CN114353618B - Pvd工艺腔装配辅助校准治具及方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法。治具包括校准杆梢和至少三组校准模块，校准杆梢的直径与治具中心设置的校准杆孔的孔径一致，使用过程中，至少三组校准模块相互接触，校准杆梢穿过校准杆孔并可***至位于治具下方的待校准模块的圆心定位孔中；校准模块包括支撑部、校准结构和固定结构，校准结构与支撑部相连接，且可在支撑部上沿水平方向移动，固定结构与支撑部的一端相连接，校准结构包括升降杆，升降杆穿过支撑部，且可以在纵向升降。本发明可以在待校准模。块的安装过程中，辅助校准水平程度，确保安装与校准同步完成，且可实现中心精准定位，有助于提高腔体的制程工艺良率，且使用方便，有助于提高校准效率。

Description

PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，特别是涉及一种PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法。

背景技术

物理气相沉积（PVD）设备上的磁铁组件是形成溅射磁场、控制靶材粒子溅射方向的重要模块，磁铁组件形状、大小、磁性等参数的不同，所产生的磁场效果也各不相同，市场上的磁铁组件各式各样种类纷繁，而螺旋形磁铁组件5（如图1所示）经特殊结构设计所形成的磁场能使溅射粒子分布更加均匀，沉积薄膜的效果也更好，在各大设备厂商得到广泛使用。所述螺旋形磁铁组件5的安装需要保证与晶圆基座4（如图2所示）形成相对平行的位置关系，因此在安装过程中必须要做的一项工作就是调节螺旋形磁铁组件与晶圆基座的平行度（简称调平）。

现有技术中，本领域技术人员通常采用的调平方式是，使用一根铝条平铺在靶材安装面作为调平基准，选取螺旋形磁铁组件上三个不重合的点，采用磁铁吸附卡尺测量选取点到达铝条的垂直距离，通过微调螺旋形磁铁组件倾斜角度使三点测量的垂直距离完全相同即表示调平完成。该方法存在的问题：采用磁铁吸附卡尺测量垂直距离的过程中，螺旋形磁铁组件的表面容易被划伤；与铝条配合测量时，卡尺和铝条的接触面需要不断地确认是否保持垂直，这种操作方式非常麻烦，准确度不够高且效率较低，由于需要多点测量数据，实际操作起来十分不便；调平结果存在一定的操作误差，导致调平后晶圆基座与螺旋形磁铁组件之间仍存在一定的夹角而非平行。

腔体内晶圆基座的安装也需要调整水平度和确定中心位置。原来的方法是，必须等到螺旋形磁铁组件安装并调整到位后再安装晶圆基座，采用间隙测量仪（GAP）辅助塞尺来测量晶圆基座的水平度并进行微调，直到与螺旋形磁铁组件相对平行为止，之后将其固定安装，微调的方式通常是以螺旋形磁铁组件为基准，使用塞尺测量晶圆基座四个方向的间隙。该方法存在的问题：使用塞尺会产生摩擦，摩擦产生的颗粒会对工艺制程造成污染；晶圆基座安装时无法定中心，需要反复调节安装螺钉，中心不准将影响工艺效果。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法，用于解决现有技术中采用铝条和磁铁调节螺旋形磁铁组件与晶圆基座的平行度的过程中存在的容易划伤螺旋形磁铁组件，准确度不高且效率低，和/或采用间隙测量仪辅助塞尺测量晶圆基座的水平度的方法容易导致颗粒污染，且同样存在测量不准确等问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种PVD工艺腔装配辅助校准治具，包括校准杆梢和至少三组校准模块，校准杆梢的直径与治具中心设置的校准杆孔的孔径一致，使用过程中，至少三组校准模块相互接触，校准杆梢穿过校准杆孔并可***至位于治具下方的待校准模块的圆心定位孔中；所述校准模块包括支撑部、校准结构和固定结构，所述校准结构与所述支撑部相连接，且可在所述支撑部上沿水平方向移动，所述固定结构与所述支撑部的远离校准杆孔的一端相连接；所述校准结构包括升降杆、平移块和定位块，所述升降杆穿过所述支撑部，且可以在纵向升降，所述平移块设置于所述支撑部上并与所述支撑部滑动连接，可在水平方向移动以调节所述校准结构所处的位置，所述升降杆上下贯穿所述平移块，并与所述平移块通过螺纹活动连接，所述定位块位于所述升降杆上，并与所述升降杆固定连接；所述支撑部包括支撑主体、位于所述支撑主体上的移动槽和预留操作口；所述移动槽为所述校准结构提供水平方向和竖直方向移动的空间，所述预留操作口位于所述支撑部远离中心位置的一端，且位于所述固定结构的活动块紧固件的上方，通过所述预留操作口对所述固定结构的活动块进行固定操作，所述移动槽上设置有装配缺口和缺口补充块，所述装配缺口为所述移动槽上贯通至所述支撑部边缘的预留装配空间，大小与所述缺口补充块一致，所述缺口补充块上开设有与所述移动槽对应的活动槽，活动槽与所述装配缺口尺寸一致，所述活动槽与所述移动槽共同构成校准结构的水平移动空间。

