CN113555266A - 粒子束装置及其真空室的通气抽空方法、计算机程序产品 - Google Patents
粒子束装置及其真空室的通气抽空方法、计算机程序产品 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113555266A CN113555266A CN202110403013.3A CN202110403013A CN113555266A CN 113555266 A CN113555266 A CN 113555266A CN 202110403013 A CN202110403013 A CN 202110403013A CN 113555266 A CN113555266 A CN 113555266A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- vacuum pump
- vacuum
- vacuum chamber
- inlet
- particle beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 190
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 168
- 238000004590 computer program Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 title description 14
- 238000013022 venting Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims abstract description 28
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 35
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 25
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 24
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 12
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 12
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 134
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 45
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 41
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 21
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 20
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 18
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 16
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 14
- 229910052756 noble gas Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 5
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 5
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000008439 repair process Effects 0.000 description 2
- 125000003821 2-(trimethylsilyl)ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si](C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C(OC([H])([H])[*])([H])[H] 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000013169 thromboelastometry Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
- 238000004627 transmission electron microscopy Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/182—Obtaining or maintaining desired pressure
- H01J2237/1825—Evacuating means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/18—Vacuum control means
- H01J2237/184—Vacuum locks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3174—Etching microareas
- H01J2237/31745—Etching microareas for preparing specimen to be viewed in microscopes or analyzed in microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
