CN113980320A - 一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 - Google Patents
一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113980320A CN113980320A CN202111428822.6A CN202111428822A CN113980320A CN 113980320 A CN113980320 A CN 113980320A CN 202111428822 A CN202111428822 A CN 202111428822A CN 113980320 A CN113980320 A CN 113980320A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- grid
- parts
- sio
- coating
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 35
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 18
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 17
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 claims description 15
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 14
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 14
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- -1 methyl hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane;platinum Chemical compound [Pt].C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C RCNRJBWHLARWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims description 11
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 9
- HYLBVZVDIWDKJM-UHFFFAOYSA-N [O].C(CC)[Si](OC)(OC)OC.C(C1CO1)OCC1CO1 Chemical compound [O].C(CC)[Si](OC)(OC)OC.C(C1CO1)OCC1CO1 HYLBVZVDIWDKJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000007774 anilox coating Methods 0.000 claims description 7
- MTEZSDOQASFMDI-UHFFFAOYSA-N 1-trimethoxysilylpropan-1-ol Chemical compound CCC(O)[Si](OC)(OC)OC MTEZSDOQASFMDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 3
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000012905 visible particle Substances 0.000 abstract description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000035772 mutation Effects 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- ZDWQSEWVPQWLFV-UHFFFAOYSA-N C(CC)[Si](OC)(OC)OC.[O] Chemical compound C(CC)[Si](OC)(OC)OC.[O] ZDWQSEWVPQWLFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/042—Coating with two or more layers, where at least one layer of a composition contains a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/20—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for coatings strippable as coherent films, e.g. temporary coatings strippable as coherent films
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/65—Additives macromolecular
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
- C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2465/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2483/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
- C08L2205/025—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group containing two or more polymers of the same hierarchy C08L, and differing only in parameters such as density, comonomer content, molecular weight, structure
