CN114089595A - 一种基于光源添加辅助图形的方法和装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，属于半导体技术领域，解决了现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理问题。该方法包括：获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性。

Description

一种基于光源添加辅助图形的方法和装置
技术领域
本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种基于光源添加辅助图形的方法和装置。
背景技术
亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution Assist Feature，SRAF)作为一种分辨率增强技术，在90nm节点引进以来已经被广泛应用在大规模量产中。亚分辨率辅助图形，即在目标图形周围添加一系列低于光刻分辨率的细小的图形，这些图形并不会被转移到光刻胶上，只起到增强目标图形成像效果的作用。通过添加亚分辨率辅助图形，可以有效增加目标图形的成像光强对比度。尤其对于分布稀疏的图形，通过添加亚分辨率辅助图形，使得这类稀疏的图形在几何分布上和密集图形拥有相同的图形密度，从而提高整体版图的工艺窗口。
在实际工程应用中，通常使用基于规则的方法添加亚分辨率辅助图形。规则主要来源于基于模型的方法以及工程师的经验。对于新的版图，在将规则应用到版图的过程中，需要从规则中选取合适的应用条件，才能使所添加的亚分辨率辅助图形起到作用。因此，规则的选取成了亚分辨率辅助图形添加是否准确的关键。对于相同的版图，例如线宽和周期相同的版图，往往会选择相同的规则。然而，决定工艺窗口的因素不仅仅来自于版图，同样来自于光源。
发明内容
鉴于上述的分析，本发明实施例旨在提供一种基于光源添加辅助图形的方法和装置，用以解决现有基于规则的亚分辨率辅助图形无法适应光源因素的改变而导致的辅助图形添加不合理的问题。
一方面，本发明实施例提供了一种基于光源添加辅助图形的方法，包括：获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。
上述技术方案的有益效果如下：本申请的实施例在向更先进节点研发时随着光源变化和核心图形尺寸变化而重新探索，即修改亚分辨率辅助图形添加规则，以能够省略辅助图形添加规则与光刻光源的光源信息多次匹配的工艺步骤，降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性，节省了计算资源和时间成本。通过生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，能够降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和降低仿真需求的成本。
基于上述方法的进一步改进，所述光刻光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。
基于上述方法的进一步改进，所述辅助图形是亚分辨率辅助图形，其中，基于所述光刻光源修改所述亚分辨率辅助图形进一步包括：根据基于所述光刻光源的形状分布修改所述亚分辨率辅助图形的分布和对称性；根据所述光刻光源的sigma变化对所述辅助图形添加规则赋于修改权重或倍率；根据所述光刻光源的强度分布对不同特征图形的辅助图形添加规则进行修改；根据所述光刻光源的数值孔径对所述辅助图形添加规则进行倍率修改；以及根据所述光刻光源的偏振方向对不同方向的辅助图形添加规则进行修改。
基于上述方法的进一步改进，所述修改后的辅助图形添加规则与所述光刻光源的sigma或数值孔径呈现反相关，其中，当所述光刻光源的sigma增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低；或者当所述光刻光源的数值孔径增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低。
基于上述方法的进一步改进，所述修改后的辅助图形添加规则存储于修改的辅助图形添加规则列表中，所述修改后的辅助图形添加规则包括待添加的亚分辨率辅助图形的几何信息、添加位置信息以及适用条件信息；其中，所述几何信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形的线条长度、宽度以及方位；所述位置信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形与目标图形之间的相对距离；所述适用条件包括所述修改后的辅助图形添加规则使用的场景。
基于上述方法的进一步改进，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则，其中，所述目标图形的几何特征包括：目标图形的长度、宽度和方位，以及水平方向、竖直方向、斜对角方向上与其余目标图形的相对位置。