本发明涉及一种用于对粒子束装置的真空室进行通气和抽空的方法。本发明进一步涉及一种计算机程序产品和一种用于执行该方法的粒子束装置。该方法包括以下步骤:关闭第一真空泵的进气阀,关闭该第一真空泵的出气阀,在泵送操作中操作该第一真空泵,关闭布置在该真空室与另外的真空室之间的分离阀,通过打开流动连接至该真空室的通气设备来对该真空室进行通气,打开第二真空泵的进气阀,使用该第二真空泵对该真空室进行抽空,打开该第一真空泵的出气阀,打开该第一真空泵的进气阀以及使用该第一真空泵对该真空室进行抽空。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于对粒子束装置的真空室进行通气和抽空的方法,该粒子束装置用于对物体进行成像、分析和/或处理。本发明进一步涉及一种计算机程序产品和一种用于执行该方法的粒子束装置。该粒子束装置例如被实施为电子束装置和/或离子束装置。
背景技术
电子束装置、尤其是扫描电子显微镜(下文又称为SEM)和/或透射电子显微镜(下文又称为TEM),用于检查物体(下文又称为样本)以获得关于在某些条件下的特性和行为的了解。
在SEM中,通过束发生器来生成电子束(下文又称为一次电子束),并通过束引导***将电子束聚焦到要检查的物体上。通过呈扫描设备形式的偏转设备以扫描方式来将一次电子束引导在要检查的物体的表面之上。在此,一次电子束的电子与要检查的物体相互作用。作为相互作用的结果,具体地,电子是由物体发射的(所谓的二次电子)并且一次电子束的电子是反向散射的(所谓的反向散射电子)。二次电子和反向散射电子被检测并用于图像生成。如此获得了要检查的物体的图像表示。进一步,在相互作用期间产生相互作用辐射,例如X射线辐射,并且为了对物体进行分析以及随后进行评估,通过检测器对相互作用辐射进行检测。
在TEM的情况下,同样通过束发生器来生成一次电子束,并且通过束引导***将一次电子束聚焦到要检查的物体上。一次电子束穿过要检查的物体。当一次电子束穿过要检查的物体时,一次电子束的电子与要检查的物体的材料相互作用。通过由物镜和投影单元组成的***将穿过要检查的物体的电子成像到荧光屏或检测器(例如相机)上。在此,成像还可以在TEM的扫描模式下进行。通常,这种TEM被称为STEM。另外,可以通过另外的检测器来检测要检查的物体处的反向散射电子和/或由要检查的物体发射的二次电子,以便对要检查的物体进行成像。
将STEM和SEM的功能组合在单个粒子束装置中是已知的。因此,能够使用此粒子束装置通过SEM功能和/或STEM功能对物体进行检查。
而且,呈离子束柱形式的粒子束装置是已知的。通过布置在离子束柱中的离子束发生器来生成用于处理物体的离子。举例来说,在处理期间例如通过在该过程中供给的气体来烧蚀物体的材料或将材料施加到物体上。另外地或替代性地,将离子用于成像。
此外,从现有技术中已知使用组合装置用于检查物体,其中,电子和离子两者都可以被引导至要检查的物体上。举例来说,已知使SEM另外配备有离子束柱。布置在离子束柱中的离子束发生器生成用于制备物体(例如去除物体的材料或向物体施加材料)或用于成像的离子。为此目的,通过呈扫描设备形式的偏转设备使离子在物体之上扫描。SEM在此特别地用于观察制备,而且还用于对经制备或未经制备的物体进行进一步检查。
已知包括真空室的粒子束装置,在该真空室中布置有要检查、要分析和/或要处理的物体。真空室也称为样本室。另外或作为物体的替代方案,例如在真空室中布置至少一个检查设备和/或成像设备。真空室处于真空。为了产生真空,至少一个泵被布置在真空室处。使用预真空泵和涡轮分子泵的组合用于在真空室中产生真空是已知的。举例来说,真空室在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。第一压力范围仅包括例如小于或等于10-3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括例如大于10-3hPa的压力。为了确保所述压力范围,真空室是真空密封的。
如果应该更换布置在真空室中的物体,则在已知的现有技术中对真空室进行通气并且随后打开。为此,在真空室上布置门,所述门能够进入打开位置和关闭位置。在打开真空室之后更换物体。对应的陈述适用于布置在真空室中的部件,例如呈检查设备和/或成像设备的形式,该检查设备和/或成像设备应被安装、移除和/或维修。为此,已知的现有技术遵循下文阐述的过程。最初,关闭阀,该阀将粒子束装置的第一区域与粒子束装置的第二区域分开,在该第一区域中布置有粒子源并且存在超高真空(10-7hPa至10-12hPa),该第二区域具有高真空(10-3hPa至10-7hPa)。第二区域是束引导管的中间压力区域,其通向真空室。随后,停用涡轮分子泵和预真空泵,并且对真空室进行通气。一旦对真空室进行通气后,将真空室打开,使得可以更换物体。另外或作为其替代方案,部件(例如检查设备和/或成像设备)被组装、移除和/或维修。更换物体或组装、移除和/或维修部件之后,将真空室密封。随后,将预真空泵和涡轮分子泵重新启动,以对真空室进行抽空。在达到真空室中的可选真空之后,即,在达到真空室中的可选压力之后,重新打开将第一区域与第二区域分开的阀。
已知的现有技术的缺点在于,在对真空室进行通气之后,对真空室进行抽空直到在真空室中达到可选压力会花费数分钟,例如多达5分钟或多达10分钟。
发明内容
本发明基于以下目的:指定一种用于对用于对物体进行成像、分析和/或处理的粒子束装置的真空室进行通气和抽空的方法和一种用于执行该方法的粒子束装置,通过这些,与现有技术相比,减少了在对真空室进行通气之后对真空室进行抽空以在真空室中获得可选压力的持续时间。
根据本发明,此目的通过具有下文所述的特征的方法实现。下文所述的特征给出了一种包括在处理器上执行时控制用于执行该方法的粒子束装置的程序代码的计算机程序产品。此外,下文所述的特征给出了一种用于对物体进行成像、分析和/或处理的粒子束装置。本发明的另外特征从下文的描述、所附权利要求和/或附图中变得清楚。
根据本发明的方法被设计用于对粒子束装置的真空室进行通气和抽空的方法,该粒子束装置用于对物体进行成像、分析和/或处理。举例来说,物体被布置在真空室中。真空室流动连接至另外的真空室,在该另外的真空室中布置有根据本发明的粒子束装置的粒子束发生器。根据本发明的粒子束装置例如被实施为电子束装置和/或离子束装置。
在根据本发明的方法中,关闭第一真空泵的至少一个进气阀,其方式使得第一供给管线中的第一流动连接在第一真空泵的进气口与真空室之间中断。举例来说,第一真空泵的进气口是开口,来自真空室的空气通过该开口通过第一供给管线被吸入。举例来说,第一真空泵被实施为涡轮分子泵。
在根据本发明的方法的另外的步骤中,关闭第一真空泵的至少一个出气阀,其方式使得第二供给管线中的第二流动连接在第一真空室的出气口与第二真空泵的进气口之间中断。举例来说,第一真空泵的出气口是开口,第一真空泵吸入的空气通过该开口逸出。在存在的第二流动连接的情况下,此空气然后经由第二供给管线进入第二真空泵的进气口。举例来说,第二真空泵的进气口是开口,来自第一真空泵的空气通过该开口通过第二供给管线被吸入第二真空泵中。举例来说,第二真空泵被实施为预真空泵。