可选地，所述校准杆梢的材质包括金属和陶瓷中的任意一种，所述校准杆梢上设置有定位标志刻度，用于标识所述校准杆梢的***位置。

可选地，所述固定结构还包括螺纹杆和升降块，所述螺纹杆贯穿所述支撑部并向下延伸至与位于所述支撑部下方的所述升降块螺纹连接，通过旋转所述螺纹杆可带动所述升降块上下移动；所述活动块位于所述升降块上，并与所述升降块固定连接，活动块上预留有水平方向伸缩移动的空间。

可选地，所述固定结构还包括升降轨，所述升降轨设置于所述升降块和所述支撑部顶端的中间位置，并与所述支撑部固定连接，所述升降块套设于所述升降轨上，且可沿所述升降轨上下移动。

可选地，所述支撑部还设置有位于支撑主体表面的第一刻度尺，用于计量所述校准结构在水平方向上的移动距离。

可选地，所述平移块上还可设置有滑动件，所述滑动件位于所述平移块内侧并与所述平移块活动连接，用于确保所述平移块在所述移动槽内平滑移动。

可选地，所述定位块包括固定部和延伸部，所述固定部一端与所述平移块固定连接，另一端与所述延伸部固定连接，所述延伸部位于所述移动槽内并贯穿所述移动槽，且位于所述平移块远离治具中心的一侧。

可选地，所述升降杆底部设置有非磁性的柔性抵触头，上部设置有旋转把手。

可选地，所述治具还包括横跨于所述校准杆孔上方的辅助支撑结构，所述辅助支撑结构上设置有辅助定位孔，辅助定位孔尺寸与校准杆孔尺寸一致且位于同一垂线上，使用时，校准杆梢依次穿过辅助定位孔和校准杆孔。

可选地，待校准模块包括晶圆基座和螺旋型磁铁组件中的任意一种。

本发明还提供一种PVD工艺腔装配辅助校准方法，所述校准方法使用如上述任一方案中所述的PVD工艺腔装配辅助校准治具进行。

如上所述，本发明的PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法，具有以下有益效果：本发明经改善的结构设计，可以在待校准模块的安装过程中，辅助校准水平程度，确保安装与校准同步完成，且可实现中心精准定位，有助于提高腔体的制程工艺良率，且使用方便，有助于提高校准效率。

附图说明

图1显示为PVD工艺腔内的螺旋形磁铁组件的结构示意图。

图2显示为PVD工艺腔内的晶圆基座的结构示意图。

图3显示为本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具的结构示意图。

图4显示为本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具的局部放大示意图。

图5显示为本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具安装于PVD工艺腔内的示意图。

图6显示为本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具对晶圆基座进行校准的示意图。

图7显示为本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具对螺旋形磁铁组件进行校准的示意图。

元件标号说明

1-校准杆梢；2-校准模块；21-支撑部；211-支撑主体；212-移动槽；213-第一刻度尺；214-预留操作口；215-缺口补充块；22-校准结构；221-升降杆；222-平移块；223-定位块；2231-固定部；2232-延伸部；224-抵触头；225-旋转把手；23-固定结构；231-螺纹杆；232-升降块；233-活动块；24-辅助支撑结构；3-校准杆孔；4-晶圆基座；5-螺旋形磁铁组件；61-腔体开口；62-腔体开口边缘。