基于上述方法的进一步改进，基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则进一步包括：步骤1，确定所述目标图形的核心结构及其尺寸；步骤2，对所述目标图形按照所述尺寸、周期、周围图形特征进行分类，其中，所述分类的目标图形包括一维线条图形和二维结构；步骤3，对所述一维线条图形按照步骤1限定的条件，在与线条平行的方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则；步骤4，对二维结构，结合步骤1限定的条件，在与线条平行方向、垂直方向、斜对角方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则。
基于上述方法的进一步改进，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：当所述目标图形的几何特征并不在所述修改后的辅助图形添加规则列表中时，使用最近邻近似方法，将与所述目标图形的几何尺寸相近图形的修改后的辅助图形添加规则进行权重平均，获取所述用于版图的辅助图形添加规则。
基于上述方法的进一步改进，在将所有的待添加的辅助图形添加至所述版图中之后，进一步包括：对已添加所述待添加的辅助图形的版图进行冲突清洗以及掩模制造规则检查；以及当所述冲突清洗以及所述掩模制造规则检查均通过后，输出所述版图。
另一方面，本发明实施例提供了一种基于光源添加辅助图形的装置，包括：初始信息获取模块、规则修改模块、版图规则获取模块和辅助图形添加模块，其中，所述初始信息获取模块，用于获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；所述规则修改模块，用于当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及所述版图规则获取模块，用于根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则；所述辅助图形添加模块，用于根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。
与现有技术相比，本发明至少可实现如下有益效果之一：
1、本申请的实施例在向更先进节点研发时随着光源变化和核心图形尺寸变化而重新探索，即修改(亚分辨率)辅助图形添加规则，降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性，节省了实验和计算资源，节约了时间成本。
2、通过生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，能够降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和仿真需求的成本。
3、通过规则选择的过程中结合光源的信息，可以赋予亚分辨率辅助图形更多的物理意义，使得添加更为合理，起到更好的效果。
本发明中，上述各技术方案之间还可以相互组合，以实现更多的优选组合方案。本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分优点可从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过说明书以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。
附图说明
附图仅用于示出具体实施例的目的，而并不认为是对本发明的限制，在整个附图中，相同的参考符号表示相同的部件。
图1为根据本发明实施例的基于光源添加辅助图形的方法的流程图。
图2为根据本发明另一实施例的基于光源因素的亚分辨率辅助图形添加方法流程示意图；
图3为根据本发明实施例的一维周期结构的特征参数示意图；
图4为根据本发明实施例的环形光源形貌特征参数示意图；
图5为根据本发明实施例的亚分辨率辅助图形添加规则的参数示意图。
图6为根据本发明实施例的基于光源添加辅助图形的装置的结构图。
具体实施方式
下面结合附图来具体描述本发明的优选实施例，其中，附图构成本申请一部分，并与本发明的实施例一起用于阐释本发明的原理，并非用于限定本发明的范围。
本发明的一个具体实施例，公开了一种基于光源添加辅助图形的方法。下文中，将参考图1对根据本发明实施例的基于光源添加辅助图形的方法进行详细描述。
在步骤S102中，获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表。该基准光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。该辅助图形添加规则列表是与基准光源相对应的原始的辅助图形添加规则列表。辅助图形添加规则存储于原始的辅助图形添加规则列表中。