在根据本发明的方法的甚至另外的步骤中,关闭布置在真空室与另外的真空室之间的分离阀,其方式使得第三供给管线中的第三流动连接在真空室与另外的真空室之间中断,其中,在真空室中存在第一真空,并且其中,在另外的真空室中存在第二真空。
在根据本发明的方法中,第一真空泵在泵送操作中操作。因此,与现有技术相比,第一真空泵未停用,而是在泵送操作中被有意地操作。
此外,在根据本发明的方法中,通过打开流动连接至真空室的至少一个通气设备来对真空室进行通气,其方式使得至少一种通气气体流入真空室。具体地,提供了将通气设备布置在真空室处。举例来说,空气被用作通气气体。另外或作为其替代方案,与空气不同的气体被用作通气气体,例如稀有气体,具体地氦气。举例来说,在对真空室进行通气之后,安装和/或更换物体。另外或作为其替代方案,提供了将例如呈成像设备和/或处理设备形式的部件组装、移除和/或维修,其中,物体和/或部件布置在真空室中和/或真空室上。举例来说,成像设备被实施为检测器。在本发明的一个实施例中,处理设备被实施为切割设备。本发明不限于成像设备和处理设备的前述实施例。相反,适合于本发明的任何成像设备都可以被用作成像设备和/或适合于本发明的任何处理设备都可以被用作处理设备。
在根据本发明的方法的另外的步骤中,打开第二真空泵的至少一个进气阀,其方式使得第四供给管线中的第四流动连接在第二真空泵的进口与真空室之间建立。举例来说,第二真空泵的进口是开口,来自真空室的空气通过该开口通过第四供给管线被吸入第二真空泵中。举例来说,进口是第二真空泵的前述进气口。作为其替代方案,第二真空泵的进口和第二真空泵的进气口是第二真空泵的不同进口,空气通过这些不同进口进入第二真空泵。
在根据本发明的方法的甚至另外的步骤中,第二真空泵用于对真空室进行抽空。在该过程中,来自真空室的空气通过第四供给管线被吸入第二真空泵中。
在根据本发明的方法中,第一真空泵的出气阀进一步有开口,其方式使得第二供给管线中的第二流动连接在第一真空泵的出气口与第二真空泵的进气口之间建立。此外,存在第一真空泵的进气阀的开口,其方式使得第一供给管线中的第一流动连接在第一真空泵的进气口与真空室之间建立。随后,使用第一真空泵对真空室进行抽空,例如直到在真空室中达到期望的真空,即期望的压力。在根据本发明的方法的一个实施例中,提供了例如真空室在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。第一压力范围仅包括小于或等于10-3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。
与现有技术相比,根据本发明的方法的优点在于,在对真空室进行通气之后,对真空室进行的随后抽空并因此泵出以获得期望的真空,即获得真空室中期望的压力与现有技术相比,显著减少了时间。举例来说,直到获得期望的压力的抽空过程,例如在10-5hPa的范围内,花费的时间少于一分钟。因此,在所述物体已被改变之后,可以快速恢复通过粒子束装置对物体进行成像、分析和/或处理。在组装、移除和/或维修布置在真空室中和/或真空室上的部件(例如成像设备和/或处理设备)之后,对应的声明适用。
在根据本发明的方法的一个实施例中,另外地或替代性地,提供了在打开通气设备之前关闭分离阀。
在根据本发明的方法的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了首先关闭第一真空泵的进气阀,并且之后关闭第一真空泵的出气阀。这确保了不再从真空室中吸入空气,并且通过第一真空泵从真空室中吸入的空气能够在第一真空泵的出气阀关闭之前离开第一真空泵。作为其替代方案,提供了首先关闭第一真空泵的出气阀,并且之后关闭第一真空泵的进气阀。
在根据本发明的方法的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了首先打开第一真空泵的进气阀,并且之后打开第一真空泵的出气阀。作为其替代方案,提供了首先打开第一真空泵的出气阀,并且之后打开第一真空泵的进气阀。
举例来说,提供了对真空室进行通气的同时在泵送操作中操作第二真空泵。在根据本发明的方法的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了在对真空室进行通气之前和/或对真空室进行通气期间将第二真空泵切换到待机模式。换句话说,第二真空泵不在泵送操作中操作。举例来说,第二真空泵被完全停用或部分地停用,其方式使得预真空泵不再吸入空气。在根据本发明的方法的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了在对真空室进行通气之后和/或对真空室进行通气期间将第二真空泵切换到泵送操作。
在根据本发明的方法的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了在打开第一真空泵的进气阀之前、期间或之后和/或在打开第一真空泵的出气阀之前、期间或之后,关闭第二真空泵的进气阀,其方式使得第四供给管线中的第四流动连接在第二真空泵的进口与真空室之间中断。举例来说,提供了首先关闭第二真空泵的进气阀,之后打开第一真空泵的出气阀,并且之后打开第二真空泵的进气阀。根据本发明的方法的此实施例确保在真空室中产生了例如10-1hPa量级的预真空之后,通过第一真空泵对真空室进行抽空,直到达到期望的真空(即直到达到期望的压力)。
如上文已提及的,另外地或替代性地,在根据本发明的方法的又另外的实施例中提供了在已经对真空室进行通气之后将物体布置在真空室中和/或从真空室中移除。另外或作为其替代方案,在根据本发明的方法的一个实施例中提供了将布置在真空室中的粒子束装置的部件、例如成像设备和/或处理设备安装、移除和/或维修。
举例来说,布置在另外的真空室中的束发生器是电子束发生器或离子束发生器。举例来说,另外的真空室中的第二真空是超高真空。相比之下,在真空室中存在第一真空,在该真空室中布置有物体和/或部件。如上文描述的,第一压力范围——并且因此第一真空,真空室在该第一压力范围下操作——例如仅包括小于或等于10-3hPa的压力。相比之下,第二压力范围一一并且因此第一真空,真空室在该第二压力范围下操作——仅包括大于10-3hPa的压力。