具体实施方式

以下通过特定的具体实例说明本发明的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。如在详述本发明实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不依一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。

为了方便描述，此处可能使用诸如“之下”、“下方”、“低于”、“下面”、“上方”、“上”等的空间关系词语来描述附图中所示的一个元件或特征与其他元件或特征的关系。将理解到，这些空间关系词语意图包含使用中或操作中的器件的、除了附图中描绘的方向之外的其他方向。此外，当一层被称为在两层“之间”时，它可以是所述两层之间仅有的层，或者也可以存在一个或多个介于其间的层。

在本申请的上下文中，所描述的第一特征在第二特征“之上”的结构可以包括第一和第二特征形成为直接接触的实施例，也可以包括另外的特征形成在第一和第二特征之间的实施例，这样第一和第二特征可能不是直接接触。

需要说明的是,本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本发明的基本构想，遂图式中仅显示与本发明中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。为使图示尽量简洁，各附图中并未对所有的结构全部标示。

请参阅图3至图7。

如图3和4所示，本发明提供一种PVD工艺腔装配辅助校准治具，包括校准杆梢1和至少三组校准模块2，校准杆梢1的直径与治具中心设置的校准杆孔3的孔径一致，使用过程中，至少三组校准模块2相互接触，例如多个校准模块2可以为一体连接结构，也可以是可拆卸的组合结构，在使用时拼接在一起，且多组校准模块2通常为中心对称设置，而校准杆孔3位于多组校准模块2的正中间，例如校准模块2为3个，相邻两组校准模块2之间的夹角为120°；或校准模块2为4组，两两一组位于同一直线上并相互垂直，本说明书中，以校准模块2为4组为例；较佳地，所述校准模块2为可拆卸结构，便于携带；校准杆梢1穿过校准杆孔3并可***至位于治具下方的待校准模块的圆心定位孔中（这取决于待校准模块是否具有圆心定位孔，如有，则校准过程中，校准杆梢1***待校准模块的圆心定位孔，且校准杆孔3的孔径和待校准模块的圆心定位孔孔径一致，如无，则校准杆梢1抵在待校准模块的中心表面）；所述校准模块2包括支撑部21、校准结构22和固定结构23，所述校准结构22与所述支撑部21相连接，且可在所述支撑部21上沿水平方向移动，所述固定结构23与所述支撑部21的远离校准杆孔3的一端相连接，所述校准结构22包括升降杆221，所述升降杆221穿过所述支撑部21，且可以在纵向升降；具体地，在一示例中，所述支撑部21包括杆状或柱状的支撑主体211（支撑主体211具有一定的横向延伸尺寸）、位于所述支撑主体211上的移动槽212和预留操作口214，且还可以进一步设置有位于支撑主体211表面的第一刻度尺213，所述移动槽212为所述校准结构22提供水平方向和竖直方向移动的空间，所述第一刻度用于精准计量所述校准结构22在水平方向上的移动距离，其刻度精度可以根据实际需要而定；所述预留操作口214位于所述支撑部21远离中心位置的一端，且位于所述固定结构23的活动块233紧固件的上方，通过所述预留操作口214对所述固定结构23的活动块233进行固定操作（即固定结构23至少包括活动块233），所述活动块233移动到位后需要进行位置固定，而在紧固件上方设置预留操作口214，方便紧固件的固定；在进一步的示例中，所述移动槽212上设置有装配缺口（未示出）和缺口补充块215；所述装配缺口为所述移动槽212上贯通至所述支撑部21边缘的预留装配空间，大小与所述缺口补充块215一致，将所述缺口补充块215固定于所述装配缺口内，恰好完成对所述装配缺口的填充；所述装配缺口的设置便于所述校准结构22安装进所述移动槽212内；所述缺口补充块215上开设有与所述移动槽212对应的活动槽，活动槽与所述装配缺口尺寸一致，所述活动槽与所述移动槽212共同构成校准结构22的水平移动空间，保证所述校准结构22可在所述移动槽212内自由水平移动；所述校准结构22还包括平移块222和定位块223，所述平移块222设置于所述支撑部21上并与所述支撑部21滑动连接，可在水平方向移动以调节所述校准结构22所处的位置；所述升降杆221上下贯穿所述平移块222，并与所述平移块222通过螺纹活动连接（即升降杆221上设置有螺纹），升降杆221上还可以设置有第二刻度尺，当然也可以通过升降杆221的螺纹数判断升降距离，例如螺纹间距设置为0.5mm，通过所述升降杆221的上下移动和第二刻度尺的刻度值，可精准控制升降杆221向下伸出的长度；所述定位块223位于所述升降杆221上，并与所述升降杆221固定连接，当在安装和校准晶圆基座时，可以辅助晶圆基座的圆心定位，以便于校准杆梢1的垂直***，可提高晶圆基座圆心的校准效率。本发明提供的PVD工艺腔装配辅助校准治具可以用于PVD工艺腔的晶圆基座的水平校准和中心位置确定，且可以用于对螺旋形磁铁组件的水平校准。使用时，将所述PVD工艺腔装配辅助校准治具组装好后置于PVD工艺腔内，各固定结构23卡设于PVD工艺腔的边缘以进行固定，将各升降杆221调节相同的距离直至与待校准模块的表面相抵而实现对待校准模块的调平，然后将校准杆梢1由上而下穿过所述校准杆孔3直至抵到待校准模块的表面或***至待校准模块的圆心定位孔中，待校准完成后，对待校准模块进行安装固定。本发明经改善的结构设计，可以在待校准模块的安装过程中，辅助校准水平程度，确保安装与校准同步完成，且可实现中心精准定位，有助于提高腔体的工艺良率，且使用方便，有助于提高校准效率。