在步骤S104中，当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表。光刻光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。由于光刻光源的改进会导致光刻光源的以上光源信息改变。因此，当光刻光源改变时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，能够生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，以降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和仿真需求的成本。本申请所述的辅助图形是亚分辨率辅助图形，这些辅助图形用于增强目标图形的成像效果，但不会被转移到光刻胶上。
具体地，基于光刻光源修改亚分辨率辅助图形进一步包括：根据基于光刻光源的形状分布修改亚分辨率辅助图形的分布和对称性；根据光刻光源的sigma变化对辅助图形添加规则赋于修改权重或倍率；根据光刻光源的强度分布对不同特征图形的辅助图形添加规则进行修改；根据光刻光源的数值孔径对辅助图形添加规则进行倍率修改；以及根据光刻光源的偏振方向对不同方向的辅助图形添加规则进行修改。进一步地，修改后的辅助图形添加规则与光刻光源的sigma或数值孔径呈现反相关。具体地，当光刻光源的sigma增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低；或者当光刻光源的数值孔径增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低。
修改后的辅助图形添加规则存储于修改的辅助图形添加规则列表中，修改后的辅助图形添加规则包括待添加的亚分辨率辅助图形的几何信息、添加位置信息以及适用条件信息。具体地，几何信息包括待添加的亚分辨率辅助图形的线条长度、宽度以及方位；位置信息包括待添加的亚分辨率辅助图形与目标图形之间的相对距离；适用条件包括修改后的辅助图形添加规则使用的场景。
在步骤S106中，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。具体地，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：基于版图中的目标图形的几何特征，从修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则，其中，目标图形的几何特征包括：目标图形的长度、宽度和方位，以及水平方向、竖直方向、斜对角方向上与其余目标图形的相对位置。另外，当目标图形的几何特征并不在修改后的辅助图形添加规则列表中时，使用最近邻近似方法，将与目标图形的几何尺寸相近图形的修改后的辅助图形添加规则进行权重平均，获取用于版图的辅助图形添加规则。
基于版图中的目标图形的几何特征，从修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则进一步包括：步骤1，确定目标图形的核心结构及其尺寸；步骤2，对目标图形按照尺寸、周期、周围图形特征进行分类，其中，分类的目标图形包括一维线条图形和二维结构；步骤3，对一维线条图形按照步骤1限定的条件，在与线条平行的方向选择修改后的辅助图形添加规则作为用于版图的辅助图形添加规则；步骤4，对二维结构，结合步骤1限定的条件，在与线条平行方向、垂直方向、斜对角方向选择修改后的辅助图形添加规则作为用于版图的辅助图形添加规则。
在将所有的待添加的辅助图形添加至版图中之后进一步包括：对已添加待添加的辅助图形的版图进行冲突清洗以及掩模制造规则检查；以及当冲突清洗以及掩模制造规则检查均通过后，输出版图。
与现有技术相比，本申请的实施例在向更先进节点研发时随着光源变化和核心图形尺寸变化而重新探索，换句话说，修改(亚分辨率)辅助图形添加规则，从而降低了亚分辨率辅助图形添加的复杂性，节省了计算资源和时间成本。通过生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，能够降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和降低仿真需求的成本。
本发明的另一个具体实施例，公开了一种基于光源添加辅助图形的装置，参考图6，基于光源添加辅助图形的装置包括：初始信息获取模块602、规则修改模块604、版图规则获取模块606和辅助图形添加模块608。具体地，下文中，将参考图6，对初始信息获取模块602、规则修改模块604、版图规则获取模块606和辅助图形添加模块608中的每个模块进行详细描述。
初始信息获取模块602用于获取基准光源的光源信息和与基准光源相对应的辅助图形添加规则列表。规则修改模块604用于当光刻光源的光源信息不同于基准光源的光源信息时，基于光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表。版图规则获取模块606用于根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则。辅助图形添加模块608用于根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至版图中。
