延伸，且所述多条信号线沿所述第一方向并列布置；
每条所述信号线在所述显示面板上的正投影，与其所电连接的调光电极所在的一列调光电极在所述显示面板上的正投影至少部分重叠。
3.根据权利要求2所述的显示模组，其中，所述信号线包括依次连接的多个弯折部，所述信号线呈折线状；
每相邻两个弯折部形成一个弯折单元；沿垂直于所述显示面板的方向，一个所述调光电极覆盖所述信号线的多个弯折单元。
4.根据权利要求3所述的显示模组，其中，沿所述第一方向，一个所述弯折单元经过1个～6个像素区域；
沿所述第二方向，一个所述弯折单元经过1个～6个像素区域。
5.根据权利要求2～4中任一项所述的显示模组，其中，所述调光面板还包括：
第一遮光图案；所述第一遮光图案在所述显示面板上的正投影，位于相邻两列所述调光电极在所述显示面板上的正投影之间；
所述第一遮光图案整体沿所述第二方向延伸；所述第一遮光图案与所述信号线材料相同且同层设置。
6.根据权利要求5所述的显示模组，其中，在所述信号线呈折线状的情况下，所述调光电极的沿所述第二方向延伸的边缘轮廓呈与所述信号线的形状相同的折线状，且该边缘轮廓与所述信号线相互平行；
沿所述第一方向，相邻的两个所述调光电极的相互靠近的边缘轮廓的形状互补；
所述第一遮光图案呈与所述调光电极的沿所述第二方向延伸的边缘轮廓形状相同的折线状，且所述第一遮光图案与该边缘轮廓相互平行。
7.根据权利要求2～4中任一项所述的显示模组，其中，所述调光面板还包括：
第二遮光图案；所述第二遮光图案在所述显示面板上的正投影，位于相邻两行所述调光电极在所述显示面板上的正投影之间；
所述第二遮光图案整体沿所述第一方向延伸，且所述第二遮光图案在与所述信号线交叉的位置处断开；所述第二遮光图案与所述信号线材料相同且同层设置。
8.根据权利要求1所述的显示模组，其中，所述调光面板还包括：
设置于所述调光面板一侧的驱动芯片，所述驱动芯片与所述多条信号线直接电连接；
所述驱动芯片被配置为分别向所述多条信号线提供所述控制电压信号，以控制与各所述信号线电连接的调光电极所在的调光区域的光线透过率。
9.根据权利要求1所述的显示模组，其中，所述调光面板还包括：
设置于所述多个调光电极与所述多条信号线之间的第一钝化层，所述第一钝化层具有多个第一过孔，每个所述调光电极通过至少一个第一过孔与相应的信号线电连接。
10.根据权利要求9所述的显示模组，其中，在所述信号线包括依次连接的多个弯折部，所述信号线呈折线状的情况下，
所述第一过孔在所述显示面板上的正投影，位于相邻两个弯折部在所述显示面板上的正投影的相交位置处。
11.根据权利要求1所述的显示模组，其中，所述信号线的线宽范围为2.2μm～3.0μm。
12.根据权利要求1所述的显示模组，其中，
所述显示面板包括：
相对设置的第一衬底和第二衬底；
设置于所述第一衬底朝向所述第二衬底一侧的多个像素驱动电路；和
设置于所述第二衬底朝向所述第一衬底一侧的彩色滤光层和黑矩阵图案；
所述调光面板还包括：
位于所述第二衬底远离所述第一衬底一侧，且与所述第二衬底相对设置的第三衬底；所述多个调光电极和所述多条信号线设置于所述第三衬底朝向所述第二衬底的一侧，或者设置于所述第二衬底朝向所述第三衬底的一侧；
其中，所述调光面板与所述显示面板共用所述第二衬底；且所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
13.根据权利要求12所述的显示模组，其中，
所述调光面板还包括：
设置于所述第二衬底和所述第三衬底中的一者上的参考电极；所述参考电极在所述第二衬底上的正投影，与各所述调光电极在所述第二衬底上的正投影均有交叠；
所述参考电极被配置为传输参考电压信号，与各所述调光电极之间产生电场。
14.根据权利要求12所述的显示模组，其中，
所述参考电极与所述多个调光电极分别设置于不同的衬底上；或者，
所述参考电极与所述多个调光电极设置于相同的衬底上；所述参考电极相对于所述多个调光电极，远离所述参考电极和所述多个调光电极所在的衬底，且所述参考电极中与每个所述调光电极正对的部分具有多条狭缝；或者，
所述参考电极与所述多个调光电极设置于相同的衬底上；所述参考电极相对于所述多个调光电极，靠近所述参考电极和所述多个调光电极所在的衬底，且每个所述调光电极具有多条狭缝。
15.根据权利要求12所述的显示模组，其中，所述多个调光电极之间的间隙的宽度的范围为3.0μm～3.5μm。
16.根据权利要求15所述的显示模组，其中，所述黑矩阵图案的宽度的范围为4μm～6μm。
17.根据权利要求12～16中任一项所述的显示模组，还包括：
设置于所述第一衬底远离所述第二衬底一侧的第一偏振片；
设置于所述第二衬底远离所述第一衬底一侧的金属线栅偏振层；
设置于所述第三衬底远离所述第一衬底一侧的第二偏振片；
其中，所述第一偏振片和所述第二偏振片的吸收轴的方向，分别与所述金属线栅偏振层的吸收轴的方向垂直。
18.根据权利要求17所述的显示模组，其中，在所述多个调光电极设置于所述第二衬底上，且所述参考电极设置于所述第三衬底上的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述多个调光电极之间；
在所述参考电极设置于所述第二衬底上，且所述多个调光电极设置于所述第三衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述参考电极之间；