所述校准杆梢1较佳地为硬质且耐腐蚀的材质，例如为金属和陶瓷中的任意一种，但不仅限于此。在一示例中，所述校准杆梢1上设置有定位标志刻度，用于标识所述校准杆梢1的***位置，例如用于标识所述校准杆梢1是否***到晶圆基座的圆心定位孔中，校准杆梢1垂直贯穿校准杆孔3直至***圆心定位孔，实现对晶圆基座中心的校准定位。

如图4所示，在一示例中，所述固定结构23还包括螺纹杆231和升降块232，所述螺纹杆231顾名思义为表面具有螺纹的杆，其可以旋转但不可以直接上下移动，其贯穿所述支撑部21并向下延伸至与位于所述支撑部21下方的所述升降块232螺纹连接（即升降块232与螺纹杆231接触的表面相应设置有相配合的螺纹结构），通过旋转所述螺纹杆231可带动所述升降块232上下移动；所述活动块233位于所述升降块232上，并与所述升降块232固定连接，活动块233上预留有水平方向伸缩移动的空间，在固定前，活动块233可以活动调节，当移动到所需的位置后，通过紧固件与所述升降块232固定。通过调节所述活动块233的伸缩状态，便于将所述固定结构23伸入到腔体边缘并进行固定操作，所述活动块233的设置便于治具固定前伸入到腔体内，故而通过这样的结构设置，使得本发明提供的治具可以适用于多种规格的PVD工艺腔的装配校准。

在进一步的示例中，所述螺纹杆231上还设置有定位槽，所述定位槽位于所述固定结构23的升降块232与所述螺纹杆231连接位置处，形状为绕所述螺纹杆231周向设置的内凹的圆槽（图中未示出），所述连接位置有对应的突出伸入到所述定位槽内，使所述螺纹杆231可周向旋转却不可上下移动。所述螺纹杆231上还可设有旋转把手（未标示），所述旋转把手套设于所述螺纹杆231上并与所述螺纹杆231固定连接，用于提供带动所述螺纹杆231旋转的动力，方便旋转所述螺纹杆231。