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高透气性网格离型膜的生产工艺，包括1)涂料配置：将120#、甲苯、丁酮和异丙醇混合作为溶剂；2)原膜处理：采用网格大小为0.16mm*0.16mm的透明PET网格膜作为原膜，并在表面涂预涂一层抗静电液；3)精密涂布：涂布方式为狭缝涂布；4)烘干固化；5)接料收卷。本发明的高透气性网格离型膜，20min离型力2‑5g/in，24H：6‑10g/in，老化：10‑15g/in，残余≥80％，电阻值109‑1011；放大镜一百倍下，无可见颗粒或者异物，表面无划伤、无明显彩虹纹、无漏涂、无涂斑，是一种低离型、高透气、高残余、低老化的高透气性网格离型膜，以适用于高端电子类产品。
Description
技术领域
本发明涉及高透气性网格离型膜技术领域，具体为一种高透气性网格离型膜及其生产工艺。
背景技术
目前很多电子产品在使用过程中存在不能快速散热的问题，电子产品在使用过程中的过热现象存在安全隐患也影响产品的使用寿命，高透气性网格离型膜，在其表面有一层网格结构，在下游客户的使用过程中，其网格印使涂在离型膜上的胶的表层出现相应的网格结构，将此类具有网格印的胶应用于电子产品中，因其良好的空间结构，使其具有高透气性，增加其散热的速率，避免了电子产品在使用过程中因散热不良而引发的一系列问题。
高透气性网格离型膜主要应用于高端电子类产品，要求其具有较轻的离型力，一定的抗静电吸附功能，并且具有较高的透气性，其网格印能转印在下游客户的胶面。但目前市场上的高透气性网格离型膜无法同时满足低离型、高透气、高残余、低老化的要求。
因此，急需一种低离型、高透气、高残余、低老化的高透气性网格离型膜，以适用于高端电子类产品。
发明内容
本发明要解决的技术问题是如何选用合适的PET网格膜，如何在PET网格膜表面预涂一层抗静电层，如何在抗静电层的基础上再涂一层具有较高残余的低离型产品。
为解决上述技术问题，本发明一方面提供了一种高透气性网格离型膜，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油 Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.05-0.15份，交联剂甲基氢硅油 0.005-0.02份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.002-0.006份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.002-0.006份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.01-0.04份，
优选的，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.08份，交联剂甲基氢硅油0.15份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.004份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.02份。
优选的，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.12份，交联剂甲基氢硅油0.018份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.005份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.003份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.03份。
优选的，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.1份，交联剂甲基氢硅油0.008份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.003份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.04份。
本发明另一方面还提供了一种高透气性网格离型膜的生产工艺，包括以下步骤：
1)、涂料配置：将120#溶剂油、甲苯、丁酮和异丙醇混合作为溶剂；采用二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe3做主剂，依次加入重剥离添加剂道康宁7210，交联剂甲基氢硅油，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物，在常温(23±10℃)，湿度(30-60％)的环境下1200 转/分搅拌30分钟，200目过滤网过滤，3小时内使用。
2)、原膜处理：经过网格大小0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm横向对比，发现网格大小太小时，离型力无法保持稳定，成品在85℃、85％的环境在放置下，超过12H，离型力会有明显的变化，且残余较低，大约在50％左右，无法达到使用要求；而网格大小太大时，则无法得到高透气性的离型膜产品。但在实验中发现发现，网格大小在 0.16mm*0.16mm时，残余和老化有明显的突变情况，残余最高，老化最低，因此最终采用网格大小为0.16mm*0.16mm的透明PET网格膜作为原膜；在原膜表面预涂一层聚噻吩体系的抗静电涂层达到消除膜表面静电的效果，使最终成品具有抗静电吸附效果，在产线正常涂一遍抗静电后待第一层抗静电层完成成型后再上产线涂第二遍抗静电，二次成型保证PET网格膜的表面均匀分布抗静电涂层，起到良好的抗静电吸附效果。所述除尘处理使用双面除尘装置，有效降低原膜表面的浮尘，大大提高产品的洁净度。
3)、精密涂布：采用蜂窝状网纹辊进行涂布，保证了涂布的均匀性及稳定性，每平方米的涂布湿量在14-16g；烘箱张力120N，放牵张力90N，收牵张力110N；蜂窝状网纹辊由于特殊的六边形结构，不会使料液在网纹辊表面造成过多的流动，使得涂布更加均匀，避免了涂布纹的产生，保证涂布厚度的均匀性，确保了PET网格离型膜整幅性能的稳定。