在所述多个调光电极和所述参考电极均设置于所述第二衬底上，且所述多个调光电极相对于所述参考电极靠近所述第二衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述多个调光电极之间；
在所述多个调光电极和所述参考电极均设置于所述第二衬底上，且所述参考电极相对于所述多个调光电极靠近所述第二衬底的情况下，所述金属线栅偏振层位于所述第二衬底与所述参考电极之间。
19.一种显示装置，包括：
如权利要求1～18中任一项所述的显示模组；
设置于所述调光面板远离所述显示面板一侧的背光模组；所述背光模组被配置为，为所述显示模组提供光线。
20.一种显示模组的制备方法，包括：
在所述第一衬底上形成多个像素驱动电路；
在所述第二衬底上形成彩色滤光层和黑矩阵图案；
将形成有所述多个像素驱动电路的第一衬底，与形成有所述彩色滤光层和所述黑矩阵图案的第二衬底进行对盒，形成显示面板；其中，所述显示面板具有多个像素区域；
在第三衬底上或者在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成多个调光电极和多条信号线；
将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒，形成调光面板；所述第三衬底位于所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧；所述调光面板与所述显示面板共用所述第二衬底；其中，所述调光面板具有多个调光区域，沿垂直于所述显示面板的方向，一个调光区域覆盖至少一个像素区域；一个调光电极位于一个所述调光区域内，任意相邻两个所述调光电极之间具有间隙；每个所述调光电极与至少一条信号线直接电连接，所述信号线被配置为向与其电连接的调光电极传输用于控制该调光电极所在的调光区域的光线透过率的控制电压信号。
21.根据权利要求20所述的制备方法，其中，在所述多个调光电极和所述多条信号线形成于所述第三衬底上的情况下，所述制备方法还包括：
在将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成参考电极；
在将第三衬底与所述显示面板进行对盒的过程中，使所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
22.根据权利要求20所述的制备方法，其中，在所述多个调光电极和所述多条信号线形成于所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧的情况下，所述制备方法还包括：
在所述将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，在所述第三衬底靠近所述第一衬底的一侧形成参考电极；
在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成多个调光电极的过程中，使所述黑矩阵图案在所述第二衬底上的正投影覆盖任意相邻两个所述调光电极之间的间隙在所述第二衬底上的正投影。
23.根据权利要求20～22中任一项所述的制备方法，还包括：
在将所述第三衬底与所述显示面板进行对盒之前，
采用构图工艺，在所述第二衬底远离所述第一衬底的一侧形成金属线栅偏振层；
在所述金属线栅偏振层远离所述第一衬底的一侧形成绝缘层。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024108415A1 (zh) * 2022-11-23 2024-05-30 京东方科技集团股份有限公司 显示装置

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3918371B2 (ja) * 1999-07-19 2007-05-23 富士ゼロックス株式会社 カラーフィルタ、表示素子、表示方法、および表示装置
KR101258591B1 (ko) * 2005-12-23 2013-05-02 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 구동방법
TWI328709B (en) * 2006-03-28 2010-08-11 Au Optronics Corp Liquid crystal display
WO2008053724A1 (fr) * 2006-11-02 2008-05-08 Sharp Kabushiki Kaisha Dispositif d'affichage à cristaux liquides et récepteur de télévision
EP2437107B1 (en) 2009-05-27 2015-01-28 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device
US20140293188A1 (en) 2013-04-01 2014-10-02 Apple Inc. Displays with Local Dimming Elements
TWI512378B (zh) 2013-08-19 2015-12-11 Au Optronics Corp 畫素結構
US9741293B2 (en) * 2014-09-29 2017-08-22 Japan Display Inc. Display device with optical separation and respective liquid crystal panels