在根据本发明的方法的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了在关闭第一真空泵的进气阀之前、期间或之后和/或在关闭第一真空泵的出气阀之前、期间或之后,关闭第一真空泵(或分配给第一真空泵)的另外的进气阀,其方式使得第五供给管线中的第五流动连接在第一真空泵的进气口与真空室之间中断。因此,第一真空泵经由另外的或替代性的供给管线,具体地经由布置在第一真空泵的进气口与真空室之间的第五供给管线连接至真空室。通过关闭另外的进气阀来中断第五供给管线中的第五流动连接。
在根据本发明的方法的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了关闭第一真空泵的另外的进气阀,其方式使得第六供给管线中的第六流动连接在第一真空泵的进口与真空室之间中断。因此,第一真空泵经由另外的或替代性的供给管线,具体地经由布置在第一真空泵的进口与真空室之间的第六供给管线连接至真空室。举例来说,第一真空泵的前述进口是开口,由第一真空泵从真空室吸入的空气通过该开口进入第一真空泵。举例来说,第一真空泵的进口与上文已进一步提到的第一真空泵的进气口相同。作为其替代方案,第一真空泵的进口和第一真空泵的进气口是第一真空泵的不同进口。举例来说,在根据本发明的方法中提供了在使用第一真空泵对真空室进行抽空期间或对真空室进行抽空之后,打开第一真空泵的另外的进气阀,其方式使得第六供给管线中的第六流动连接在第一真空泵的进口与真空室之间建立。另外或作为其替代方案,在根据本发明的方法中提供了在使用第一真空泵对真空室进行抽空期间或对真空室进行抽空之后,打开第一真空泵的另外的进气阀,其方式使得第五供给管线中的第五流动连接在第一真空泵的进气口与真空室之间建立。
在根据本发明的方法的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了致动布置在真空室上的计量阀。举例来说,计量阀用于建立第二压力范围,该第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。举例来说,通过粒子束装置在第二压力范围内检查生物物体。在根据本发明的方法的此实施例中,现在提供了在关闭第一真空泵的进气阀之前、期间或之后和/或在关闭第一真空泵的出气阀之前、期间或之后,关闭分配给真空室的计量阀,其方式使得没有气体、例如空气或稀有气体通过计量阀进入真空室。另外或作为其替代方案,提供了在打开用于建立第四流动连接的第二真空泵的进气阀之前、期间或之后,打开计量阀,其方式使得气体、例如空气或稀有气体通过计量阀进入真空室。
在根据本发明的方法的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了将第三真空泵布置在另外的真空室处,随其对另外的真空室进行抽空用于建立第二真空。举例来说,真空泵被实施为离子吸气泵。因此,离子吸气泵被用作第三真空泵用于建立第二真空。
在根据本发明的方法的一个实施例中,另外地或替代性地,提供了此外该方法包括以下步骤中的至少一个:
(i)样本室被用作真空室;
(ii)涡轮分子泵被用作第一真空泵;
(iii)预真空泵被用作第二真空泵;
(iv)该第二真空泵的该进气口被用作该第二真空泵的该进口。
本发明还涉及一种计算机程序产品,该计算机程序产品包括可加载或加载到粒子束装置的处理器中的程序代码,其中,当在处理器中执行该程序代码时,该程序代码控制粒子束装置,其方式使得执行具有前述或以下特征中的至少一个或具有前述或以下特征中的至少两个的组合的方法。
本发明进一步涉及一种用于对物体进行成像、分析和/或处理的粒子束装置。根据本发明的粒子束装置包括用于生成包括带电粒子的粒子束的至少一个束发生器。带电粒子例如是电子或离子。根据本发明的粒子束装置包括用于将粒子束聚焦到物体上的至少一个物镜。
根据本发明的粒子束装置包括用于接纳物体的至少一个真空室和至少一个另外的真空室,在该另外的真空室中布置有束发生器。此外,根据本发明的粒子束装置包括经由第一供给管线连接至真空室的至少一个第一真空泵,其中,第一真空泵具有至少一个进气口和至少一个出气口。举例来说,第一真空泵被实施为涡轮分子泵。举例来说,第一真空泵的进气口是开口,来自真空室的空气通过该开口通过第一供给管线被吸入第一真空泵中。举例来说,第一真空泵的进气口可以具有多部分实施例。举例来说,第一真空泵的进气口具有第一进气口和第二进气口。举例来说,第一真空泵的出气口是开口,第一真空泵吸入的空气通过该开口逸出。
此外,根据本发明的粒子束装置包括至少一个第二真空泵,该至少一个第二真空泵经由第二供给管线连接至第一真空泵并且经由第四供给管线连接至真空室。第二真空泵具有至少一个进气口。举例来说,第二真空泵的进气口是开口,来自第一真空泵的空气通过该开口通过第二供给管线被吸入第二真空泵中。举例来说,第二真空泵的进气口可以具有多部分实施例。具体地,一个实施例提供了将第二真空泵的第一进气口布置在第二供给管线上,该第一进气口在与根据本发明的方法有关的说明中在上文进一步被称为第二真空泵的进气口。相比之下,将第二进气口布置在第四供给管线上,该第二进气口在与根据本发明的方法有关的说明中在上文进一步被称为第二真空泵的进口。
根据本发明的粒子束装置还包括分离阀,该分离阀布置在第三供给管线上,用于在真空室与另外的真空室之间建立或中断第三供给管线中的第三流动连接,其中,另外的真空室经由第三供给管线连接至真空室。在真空室中存在第一真空,并且在另外的真空室中存在第二真空。举例来说,另外的真空室中的第二真空是超高真空。相比之下,在其中布置有物体和/或部件的真空室中存在不同的压力,例如来自前述第一压力范围或第二压力范围的压力。第一压力范围——并且因此第一真空,真空室在该第一压力范围下操作——例如仅包括小于或等于10-3 hPa的压力。相比之下,第二压力范围——并且因此同样是第一真空,真空室在该第二压力范围下操作—一仅包括大于10-3hPa的压力。
进一步,根据本发明的粒子束装置包括通气设备,该通气设备流动连接至真空室,用于将通气气体引入真空室。具体地,提供了将通气设备布置在真空室处。举例来说,通气气体是空气和/或稀有气体。
根据本发明的粒子束装置还包括第一真空泵的至少一个进气阀,该至少一个进气阀布置在第一供给管线上用于在第一真空泵的进气口与真空室之间建立或中断第一供给管线中的第一流动连接。进一步,根据本发明的粒子束装置包括第一真空泵的至少一个出气阀,该至少一个出气阀布置在第二供给管线上用于在第一真空泵的出气口与第二真空泵的进气口之间建立或中断第二供给管线中的第二流动连接。此外,根据本发明的粒子束装置配备有第二真空泵的至少一个进气阀,该至少一个进气阀布置在第四供给管线上用于在第二真空泵的进气口与真空室之间建立或中断第四供给管线中的第四流动连接。