下文中，将参考图2至图5，以具体实例的方式对基于光源添加辅助图形的方法进行详细描述。
在可选实施例中，针对初始版图，通过一次或多次选取辅助图形添加规则以使得所选取的辅助图形添加规则与光刻光源匹配。例如，如图2所示，基于光源添加辅助图形的方法包括以下步骤：
步骤S1：获得待添加亚分辨率辅助图形的初始版图。光源信息，指所使用的光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向等。本实施例提供的基于光源添加辅助图形的方法适用的版图可以是一维周期性线条结构、L型结构、孔型结构、T型结构等所有版图图形结构。例如，请参考图3，以待添加亚分辨率辅助图形的版图为一维周期性线条图形为例，说明亚分辨率辅助图形添加方法的具体过程。目标图形线宽为W1，例如，W1＝45nm，目标图形的周期为P1，例如，P1＝310nm。
步骤S2：对于初始版图中的每一目标图形，均基于该目标图形的几何特征选取辅助图形添加规则，若选取的辅助图形添加规则匹配于光刻所述初始版图时的光源信息，则根据所选辅助图形添加规则为该目标图形添加亚分辨率辅助图形。
步骤S3：在所有目标图形的亚分辨率辅助图形添加完成后输出版图。
由于产生规则时所用的光源与目标图形所用的光源可能不同，因此，在将该规则应用到目标版图后会对其精度造成影响。而本实施例提供的基于光源添加辅助图形方法，通过在规则选择的过程中结合光刻所述初始版图时的光源信息，可以赋予亚分辨率辅助图形一定的物理意义，使得亚分辨率辅助图形的添加更为合理，并提高版图修正的精度。
在本申请的实施例中，提供了一种光刻版图时的光刻光源，该光刻光源形式可以是环形光源、二级照明光源、四级照明光源等。请参阅图4，以光刻的一维周期性线条图形的环形光源为例。环形光源301为本实施例所用到光刻版图时的光源，环宽为WA1，环形光源302为生成原始辅助图形添加规则时所用的光源，环宽为WA2，两个环形光源的环宽相同，即WA1＝WA2。环形光源302的sigma比环形光源301的sigma略小，差值为△S，例如，△S＝0.2。根据△S占据原始光源环宽中心值的比例，对图5的特征参数进行修正。
在本发明的一个实施例中，辅助图形添加规则列表包括亚分辨率辅助图形的几何信息、添加位置信息以及适用条件；所述几何信息包括亚分辨率辅助图形的线条长度、宽度以及方位，指可以放置的图形位置，特别是孔型结构的亚分辨率辅助图形需要明确其位于主图形的哪些位置，包括水平方向位置、垂直方向位置、对角线位置等。具体地，亚分辨率辅助图形的最终形式是长方形，主要考虑的是掩模制造方便。从长远考虑，亚分辨率辅助图形可以为非长方形。本实施例以长方形亚分辨率辅助图形为例，其他图形可以分解为长方形。位置信息包括亚分辨率辅助图形与所述目标图形之间的相对距离；适用条件包括对应规则适用的版图的几何特征。该适用条件规定了目标图形在什么样的几何特征下可以使用该条规则，例如，对于周期性重复排列的一维线条图形，适用条件中会包含目标图形的线宽和周期范围，在该范围下，选用该条规则。
具体地，本实施例提供了一种辅助图形添加规则列表，请参见以下表1。
表1辅助图形添加规则列表示例
Figure BDA0003345639540000101
注：pitch为目标图形的周期，space为要添加的SRAF与目标图形或者主图形之间的相邻边的距离，Width为对应的亚分辨率辅助图形宽度。表中各参数的单位均为nm。
在步骤S2中，当版图的几何特征并不在规则列表中时，例如版图的周期为275纳米，介于表1的第一行和第二行之间，根据版图的几何特征从规则列表中选取最接近适用范围的规则(例如，从表1中，根据图形周期(pitch)直接选择第一SRAF、第二SRAF等宽度、间距)加以应用，即选择第一行和第二行的SRAF1、SRAF2的规则数据，并结合版图周期距离260纳米和280纳米的差距，进行加权平均计算，所计算的结果为SRAF1的Space为69纳米，Width为25nm；SRAF2的Space为136纳米，Width为25nm。
版图的几何特征包括目标图形的周期、长度、宽度和周期图形排列角度(主要指图形排列方式，例如按照X方向或Y方向排列或者按照45°或其他角度排列)以及水平方向、竖直方向、斜对角方向相邻目标图形之间的相对距离。
具体地，本实施例选用的版图中的目标图形周期为310nm，对应到表1中的规则列表，周期300nm与320nm都有待选择的理由，基于掩模制造规则的约束，一般会选取小周期的规则进行添加。本实施例中，仅仅考虑几何特征，选取了300nm周期对应的亚分辨率辅助图形添加规则。
在步骤S3中，根据所述光源的分布以及所述光源的sigma来判断选取的所述辅助图形添加规则是否与所述光源信息匹配。一般的，光源sigma与添加辅助图形之后的图形周期相关，光源sigma中心值固定之后，其对应的最佳图形周期固定。当改变光源sigma时，例如sigma中心值增大，则对应的辅助图形与主图形的间距应相应降低，以实现周期匹配。