4)、烘干固化：烘箱内烘炉的温度依次设置为60±5℃、90±3℃、130±3℃、155±3℃、 155±3℃、130±3℃、100±3℃、80±5℃；烘箱内总风量为28000m3/h烘箱洁净度为每立方英尺内,大于等于0.5的灰尘颗粒不能超过1000颗；最高温度155℃才能保证硅油层完全固化，低于155℃固化，残余太低，性能不稳定。
5)、接料收卷：卷张力为100N，收卷锥度50％，收卷压辊压力90N。在该工艺条件下，在保证收卷不跑卷的同时，最大限度地避免了张力线的产生。
与现有技术相比，本发明具有如下有益效果：
(1)本发明的高透气性网格离型膜，20min离型力2-5g/in，24H：6-10g/in，老化：10-15g/in，残余≥80％，电阻值109-1011；放大镜一百倍下，无可见颗粒或者异物，表面无划伤、无明显彩虹纹、无漏涂、无涂斑，是一种低离型、高透气、高残余、低老化的高透气性网格离型膜，以适用于高端电子类产品。
(2)本发明在原膜处理步骤，采用网格大小为0.16mm*0.16mm的透明PET网格膜作为原膜，网格大小在0.16mm*0.16mm时，残余和老化有明显的突变情况，残余最高，老化最低，能够有效提高最终产出的高透气性网格离型膜的残余率，降低老化。
附图说明
图1为本发明实施例1的网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的干硅量(g/m2)的变化曲线图；
图2为本发明实施例1的网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的20min(g/in)的变化曲线图；
图3为本发明实施例1的网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的24H(g/in)的变化曲线图；
图4为本发明实施例1的网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的老化(g/in)的变化曲线图；
图5为本发明实施例1的网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的残余(％)的变化曲线图。
具体实施方式
以下对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
实施例1
一种高透气性网格离型膜，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.08份，交联剂甲基氢硅油0.15份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.004份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.02份。
上述高透气性网格离型膜，包括以下步骤：
1)、涂料配置：将120#溶剂油、甲苯、丁酮和异丙醇混合作为溶剂；采用二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe3做主剂，依次加入重剥离添加剂道康宁7210，交联剂甲基氢硅油，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物，在常温(23±10℃)，湿度(30-60％)的环境下1200 转/分搅拌30分钟，200目过滤网过滤，3小时内使用。
2)、原膜处理：
表1网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的相关技术指标
| 网格尺寸(mm) | 干硅量(g/m<sup>2</sup>) | 20min(g/in) | 24H(g/in) | 老化(g/in) | 残余(％) |
| 0.1*0.1 | 0.33 | 2.7 | 7.6 | 45.8 | 76.2 |
| 0.12*0.12 | 0.29 | 2.7 | 7.8 | 32.1 | 81.5 |
| 0.14*0.14 | 0.27 | 2.8 | 7.8 | 18.9 | 82.5 |
| 0.16*0.16 | 0.23 | 3 | 7.8 | 13.7 | 84.7 |
| 0.18*0.18 | 0.21 | 3.2 | 8 | 20.4 | 78.3 |
| 0.21*0.21 | 0.18 | 3.5 | 8.5 | 40.9 | 73.7 |
| 0.24*0.24 | 0.16 | 3.6 | 9.2 | 53.8 | 69.2 |
| 0.30*0.30 | 0.14 | 3.8 | 10 | 72.2 | 59.8 |
如上表所示，表1列出了网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的相关技术指标。
经过网格大小0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm横向对比，发现网格大小太小时，离型力无法保持稳定，成品在85℃、85％的环境在放置下，超过12H，离型力会有明显的变化，且残余较低，大约在50％左右，无法达到使用要求；而网格大小太大时，则无法得到高透气性的离型膜产品。
图1至图5示出了网格大小为0.10mm*0.10mm-0.30mm*0.30mm的原膜对应成品的相关技术指标的变化曲线。在实验中发现发现，如图4和图5所示，网格大小在 0.16mm*0.16mm时，残余和老化有明显的突变情况，残余最高，老化最低。
因此最终采用网格大小为0.16mm*0.16mm的透明PET网格膜作为原膜；在原膜表面预涂一层聚噻吩体系的抗静电涂层达到消除膜表面静电的效果，使最终成品具有抗静电吸附效果，在产线正常涂一遍抗静电后待第一层抗静电层完成成型后再上产线涂第二遍抗静电，二次成型保证PET网格膜的表面均匀分布抗静电涂层，起到良好的抗静电吸附效果。所述除尘处理使用双面除尘装置，有效降低原膜表面的浮尘，大大提高产品的洁净度。
3)、精密涂布：采用蜂窝状网纹辊进行涂布，保证了涂布的均匀性及稳定性，每平方米的涂布湿量在14-16g；烘箱张力120N，放牵张力90N，收牵张力110N；蜂窝状网纹辊由于特殊的六边形结构，不会使料液在网纹辊表面造成过多的流动，使得涂布更加均匀，避免了涂布纹的产生，保证涂布厚度的均匀性，确保了PET网格离型膜整幅性能的稳定。
4)、烘干固化：烘箱内烘炉的温度依次设置为60±5℃、90±3℃、130±3℃、155±3℃、 155±3℃、130±3℃、100±3℃、80±5℃；烘箱内总风量为28000m3/h烘箱洁净度为每立方英尺内,大于等于0.5的灰尘颗粒不能超过1000颗；最高温度155℃才能保证硅油层完全固化，低于155℃固化，残余太低，性能不稳定。