根据本发明的粒子束装置包括至少一个控制单元,该至少一个控制单元包括处理器,在该处理器中加载具有前述或以下特征中的至少一个或具有前述或以下特征中的至少两个的组合的计算机程序产品。
在根据本发明的粒子束装置的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了该粒子束装置进一步包括布置在真空室与第一真空泵之间的第五供给管线。此外,另外地或替代性地,提供了根据本发明的粒子束装置包括至少一个另外的进气阀,该至少一个另外的进气阀布置在第五供给管线处用于在第一真空泵的进气口与真空室之间建立或中断第五供给管线中的第五流动连接。因此,第一真空泵经由另外的或替代性的供给管线,具体地经由布置在第一真空泵的进气口与真空室之间的第五供给管线连接至真空室。第五供给管线中的第五流动连接通过关闭另外的进气阀而关闭,或者通过打开另外的进气阀而建立。
在根据本发明的粒子束装置的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了将第六供给管线布置在第一真空泵的进气口与真空室之间。因此,第一真空泵经由另外的或替代性的供给管线,具体地经由布置在第一真空泵的进气口与真空室之间的第六供给管线连接至真空室。举例来说,第六供给管线是与第五供给管线流动分离的供给管线。
在根据本发明的粒子束装置的实施例中,另外地或替代性地,提供了该粒子束装置包括可操作地连接至真空室的计量阀。如上所述,计量阀用于例如在真空室中建立第二压力范围,该第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。举例来说,通过粒子束装置在第二压力范围内检查生物物体。可以关闭计量阀,其方式使得没有气体、例如空气或稀有气体通过计量阀进入真空室。可以打开计量阀,其方式使得气体、例如空气或稀有气体通过计量阀进入真空室。
在根据本发明的粒子束装置的另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了该粒子束装置包括被实施为例如离子吸气泵的至少一个第三真空泵。举例来说,第三真空泵连接至另外的真空室,用于对另外的真空室进行抽空。另外或作为其替代方案,提供了将第一真空泵实施为涡轮分子泵和/或将第二真空泵实施为预真空泵。
在根据本发明的粒子束装置的又另外的实施例中,另外地或替代性地,提供了将第一真空泵的进气阀布置在第一真空泵的进气口处和/或流动连接至第一真空泵的进气口。另外或作为其替代方案,提供了将第一真空泵的出气阀布置在第一真空泵的出气口处和/或流动连接至第一真空泵的出气口。进一步另外地或在其又另外的替代方案中,提供了将第二真空泵的进气阀布置在第二真空泵的进气口处和/或流动连接至第二真空泵的进气口。
在根据本发明的粒子束装置的实施例中,另外地或替代性地,提供了该粒子束装置包括用于使粒子束在物体之上扫描的至少一个扫描设备。进一步,根据本发明的粒子束装置另外地或替代性地包括用于检测相互作用粒子和/或相互作用辐射的至少一个检测器,相互作用粒子和/或相互作用辐射是在粒子束入射在物体上时从粒子束与物体之间的相互作用出射的。举例来说,相互作用粒子是二次粒子,具体地二次电子,和/或反向散射的粒子,具体地反向散射的电子。举例来说,相互作用辐射是x射线辐射或阴极发光光线。此外,根据本发明的粒子束装置另外地或替代性地设有用于显示图像和/或对物体的分析的至少一个显示设备。
在根据本发明的粒子束装置的另外的实施例中,束发生器被实施为第一束发生器,并且粒子束被实施为包括第一带电粒子的第一粒子束。进一步,物镜被实施为用于将第一粒子束聚焦到物体上的第一物镜。此外,根据本发明的粒子束装置包括用于生成包括第二带电粒子的第二粒子束的至少一个第二束发生器。进一步,根据本发明的粒子束装置包括用于将第二粒子束聚焦到物体上的至少一个第二物镜。
具体地,提供了将粒子束装置实施为电子束装置和/或离子束装置。
附图说明
下文联合附图描述本发明的另外的实际实施例和优点。详细而言:
图1示出了粒子束装置的示意性图示;
图2示出了另外的粒子束装置的示意性图示;
图3示出了甚至另外的粒子束装置的示意性图示;
图4示出了按照图1的粒子束装置的简化的示意性图示;
图5示出了根据本发明的方法的第一实施例的流程图;
图6示出了根据本发明的方法的第二实施例的流程图;
图7示出了按照图1的粒子束装置的另外的简化的示意性图示;
图8示出了根据本发明的方法的第三实施例的流程图;
图9示出了根据本发明的方法的第四实施例的流程图;以及
图10示出了按照图1的粒子束装置的又另外的简化的示意性图示。
具体实施方式
现在通过呈SEM形式和组合装置形式的粒子束装置更详细地解释本发明,该组合装置包括电子束柱和离子束柱。明确地提及以下事实:本发明可以用在任何粒子束装置中,特别是任何电子束装置和/或任何离子束装置中。
图1示出了SEM 100的示意性图示。SEM 100包括呈电子源101的形式的第一束发生器,该电子源被实施为阴极。进一步,SEM 100设有引出电极102和阳极103,该阳极放置到SEM 100的束引导管104的一端上。举例来说,电子源101被实施为热场发射器。然而,本发明不限于这种电子源101。而是,可利用任何电子源。
从电子源101出射的电子形成了一次电子束。这些电子由于电子源101与阳极103之间的电势差而被加速到阳极电势。在此所展示的实施例中,阳极电势相对于真空室120(下文被称为样本室120)的壳体的接地电势为100V至35kV,例如5kV至15kV、特别是8kV。然而,替代性地,阳极电势还可以处于接地电势。
在束引导管104上布置有两个聚束透镜,特别是第一聚束透镜105和第二聚束透镜106。在此,在第一物镜107的方向上看从电子源101开始,第一聚束透镜105布置在前,接着是第二聚束透镜106。明确地提及以下事实:SEM 100的另外的实施例可以仅包括单个聚束透镜。第一光阑单元108被布置在阳极103与第一聚束透镜105之间。与阳极103和束引导管104一起,第一光阑单元108处于高电压电势(具体是阳极103的电势),或者连接至接地。第一光阑单元108具有多个第一光圈108A,在图1中展示了其中的一个。举例来说,存在两个第一光圈108A。这许多第一光圈108A中的每一个具有不同的光圈直径。通过调整机构(未展示),可以将期望的第一光圈108A设置在SEM 100的光轴OA上。明确地提及以下事实:在另外的实施例中,第一光阑单元108可以仅设有单个第一光圈108A。在此实施例中,可能不存在调整机构。然后将第一光阑单元108设计为固定的。固定的第二光阑单元109被布置在第一聚束透镜105与第二聚束透镜106之间。作为其替代方案,提供了以可移动的方式实施第二光阑单元109。