在进一步的示例中，所述固定结构23还包括升降轨（未示出），所述升降轨设置于所述升降块232和所述支撑部21顶端的中间位置，并与所述支撑部21固定连接，所述升降块232套设于所述升降轨上，且可沿所述升降轨上下移动，所述升降轨较佳地为2个以上。设置所述升降轨可使升降块232的升降过程更加平稳。

在一示例中，所述平移块222上还可设置有滑动件（未示出），所述滑动件位于所述平移块222内侧并与所述平移块222活动连接，用于确保所述平移块222在所述移动槽212内平滑移动。

在一示例中，所述定位块223包括固定部2231和延伸部2232（也可以分别定义为水平部和垂直部），所述固定部2231一端与所述平移块222固定连接，另一端与所述延伸部2232固定连接，所述延伸部2232位于所述移动槽212内并贯穿所述移动槽212，且位于所述平移块222远离治具中心的一侧，所述固定部2231上设有圆孔，用于使用紧固件紧固到所述平移块222上，起固定连接作用，所述延伸部2232与所述固定部2231连接，也可直接与所述平移块222的侧面连接，可用于晶圆基座圆心的校准定位。

在一示例中，所述升降杆221底部设置有非磁性的柔性抵触头224，校准作业过程中，柔性抵触头224抵接于待校准模块的表面，柔性抵触头224例如为橡胶，设计成光滑的球面，可防止划伤接触的待校准模块的表面，升降杆221上部可设置有旋转把手225，用于给升降杆221施加带动其旋转的力。

在一示例中，所述治具还包括横跨于所述校准杆孔3上方的辅助支撑结构24，例如辅助支撑结构24包括水平部和与水平部的相对两端相连接的两个垂直部，而两个垂直部的另一端分别固定于两组校准模块2的支撑部21的表面，所述辅助支撑结构24上设置有辅助定位孔（例如设置于水平部上），辅助定位孔尺寸与校准杆孔3尺寸一致且位于同一垂线上，使用时，校准杆梢1依次穿过辅助定位孔和校准杆孔3。通过设置所述辅助支撑结构24，不仅有助于进一步固定所述校准杆梢1，防止校准杆梢1在校准过程中发生晃动而与待校准模块的表面发生摩擦，同时通过辅助支撑结构24的辅助定位孔和校准杆孔3的定位，可以进一步实现对治具的自校准。

作为示例，待校准模块包括晶圆基座和螺旋型磁铁组件中的任意一种，但不限于此，其他涉及水平校准和圆心定位的模块，都可以采用本发明提供的治具进行校准。

为使本发明的技术方案和优点更加突出，下面结合附图对本发明提供的治具的校准作业过程做示例性说明。

参考图5所示，将治具固定在PVD腔体上方的操如下：

通过旋转所述螺纹杆231控制所述升降块232下降，将所述固定结构23的卡口尽量开大至宽度大于腔体上方开口边缘的厚度；

将所有所述固定结构23上的活动块233向治具中心位置方向收缩直至治具的所有固定结构23的卡口均可放进腔体开口61内；

手持治具，垂直将各个固定结构23的下部卡口伸入到腔体开口边缘62的下方；

将所有活动块233全部向远离治具中心位置方向伸展开直至所有活动块233伸入到腔体开口边缘62的下侧；

通过紧固件将所有活动块233与对应的升降块232固定；

通过旋转螺纹杆231控制所述升降块232上升，同时带动被固定后的活动块233一起上升，直至活动块233与腔体上方开口边缘的下侧相抵触，此时所述固定结构23所形成的卡口A已完全卡住腔体开口边缘62，治具也被固定在腔体开口边缘62位置上。