5)、接料收卷：卷张力为100N，收卷锥度50％，收卷压辊压力90N。在该工艺条件下，在保证收卷不跑卷的同时，最大限度地避免了张力线的产生。
实施例2
一种高透气性网格离型膜，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.12份，交联剂甲基氢硅油0.018份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.005份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.003份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.03份。
本实施例的制备方法与实施例1相同。
实施例3
一种高透气性网格离型膜，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.1份，交联剂甲基氢硅油0.008份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.003份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.04份。
本实施例的制备方法与实施例1相同。
表2实施例1-3制作的高透气性网格离型膜
从表2可以看出，实施例1-3生产的本发明的高透气性网格离型膜，20min离型力2-5g/in，24H：6-10g/in，老化：10-15g/in，残余≥80％，电阻值109-1011；放大镜一百倍下，无可见颗粒或者异物，表面无划伤、无明显彩虹纹、无漏涂、无涂斑，是一种低离型、高透气、高残余、低老化的高透气性网格离型膜，以适用于高端电子类产品。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种高透气性网格离型膜的生产工艺，其特征在于，包括以下步骤：
1)、涂料配置：将120#溶剂油、甲苯、丁酮和异丙醇混合作为溶剂；采用二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe3做主剂，依次加入重剥离添加剂道康宁7210，交联剂甲基氢硅油，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物，在23±10℃、湿度30-60％的环境下以1200r/min的速度搅拌30min，200目过滤网过滤，3h内使用；
2)、原膜处理：使用网格大小为0.16mm*0.16mm的透明PET网格膜作为原膜，并在表面涂预涂一层抗静电液，除尘处理使用双面除尘装置；
3)、精密涂布：采用蜂窝状网纹辊进行涂布，每平方米的涂布湿量在14-16g，烘箱张力120N，放牵张力90N，收牵张力110N；
4)、烘干固化：烘箱内烘炉的温度依次设置为60±5℃、90±3℃、130±3℃、155±3℃、155±3℃、130±3℃、100±3℃、80±5℃；烘箱内总风量为28000m3/h；
5)、接料收卷：收卷张力为100N，收卷锥度50％，收卷压辊压力90N。
2.如权利要求1所述的高透气性网格离型膜的生产工艺，其特征在于，所述步骤4)中，烘箱洁净度为每立方英尺内大于等于0.5的灰尘颗粒不能超过1000颗。
3.一种高透气性网格离型膜，其特征在于，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.05-0.15份，交联剂甲基氢硅油0.005-0.02份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.002-0.006份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.002-0.006份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.01-0.04份。
4.根据权利要求4所述的高透气性网格离型膜，其特征在于，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.08份，交联剂甲基氢硅油0.15份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.004份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.02份。
5.根据权利要求4所述的高透气性网格离型膜，其特征在于，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.12份，交联剂甲基氢硅油0.018份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.005份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.003份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.03份。
6.根据权利要求1所述的高透气性网格离型膜，其特征在于，包括以下质量份数的组分：120#溶剂油1份、甲苯1份、丁酮14份、异丙醇1份、二甲基硅油Me3SiO(Me2SiO)nSiMe31份，重剥离添加剂道康宁72100.1份，交联剂甲基氢硅油0.008份，锚固剂乙烯基三乙酰氧基硅烷0.003份、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷0.005份，催化剂1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷铂络合物0.04份。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111428822.6A CN113980320A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111428822.6A CN113980320A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN113980320A true CN113980320A (zh) | 2022-01-28 |
Family