第一物镜107包括极靴110,这些极靴中形成有孔。束引导管104被引导穿过此孔。线圈111被布置在极靴110中。
静电延迟设备被布置在束引导管104的下部区域中。这包括单独的电极112和管状电极113。管状电极113布置在束引导管104的一端处,所述端面向布置在以可移动的方式实施的物体固持器114处的物体125。
管状电极11 3与束引导管104一起处于阳极103的电势,而单独的电极112和物体125相对于阳极103的电势处于较低电势。在当前情况下,这是样本室120的壳体的接地电势。以此方式,一次电子束的电子可以被减速到为了检查物体125所需的期望能量。
SEM 100进一步包括扫描设备115,通过该扫描设备,一次电子束可以被偏转并在物体125之上扫描。在此,一次电子束的电子与物体125相互作用。由于该相互作用,产生了相互作用粒子,这些相互作用粒子被检测到。具体地,从物体125的表面发射电子(所谓的二次电子),或一次电子束的电子作为相互作用粒子被反向散射(所谓的反向散射电子)。
物体125和单独的电极112也可以处于不同的电势和不同于接地的电势。由此可以设定一次电子束相对于物体125的延迟的位置。举例来说,如果延迟在非常接近物体125的位置发生,则成像像差变小。
包括第一检测器116和第二检测器117的检测器布置被布置在束引导管104中,用于检测二次电子和/或反向散射电子。在此,在束引导管104中,第一检测器116沿光轴OA布置在源侧,而第二检测器117沿光轴OA布置在物体侧。第一检测器116和第二检测器117被布置成在SEM 100的光轴OA的方向上彼此偏离。第一检测器116和第二检测器117两者各自具有通道开口,一次电子束可以穿过该通道开口。第一检测器116和第二检测器117大约处于阳极103和束引导管104的电势。SEM 100的光轴OA延伸穿过相应的通道开口。
第二检测器117主要用于检测二次电子。在从物体125出射时,二次电子最初具有低动能和随机运动方向。通过从管状电极113发出的强引出场,二次电子朝第一物镜107的方向被加速。二次电子大约平行地进入第一物镜107。二次电子束的束直径在第一物镜107中也保持得较小。第一物镜107然后对二次电子具有强的作用,并且生成二次电子相对于光轴OA以足够陡的角度的相对短的聚焦,使得二次电子在焦点的下游彼此远离地发散开并且在其有效区上撞击第二检测器117。相比之下,第二检测器117仅检测到在物体125处反向散射的电子的一小部分,即,与从物体125出射的二次电子相比具有相对高的动能的反向散射电子。反向散射电子在从物体125出射时的高动能和相对于光轴OA的角度具有的作用是,反向散射电子的束腰(即,具有最小直径的束区域)位于第二检测器117附近。大部分反向散射电子穿过第二检测器117的通道开口。因此,第一检测器116基本上用于检测反向散射电子。
在SEM 100的另外的实施例中,第一检测器116可以另外被实施为具有相反场光栅116A。相反场光栅116A被布置在第一检测器116的朝向物体125的一侧。相对于束引导管104的电势,相反场光栅116A具有负电势,使得仅具有高能量的反向散射电子穿过相反场光栅116A到达第一检测器116。另外或作为其替代方案,第二检测器117包括另外的相反场光栅,该另外的相反场光栅具有与第一检测器116的前述相反场光栅116A类似的实施例并且具有类似功能。
进一步,SEM 100在样本室120中包括室检测器119,例如Everhart-Thornley(埃弗哈特索恩利)检测器或离子检测器,其具有涂覆有金属并且阻挡光的检测表面。
由第一检测器116、第二检测器117和室检测器119生成的检测信号用于生成物体125的表面的一个或多个图像。
明确地提及以下事实:以夸大的方式展示了第一光阑单元108和第二光阑单元109的光圈以及第一检测器116和第二检测器117的通道开口。第一检测器116和第二检测器117的通道开口具有垂直于光轴OA在0.5mm至5mm的范围内的延伸。举例来说,这些通道开口具有环形设计,并且具有垂直于光轴OA在1mm至3mm的范围内的直径。
第二光阑单元109在这里展示的实施例中被配置为针孔光阑,并且设有用于让一次电子束通过的第二光圈118,该第二光圈具有在5μm至500μm的范围内、例如35μm的延伸。作为其替代方案,在另外的实施例中提供的是,第二光阑单元109设有多个光圈,这些光圈可以相对于一次电子束机械地移位或者可以通过使用电和/或磁偏转元件而被一次电子束到达。第二光阑单元109被实施为压力载台光阑。这将第一区域与第二区域分开,在该第一区域中布置有电子源101并且存在超高真空(10-7hPa至10-12hPa),该第二区域具有高真空(10-3hPa至10-7hPa)。第二区域是束引导管104的中间压力区域,其通向样本室120。
样本室120处于真空。为了产生真空,在样本室120处布置有泵***130。泵***130将在下文更详细地讨论。在图1所示的实施例中,样本室120在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。第一压力范围仅包括小于或等于10-3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。为了确保所述压力范围,样本室120是真空密封的。样本室120包括门129,该门能够进入打开位置和关闭位置。样本室120在门129的关闭位置被真空密封。相比之下,当门129处于打开位置时,样本室120的内部是可接近的。
物体固持器114布置在样本载台122处。样本载台122被实施为在相互垂直布置的三个方向上可移动,具体是x方向(第一载台轴线)、y方向(第二载台轴线)和z方向(第三载台轴线)。此外,样本载台122可以绕彼此垂直布置的两条旋转轴线旋转(载台旋转轴线)。本发明不局限于上文描述的样本载台122。而是,样本载台122可以具有样本载台122可以沿着或围绕其移动的另外的平移轴线和旋转轴线。
SEM 100进一步包括布置在样本室120中的第三检测器121。更精确地,第三检测器121被布置在样本载台122的下游,如从电子源101沿光轴OA观看到的那样。样本载台122并且因此物体固持器114可以以使得一次电子束可以辐射穿过布置在物体固持器114上的物体125的方式旋转。当一次电子束穿过要检查的物体125时,一次电子束的电子与要检查的物体125的材料相互作用。第三检测器121检测穿过要检查的物体125的电子。