CN105182647B (zh) * 2015-10-16 2019-01-11 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、液晶显示面板及驱动方法
KR102541940B1 (ko) 2016-05-31 2023-06-12 엘지디스플레이 주식회사 광 밸브 패널과 이를 이용한 액정표시장치
WO2018178795A1 (ja) * 2017-03-27 2018-10-04 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置、表示モジュール、及び電子機器
JP2018180290A (ja) * 2017-04-13 2018-11-15 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
CN107123745B (zh) 2017-04-27 2018-12-14 上海天马有机发光显示技术有限公司 像素阵列及其制作方法、显示面板和显示装置
JP6983539B2 (ja) * 2017-05-26 2021-12-17 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
JP6862330B2 (ja) * 2017-10-25 2021-04-21 パナソニック液晶ディスプレイ株式会社 液晶表示装置
US10481447B2 (en) 2017-10-30 2019-11-19 A.U. Vista, Inc. LCD display device
WO2019152484A1 (en) 2018-02-02 2019-08-08 Pure Depth Inc. Multi-display system with black mask reduction
CN108427222A (zh) 2018-03-23 2018-08-21 惠州市华星光电技术有限公司 液晶显示装置及其显示控制方法
CN110568684A (zh) 2018-06-05 2019-12-13 深圳Tcl新技术有限公司 一种液晶显示模组及液晶显示装置
CN108983463B (zh) * 2018-08-29 2021-03-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置
CN108983515B (zh) 2018-10-12 2022-04-22 京东方科技集团股份有限公司 一种液晶显示器件及其制备方法和显示装置
CN111123592A (zh) 2018-10-31 2020-05-08 深圳Tcl新技术有限公司 一种液晶模组及其显示装置
CN109239995A (zh) 2018-11-23 2019-01-18 昆山龙腾光电有限公司 液晶显示装置及其驱动方法
CN109713159A (zh) 2018-12-26 2019-05-03 上海晶合光电科技有限公司 一种顶电极图案化有机电致发光器件的制备方法
JP7250558B2 (ja) * 2019-02-19 2023-04-03 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置及び半導体装置
CN109828417A (zh) 2019-03-27 2019-05-31 深圳Tcl新技术有限公司 双cell液晶显示模组及电视机
CN109960082B (zh) 2019-05-05 2022-06-07 京东方科技集团股份有限公司 场序显示模组、显示装置及场序显示控制方法
CN110286533B (zh) 2019-05-31 2021-11-19 上海天马微电子有限公司 显示装置
RU2727938C1 (ru) * 2019-07-31 2020-07-27 Боэ Текнолоджи Груп Ко., Лтд. Подложка отображения и устройство отображения
TWI706204B (zh) * 2019-08-12 2020-10-01 友達光電股份有限公司 畫素結構
CN110673381B (zh) 2019-09-12 2021-08-24 武汉华星光电技术有限公司 双层液晶显示面板及其制备方法
CN110673412B (zh) 2019-10-17 2022-06-17 京东方科技集团股份有限公司 显示面板和显示装置
CN211149139U (zh) * 2020-01-22 2020-07-31 京东方科技集团股份有限公司 调光面板
CN213987120U (zh) * 2020-10-19 2021-08-17 京东方科技集团股份有限公司 显示模组及显示装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024108415A1 (zh) * 2022-11-23 2024-05-30 京东方科技集团股份有限公司 显示装置

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Publication number Publication date
US11988931B2 (en) 2024-05-21
US20230341734A1 (en) 2023-10-26
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