参考图6所示，完成治具固定后，进行晶圆基座水平校准和中心定位的过程如下：

旋转所述升降杆221上升至远离晶圆基座4一定距离的位置；

升高晶圆基座升降台，使晶圆基座4上表面的高度高于所述定位块223的延伸部2232的最底端高度；

所述平移块222带动所述定位块223向中心位置移动，同时通过所述第一刻度尺213调节各个平移块222的精确位置以保证所有平移块222与圆心距离相同，此时完成对晶圆基座4的圆心定位；

旋转所述升降杆221下降直至抵触到晶圆基座4的上表面；

调整所有升降杆221下降的距离一致，此时完成对晶圆基座4的调平；

二次微调所述平移块222的位置以消除调平过程中产生的圆心移动误差；

将所述校准杆梢1由上而下贯穿所述校准杆孔3直至***晶圆基座4中心位置的定位孔中；

安装固定所述晶圆基座4。

如图7所示，对螺旋形磁铁组件的水平校准过程如下：

旋转所述升降杆221上升至远离螺旋形磁铁组件5一定距离的位置；

将所述平移块222在所述支撑部21上平移至所述升降杆221处于螺旋形磁铁组件5上的螺旋形磁铁的上方；

旋转所述升降杆221下降直至抵触到螺旋形磁铁；

调整所有升降杆221下降的距离一致，此时即为调平状态；

安装固定所述螺旋形磁铁组件5。

当然，上述过程仅是示意性的，根据所述PVD工艺腔装配辅助校准治具的具体结构可做相应调整，对此不做一一展开。

本发明还提供一种PVD工艺腔装配辅助校准方法，所述校准方法使用如上述任一方案中所述的PVD工艺腔装配辅助校准治具进行。所述校准方法包括将所述PVD工艺腔装配辅助校准治具组装好后置于PVD工艺腔内，各固定结构卡设于PVD工艺腔的边缘以进行固定，将各升降杆调节相同的距离直至与待校准模块的表面相抵而实现对待校准模块的调平，然后将校准杆梢由上而下穿过所述校准杆孔直至抵到待校准模块的表面或***至待校准模块的圆心定位孔中，待校准完成后，对待校准模块进行安装固定。更详细的过程还请参考前述内容，出于简洁的目的不赘述。

综上所述，本发明提供一种PVD工艺腔装配辅助校准治具及方法。治具包括校准杆梢和至少三组校准模块，校准杆梢的直径与治具中心设置的校准杆孔的孔径一致，使用过程中，至少三组校准模块相互接触，校准杆梢穿过校准杆孔并可***至位于治具下方的待校准模块的圆心定位孔中；所述校准模块包括支撑部、校准结构和固定结构，所述校准结构与所述支撑部相连接，且可在所述支撑部上沿水平方向移动，所述固定结构与所述支撑部的远离校准杆孔的一端相连接；所述校准结构包括升降杆、平移块和定位块，所述升降杆穿过所述支撑部，且可以在纵向升降，所述平移块设置于所述支撑部上并与所述支撑部滑动连接，可在水平方向移动以调节所述校准结构所处的位置，所述升降杆上下贯穿所述平移块，并与所述平移块通过螺纹活动连接，所述定位块位于所述升降杆上，并与所述升降杆固定连接；所述支撑部包括支撑主体、位于所述支撑主体上的移动槽和预留操作口；所述移动槽为所述校准结构提供水平方向和竖直方向移动的空间，所述预留操作口位于所述支撑部远离中心位置的一端，且位于所述固定结构的活动块紧固件的上方，通过所述预留操作口对所述固定结构的活动块进行固定操作，所述移动槽上设置有装配缺口和缺口补充块，所述装配缺口为所述移动槽上贯通至所述支撑部边缘的预留装配空间，大小与所述缺口补充块一致，所述缺口补充块上开设有与所述移动槽对应的活动槽，活动槽与所述装配缺口尺寸一致，所述活动槽与所述移动槽共同构成校准结构的水平移动空间。本发明经改善的结构设计，可以在待校准模块的安装过程中，辅助校准水平程度，确保安装与校准同步完成，且可实现中心精准定位，有助于提高腔体的制程工艺良率，且使用方便，有助于提高校准效率。所以，本发明有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。