在样本室120处布置了辐射检测器500,该辐射检测器用于检测相互作用辐射,例如x射线辐射和/或阴极发光光线。辐射检测器500、第一检测器116、第二检测器117和室检测器119连接至控制单元123,该控制单元包括监视器124。第三检测器121也连接至控制单元123。为了清楚起见未展示。控制单元123处理由第一检测器116、第二检测器117、室检测器119、第三检测器121和/或辐射检测器500生成的检测信号,并且将所述检测信号以图像的形式显示在监视器124上。
控制单元123还具有数据库126,在该数据库中存储数据并且从中读取出数据。进一步,控制单元123包括操作设备128。SEM 100的用户可以经由操作设备128操作控制单元123。
SEM 100的控制单元123还包括处理器127。包括程序代码的计算机程序产品被加载到处理器127中,该程序代码在被执行时执行用于操作SEM100的方法。下文更详细地解释这点。
图2示出了呈组合装置200的形式的粒子束装置。组合装置200包括两个粒子束柱。首先,如已在图1中所展示的,组合装置200设有SEM 100,但没有样本室120。而是,SEM100布置在真空室201处(在下文被称为样本室201)。样本室201处于真空。为了产生真空,在样本室201处布置有泵***130。泵***130将在下文更详细地讨论。在图2所示的实施例中,样本室201在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。第一压力范围仅包括小于或等于10- 3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。为了确保所述压力范围,样本室201是真空密封的。样本室201包括门129,该门能够进入打开位置和关闭位置。样本室201在门129的关闭位置被真空密封。相比之下,当门129处于打开位置时,样本室201的内部是可接近的。
布置在样本室201中的是室检测器119,该室检测器例如以Everhart-Thornley检测器或离子检测器的形式实施,并且该室检测器具有涂覆有阻挡光线的金属的检测表面。进一步,第三检测器121布置在样本室201中。
SEM 100用于生成第一粒子束,具体是上文已进一步描述的一次电子束,并且具有上文已指定的光轴,该光轴在图2中用附图标记709提供,并且在下文也称为第一束轴线。其次,组合装置200设有离子束装置300,该离子束装置同样布置在样本室201处。离子束装置300同样具有光轴,该光轴在图2中用附图标记710提供,并且在下文中也称为第二束轴线。
SEM 100相对于样本室201竖直地布置。相比之下,离子束装置300以相对于SEM100倾斜大约0°至90°的角度的方式布置。在图2中以举例的方式展示了大约50°的布置。离子束装置300包括呈离子束发生器301的形式的第二束发生器。离子束发生器301生成离子,这些离子形成呈离子束形式的第二粒子束。这些离子通过处于可预定电势的引出电极302被加速。第二粒子束然后穿过离子束装置300的离子光学单元,其中,离子光学单元包括聚束透镜303和第二物镜304。第二物镜304最终生成离子探针,该离子探针聚焦到布置在物体固持器114上的物体125上。物体固持器114布置在样本载台122处。
可调整或可选择光阑306、第一电极布置307和第二电极布置308被布置在第二物镜304上方(即,在离子束发生器301的方向上),其中,第一电极布置307和第二电极布置308被实施为扫描电极。通过第一电极布置307和第二电极布置308在物体125的表面上扫描第二粒子束,其中第一电极布置307沿第一方向起作用并且第二电极布置308沿第二方向起作用,第二方向与第一方向相反。因此,例如在x方向上执行扫描。在与之垂直的y方向上的扫描是通过在第一电极布置307和第二电极布置308处的旋转了90°的另外的电极(未展示)引起的。
如上文所解释的,物体固持器114布置在样本载台122处。在图2所示的实施例中,样本载台122也被实施为在相互垂直布置的三个方向上可移动,具体是x方向(第一载台轴线)、y方向(第二载台轴线)和z方向(第三载台轴线)。此外,样本载台122可以绕彼此垂直布置的两条旋转轴线旋转(载台旋转轴线)。
为了更好地展示组合装置200的单独的单元,图2中所展示的组合装置200的单独的单元之间的距离以夸大的方式展示。
在样本室201处布置了辐射检测器500,该辐射检测器用于检测相互作用辐射,例如x射线辐射和/或阴极发光光线。辐射检测器500连接至控制单元123,该控制单元包括监视器124。
控制单元123处理由第一检测器116、第二检测器117(图2中未展示)、室检测器119、第三检测器121和/或辐射检测器500生成的检测信号,并且将所述检测信号以图像的形式显示在监视器124上。
控制单元123还具有数据库126,在该数据库中存储数据并且从中读取出数据。进一步,控制单元123包括操作设备128。组合装置200的用户可以经由操作设备128操作控制单元123。
组合装置200的控制单元123还包括处理器127。包括程序代码的计算机程序产品被加载到处理器中127,该程序代码在被执行时执行用于操作组合装置200的方法。下文更详细地解释这点。
图3是根据本发明的粒子束装置的另外的实施例的示意性图示。粒子束装置的此实施例用附图标记400来提供、并且包括用于校正例如色像差和/或球面像差的反射镜校正器。粒子束装置400包括粒子束柱401,该粒子束柱被实施为电子束柱并且基本上对应于校正后的SEM的电子束柱。然而,粒子束装置400不局限于具有反射镜校正器的SEM。而是,粒子束装置可以包括任何类型的校正器单元。
粒子束柱401包括呈电子源402(阴极)形式的粒子束发生器、引出电极403和阳极404。举例来说,电子源402被实施为热场发射器。从电子源402出射的电子由于电子源402与阳极404之间的电势差而被加速到达阳极404。因此,沿第一光轴OA1形成呈电子束形式的粒子束。
在从电子源402出射粒子束之后,该粒子束沿与第一光轴OA1相对应的束路径被引导。第一静电透镜405、第二静电透镜406和第三静电透镜407用于引导粒子束。