根据光源的分布判断选用的所述辅助图形添加规则中亚分辨率辅助图形的分布和对称性是否合理；以及根据所述光源的sigma判断选用的所述辅助图形添加规则中的亚分辨率辅助图形与所述目标图形的相对位置是否合理。例如，光源为X方向二级照明，并且其sigma中心值从0.8增加到0.9时，其对应的与X方向垂直的辅助图形的space应降低；当光源从X方向二级照明变为XY双方向四级照明时，对Y方向的亚分辨率辅助图形添加规则进行修改；当光源数值孔径从1.20增加到1.35时，所有方向的亚分辨率辅助图形规则，特别是周期规则应降低。
一般地，不同光源对应的亚分辨率辅助图形规则有所区别，实际应用时，辅助图形添加规则表应根据光源特征变化进行适当调整，例如光源sigma中心增加10％，则对应的亚分辨率辅助图形的space和width应缩小10％；或按照严格模型计算得到的最佳尺寸进行约束。
具体地，待添加亚分辨率辅助图形的目标图形对应的光源sigma比规则生成时对应的光源大0.2，在一维周期性线条结构中，亚分辨率辅助图形发生数量变化对应的周期应该更小。在目标图形对应的光源下，掩模后方的光强透射率的分布会更接近于周期为320nm图形。因此判断所选周期为300nm对应的规则，需要重新选取规则，在本实施例中，选取周期为320nm的亚分辨率辅助图形添加规则。
将周期为320nm对应的规则添加到图3所示的版图中，请参见图5。并以表中Pitch＝320nm为例，表中所显示的亚分辨率辅助图形数量，为两个目标图形101、102之间的亚分辨率辅助图形的数量，其中亚分辨率辅助图形201主要作用于目标图形101，亚分辨率辅助图形203主要作用于目标图形102，亚分辨率辅助图形202对目标图形101和102都起到作用，属于二者共有。以目标图形101为基准，亚分辨率辅助图形201的宽度(Width)为SW1，SW1＝25nm，与目标图形101之间的空间宽度(Space)为SS1，SS1＝65nm；亚分辨率辅助图形202的宽度为SW2，SW2＝25nm，与目标图形101之间的空间宽度为SS2，SS2＝125nm；亚分辨率辅助图形203的宽度为SW3，SW3＝25nm，与目标图形101之间的空间宽度为SS3，SS3＝185nm。
考虑到图形的对称性，对选取的所述规则中的亚分辨率辅助图形进行调整，调整方式包括：对称性约束、相邻图形冲突约束、相邻图形最小尺寸约束等。将调整之后的亚分辨率辅助图形添加到所述版图上。
具体地由于本实施例中对应的适用规则只有两条，因此确定最终使用周期为320nm的亚分辨率辅助图形添加规则。添加过程中，考虑图形对称性，最终添加结果中，亚分辨率辅助图形201、202、203的宽度相等，即SW1＝SW2＝SW3＝25nm，亚分辨率辅助图形201与目标图形101之间的空间宽度为SS1，SS1＝65nm；亚分辨率辅助图形202与目标图形101之间的空间宽度为SS2，SS2＝120nm；亚分辨率辅助图形203与目标图形101之间的空间宽度为SS3，SS1＝175nm。通过对称性的考虑，可以保证所有与目标图形相邻的起到主要作用的亚分辨率辅助图形具有相同的相对位置，以及中心公用的亚分辨率辅助图形位于相邻两个目标图形的中心位置，即SS1＝SS4＝65nm，SS2＝SS5＝120nm。
进一步的，还包括输出已添加好亚分辨率辅助图形的版图。
具体地，输出的版图应该包含目标图形或者主图形，以及所添加的亚分辨率辅助图形。
优选地，输出已添加好亚分辨率辅助图形的版图之后，还包括对已添加过亚分辨率辅助图形的版图进行冲突清洗以及掩模制造规则检查。具体地，冲突清洗指相邻主图形的亚分辨率辅助图形重叠、或距离小于规定尺寸，则需要将多余亚分辨率图形删除，或进行宽度、间距调整。掩模制造规则检查主要对上述添加并清洗的亚分辨率辅助图形进行面向掩模制造的检查，包括检查亚分辨率辅助图形的最小尺寸、最小面积、最小间隔、最小台阶宽度等。
与现有技术相比，本发明至少可实现如下有益效果之一：
1、本申请的实施例在向更先进节点研发时随着光源变化和核心图形尺寸变化而重新探索亚分辨率辅助图形添加规则。
2、通过生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表，能够降低亚分辨率辅助图形添加复杂度和仿真需求的成本。
3、通过规则选择的过程中结合光源的信息，可以赋予亚分辨率辅助图形更多的物理意义，使得添加更为合理，起到更好的效果。
在以上的描述中，对于各层的构图等技术细节并没有做出详细的说明。但是本领域技术人员应当理解，可以通过各种技术手段，来形成所需形状的层、区域等。另外，为了形成同一结构，本领域技术人员还可以设计出与以上描述的方法并不完全相同的方法。另外，尽管在以上分别描述了各实施例，但是这并不意味着各个实施例中的措施不能有利地结合使用。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，包括：
获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；
当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及
根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则并根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。