上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

Claims (10)

1.一种PVD工艺腔装配辅助校准治具，其特征在于，包括校准杆梢和至少三组校准模块，校准杆梢的直径与治具中心设置的校准杆孔的孔径一致，使用过程中，至少三组校准模块相互接触且呈中心对称设置，校准杆孔位于至少三组校准模块的正中间，校准杆梢穿过校准杆孔并可***至位于治具下方的待校准模块的圆心定位孔中；所述校准模块包括支撑部、校准结构和固定结构，所述校准结构与所述支撑部相连接，且可在所述支撑部上沿水平方向移动，所述固定结构与所述支撑部的远离校准杆孔的一端相连接；所述校准结构包括升降杆、平移块和定位块，所述升降杆穿过所述支撑部，且可以在纵向升降，所述平移块设置于所述支撑部上并与所述支撑部滑动连接，可在水平方向移动以调节所述校准结构所处的位置，所述升降杆上下贯穿所述平移块，并与所述平移块通过螺纹活动连接，所述定位块位于所述升降杆上，并与所述升降杆固定连接；所述支撑部包括支撑主体、位于所述支撑主体上的移动槽和预留操作口，所述移动槽为所述校准结构提供水平方向和竖直方向移动的空间，所述预留操作口位于所述支撑部远离中心位置的一端，且位于所述固定结构的活动块紧固件的上方，通过所述预留操作口对所述固定结构的活动块进行固定操作，所述移动槽上设置有装配缺口和缺口补充块，所述装配缺口为所述移动槽上贯通至所述支撑部边缘的预留装配空间，大小与所述缺口补充块一致，所述缺口补充块上开设有与所述移动槽对应的活动槽，活动槽与所述装配缺口尺寸一致，所述活动槽与所述移动槽共同构成校准结构的水平移动空间。

2.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述校准杆梢的材质包括金属和陶瓷中的任意一种，所述校准杆梢上设置有定位标志刻度，用于标识所述校准杆梢的***位置；所述支撑部还设置有位于支撑主体表面的第一刻度尺，用于计量所述校准结构在水平方向上的移动距离。

3.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述固定结构还包括螺纹杆和升降块，所述螺纹杆贯穿所述支撑部并向下延伸至与位于所述支撑部下方的所述升降块螺纹连接，通过旋转所述螺纹杆可带动所述升降块上下移动；所述活动块位于所述升降块上，并与所述升降块固定连接，活动块上预留有水平方向伸缩移动的空间。

4.根据权利要求3所述的治具，其特征在于，所述固定结构还包括升降轨，所述升降轨设置于所述升降块和所述支撑部顶端的中间位置，并与所述支撑部固定连接，所述升降块套设于所述升降轨上，且可沿所述升降轨上下移动。

5.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述平移块上还可设置有滑动件，所述滑动件位于所述平移块内侧并与所述平移块活动连接，用于确保所述平移块在所述移动槽内平滑移动。

6.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述定位块包括固定部和延伸部，所述固定部一端与所述平移块固定连接，另一端与所述延伸部固定连接，所述延伸部位于所述移动槽内并贯穿所述移动槽，且位于所述平移块远离治具中心的一侧。

7.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述升降杆底部设置有非磁性的柔性抵触头，上部设置有旋转把手。

8.根据权利要求1所述的治具，其特征在于，所述治具还包括横跨于所述校准杆孔上方的辅助支撑结构，所述辅助支撑结构上设置有辅助定位孔，辅助定位孔尺寸与校准杆孔尺寸一致且位于同一垂线上，使用时，校准杆梢依次穿过辅助定位孔和校准杆孔。

9.根据权利要求1-8任一项所述的治具，其特征在于，待校准模块包括晶圆基座和螺旋型磁铁组件中的任意一种。

10.一种PVD工艺腔装配辅助校准方法，其特征在于，所述校准方法使用如权利要求1-9任一项所述的PVD工艺腔装配辅助校准治具进行。

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