ID=79732364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202111428822.6A Pending CN113980320A (zh) | 2021-11-28 | 2021-11-28 | 一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113980320A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115651535A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-01-31 | 江阴通利光电科技有限公司 | 一种超重剥离力涂布液、离型膜及制备方法 |
| CN116574290A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-08-11 | 东莞市骏青电子科技有限公司 | 一种用于锂电池浆料压延工艺的离型膜及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106893129A (zh) * | 2017-03-02 | 2017-06-27 | 江阴华美光电科技有限公司 | 一种应用于oca胶的pet离型膜及其生产工艺 |
| CN107570393A (zh) * | 2017-07-19 | 2018-01-12 | 深圳市佰瑞兴实业有限公司 | 一种网纹pet有机硅离型膜的涂布工艺 |
| CN210103822U (zh) * | 2019-06-04 | 2020-02-21 | 苏州世华新材料科技股份有限公司 | 一种抗静电pet网格保护膜 |
| CN110922622A (zh) * | 2019-12-11 | 2020-03-27 | 江阴华美光电科技有限公司 | 一种一次涂布的pet抗静电离型膜及其制备方法 |
-
2021
- 2021-11-28 CN CN202111428822.6A patent/CN113980320A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106893129A (zh) * | 2017-03-02 | 2017-06-27 | 江阴华美光电科技有限公司 | 一种应用于oca胶的pet离型膜及其生产工艺 |
| CN107570393A (zh) * | 2017-07-19 | 2018-01-12 | 深圳市佰瑞兴实业有限公司 | 一种网纹pet有机硅离型膜的涂布工艺 |
| CN210103822U (zh) * | 2019-06-04 | 2020-02-21 | 苏州世华新材料科技股份有限公司 | 一种抗静电pet网格保护膜 |
| CN110922622A (zh) * | 2019-12-11 | 2020-03-27 | 江阴华美光电科技有限公司 | 一种一次涂布的pet抗静电离型膜及其制备方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115651535A (zh) * | 2022-11-22 | 2023-01-31 | 江阴通利光电科技有限公司 | 一种超重剥离力涂布液、离型膜及制备方法 |
| CN116574290A (zh) * | 2023-04-20 | 2023-08-11 | 东莞市骏青电子科技有限公司 | 一种用于锂电池浆料压延工艺的离型膜及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN113980320A (zh) | 一种高透气性网格离型膜及其生产工艺 | |
| CN101326251B (zh) | 具有受控剥离力的有机硅剥离组合物和涂覆有所述组合物的有机硅剥离涂覆膜 | |
| CN1931926A (zh) | 硅氧烷离型组合物和使用该组合物的硅氧烷离型塑料膜 | |
| CN113980602B (zh) | 防残胶胶带的制备工艺 | |
| KR102088105B1 (ko) | 재사용 가능한 이형필름 | |
| KR101591108B1 (ko) | 전도성 바닥재 및 이의 제조방법 | |
| CN109096512A (zh) | 一种作为硅胶辊保护膜的非硅pet离型膜及其生产工艺 | |
| CN112538312B (zh) | 一种离型层涂布液以及mlcc离型膜的制备方法 | |
| CN102070987B (zh) | 一种涂层和一种光学元件 | |
| CN101957512A (zh) | 液晶显示面板及其制造方法 | |
| KR20150132194A (ko) | 그린 시트 제조용 박리 필름 및 그린 시트 제조용 박리 필름의 제조 방법 | |
| CN109943250B (zh) | 制程用防残胶硅胶保护膜 | |
| CN112812352A (zh) | 一种应用于偏光片领域的pet离型膜及其制备方法 | |
| TW201609523A (zh) | 透明電極複合體 | |
| CN108976456A (zh) | 一种用水做溶剂进行涂布的pet离型膜的生产工艺 | |
| CN106047207A (zh) | 一种抗静电保护膜及其制备方法 | |
| CN114196374B (zh) | 适用于tpu膜通用型固化的高af屏粘合力有机硅压敏胶、制备方法及其应用 | |
| CN110922622A (zh) | 一种一次涂布的pet抗静电离型膜及其制备方法 | |
| CN110964220A (zh) | 一种低温固化超轻pet离型膜及其制备方法 | |
| CN104789146A (zh) | 电磁波屏蔽用雾面铝箔mylar导电胶带及制备方法 | |
| CN102211436A (zh) | 一种抗阻塞高硬度薄膜及其制造方法 | |
| CN115181542B (zh) | 一种有机硅压敏胶及其产品和制备方法 | |
| KR102621489B1 (ko) | 저반사 코팅층을 포함하는 저반사 필름 및 그 제조 방법 | |
| CN110819262A (zh) | 一种应用于mlcc的pet离型膜及其制备方法 | |
| TW201338988A (zh) | 剝離片 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220128 |