2.根据权利要求1所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述光刻光源的光源信息包括光源的形状分布、光源的sigma、光源的强度分布、光源的数值孔径和光源的偏振方向。
3.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述辅助图形是亚分辨率辅助图形，其中，基于所述光刻光源修改所述亚分辨率辅助图形进一步包括：
根据基于所述光刻光源的形状分布修改所述亚分辨率辅助图形的分布和对称性；
根据所述光刻光源的sigma变化对所述辅助图形添加规则赋于修改权重或倍率；
根据所述光刻光源的强度分布对不同特征图形的辅助图形添加规则进行修改；
根据所述光刻光源的数值孔径对所述辅助图形添加规则进行倍率修改；以及
根据所述光刻光源的偏振方向对不同方向的辅助图形添加规则进行修改。
4.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述修改后的辅助图形添加规则与所述光刻光源的sigma或数值孔径呈现反相关，其中，
当所述光刻光源的sigma增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低；或者
当所述光刻光源的数值孔径增大时，对应的修改后的辅助图形添加规则中的周期和距离降低。
5.根据权利要求3所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，所述修改后的辅助图形添加规则存储于修改的辅助图形添加规则列表中，所述修改后的辅助图形添加规则包括待添加的亚分辨率辅助图形的几何信息、添加位置信息以及适用条件信息；其中，
所述几何信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形的线条长度、宽度以及方位；
所述位置信息包括所述待添加的亚分辨率辅助图形与目标图形之间的相对距离；
所述适用条件包括所述修改后的辅助图形添加规则使用的场景。
6.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：
基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则，其中，所述目标图形的几何特征包括：目标图形的长度、宽度和方位，以及水平方向、竖直方向、斜对角方向上与其余目标图形的相对位置。
7.根据权利要求6所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，基于所述版图中的目标图形的几何特征，从所述修改后的辅助图形添加规则列表中选取修改后的辅助图形添加规则进一步包括：
步骤1，确定所述目标图形的核心结构及其尺寸；
步骤2，对所述目标图形按照所述尺寸、周期、周围图形特征进行分类，其中，所述分类的目标图形包括一维线条图形和二维结构；
步骤3，对所述一维线条图形按照步骤1限定的条件，在与线条平行的方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则；
步骤4，对二维结构，结合步骤1限定的条件，在与线条平行方向、垂直方向、斜对角方向选择所述修改后的辅助图形添加规则作为所述用于版图的辅助图形添加规则。
8.根据权利要求2所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，其中，根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则进一步包括：
当所述目标图形的几何特征并不在所述修改后的辅助图形添加规则列表中时，使用最近邻近似方法，将与所述目标图形的几何尺寸相近图形的修改后的辅助图形添加规则进行权重平均，获取所述用于版图的辅助图形添加规则。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的基于光源添加辅助图形的方法，其特征在于，在将所有的待添加的辅助图形添加至所述版图中之后，进一步包括：
对已添加所述待添加的辅助图形的版图进行冲突清洗以及掩模制造规则检查；以及
当所述冲突清洗以及所述掩模制造规则检查均通过后，输出所述版图。
10.一种基于光源添加辅助图形的装置，其特征在于，包括：初始信息获取模块、规则修改模块、版图规则获取模块和辅助图形添加模块，其中，
所述初始信息获取模块，用于获取基准光源的光源信息和与所述基准光源相对应的辅助图形添加规则列表；
所述规则修改模块，用于当光刻光源的光源信息不同于所述基准光源的光源信息时，基于所述光刻光源的光源信息修改辅助图形添加规则，以生成与所述光刻光源相对应的修改后的辅助图形添加规则列表；以及
所述版图规则获取模块，用于根据修改后的辅助图形添加规则列表获取用于版图的辅助图形添加规则；
所述辅助图形添加模块，用于根据用于版图的辅助图形添加规则将待添加的辅助图形添加至所述版图中。
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