此外,使用束引导设备沿束路径来设置粒子束。此实施例的束引导设备包括源设置单元,该源设置单元具有沿第一光轴OA1布置的两个磁偏转单元408。此外,粒子束装置400包括静电束偏转单元。第一静电束偏转单元409(在进一步实施例中也被实施为四极)布置在第二静电透镜406与第三静电透镜407之间。第一静电束偏转单元409同样布置在磁偏转单元408的下游。呈第一磁偏转单元形式的第一多极单元409A布置在第一静电束偏转单元409的一侧。而且,呈第二磁偏转单元形式的第二多极单元409B布置在第一静电束偏转单元409的另一侧。第一静电束偏转单元409、第一多极单元409A和第二多极单元409B被设置用于将粒子束相对于第三静电透镜407的轴线和束偏转设备410的入口窗口进行设置。第一静电束偏转单元409、第一多极单元409A和第二多极单元409B可以像维恩滤波器(Wienfilter)一样相互作用。磁偏转元件432布置在束偏转设备410的入口处。
束偏转设备410被用作粒子束偏转器,该粒子束偏转器用于使粒子束以特定方式偏转。束偏转设备410包括多个磁扇区,具体是第一磁扇区411A、第二磁扇区411B、第三磁扇区411C、第四磁扇区411D、第五磁扇区411E、第六磁扇区411F和第七磁扇区411G。粒子束沿第一光轴OA1进入束偏转装置410,并且所述粒子束被束偏转设备410沿第二光轴OA2的方向偏转。通过第一磁扇区411A、通过第二磁扇区411B并且通过第三磁扇区411C执行了30°至120°角度的束偏转。第二光轴OA2相对于第一光轴OA1以相同角度定向。束偏转设备410也使沿第二光轴OA2被引导的粒子束精确地在第三光轴OA3的方向上偏转。该束偏转是由第三磁扇区411C、第四磁扇区411D和第五磁扇区411E提供的。在图3中的实施例中,相对于第二光轴OA2和相对于第三光轴OA3的偏转是通过使粒子束偏转90°角而提供的。因此,第三光轴OA3相对于第一光轴OA1同轴地延伸。然而,提及以下事实:此处描述的根据本发明的粒子束装置400不局限于90°的偏转角。而是,束偏转设备410可以选择任何适合的偏转角度,例如70°或110°,使得第一光轴OA1不相对于第三光轴OA3同轴地延伸。关于束偏转设备410的更多细节,请参考WO 2002/067286A2。
在粒子束已经被第一磁扇区411A、第二磁扇区411B和第三磁扇区411C偏转之后,该粒子束沿着第二光轴OA2被引导。该粒子束被引导至静电反射镜414并且在其到静电反射镜414的路径上沿着第四静电透镜415、呈磁偏转单元形式的第三多极单元416A、第二静电束偏转单元416、第三静电束偏转单元417、和呈磁偏转单元形式的第四多极单元416B行进。静电反射镜414包括第一反射镜电极413A、第二反射镜电极413B和第三反射镜电极413C。在静电反射镜414处反射回的粒子束的电子再次沿第二光轴OA2行进并且重新进入束偏转设备410。然后,这些电子被第三磁扇区411C、第四磁扇区411D和第五磁扇区411E偏转到第三光轴OA3。
粒子束的电子从束偏转设备410出射,并且所述电子沿第三光轴OA3被引导至旨在被检查的并布置在物体固持器114中的物体425。在到物体425的路径上,粒子束被引导至第五静电透镜418、束引导管420、第五多极单元418A、第六多极单元418B和物镜421。第五静电透镜418是静电浸没透镜。通过第五静电透镜418,粒子束被减速或加速到束引导管420的电势。
通过物镜421,粒子束被聚焦到物体425所布置在的焦平面内。物体固持器114被布置在可移动样本载台424处。可移动样本载台424被布置在粒子束装置400的真空室426(在下文被称为样本室426)中。样本载台424被实施为在相互垂直布置的三个方向上可移动,具体是x方向(第一载台轴线)、y方向(第二载台轴线)和z方向(第三载台轴线)。此外,样本载台424可以绕彼此垂直布置的两条旋转轴线旋转(载台旋转轴线)。
样本室426处于真空。为了产生真空,在样本室426处布置有泵***130。泵***130将在下文更详细地讨论。在图3所示的实施例中,样本室426在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。第一压力范围仅包括小于或等于10-3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。为了确保所述压力范围,样本室426是真空密封的。样本室426包括门129,该门能够进入打开位置和关闭位置。样本室426在门129的关闭位置被真空密封。相比之下,当门129处于打开位置时,样本室426的内部是可接近的。
物镜421可以被实施为磁透镜422与第六静电透镜423的组合。束引导管420的端部进一步可以是静电透镜的电极。在从束引导管420出射之后,粒子束装置的粒子被减速到物体425的电势。物镜421并不限于磁透镜422与第六静电透镜423的组合。而是,物镜421可以采取任何合适的形式。举例来说,物镜421也可以被实施为纯磁透镜或纯静电透镜。
聚焦到物体425上的粒子束与物体425相互作用。生成了相互作用粒子。具体地,从物体425发射二次电子,或者在物体425处反向散射反向散射电子。二次电子或反向散射电子再次被加速并且沿第三光轴OA3被引导到束引导管420中。具体地,二次电子和反向散射电子的轨迹在粒子束的束路径的路线上在与粒子束相反的方向上延伸。
粒子束装置400包括第一分析检测器419,该第一分析检测器沿束路径被布置在束偏转设备410与物镜421之间。在相对于第三光轴OA3定向成大角度的方向上行进的二次电子由第一分析检测器419检测。在第一分析检测器419的定位处相对于第三光轴OA3具有小轴向距离的反向散射电子和二次电子,即在第一分析检测器419的定位处距第三光轴OA3具有小距离的反向散射电子和二次电子,进入束偏转设备410并且沿检测束路径427被第五磁扇区411E、第六磁扇区411F和第七磁扇区411G偏转到第二分析检测器428。举例来说,偏转角度为90°或110°。
第一分析检测器419生成主要由发射的二次电子生成的检测信号。由第一分析检测器419生成的检测信号被引导至控制单元123,并且被用于获得关于聚焦粒子束与物体425的相互作用区域的特性的信息。具体地,使用扫描设备429使聚焦粒子束在物体425之上扫描。通过由第一分析检测器419生成的检测信号,然后可以生成物体425的被扫描区域的图像并且将该图像显示在显示单元上。显示单元是例如布置在控制单元123处的监视器124。
第二分析检测器428也连接至控制单元123。第二分析检测器428的检测信号被传递给控制单元123并且被用于生成物体425的被扫描区域的图像并且将该图像显示在显示单元上。显示单元是例如布置在控制单元123处的监视器124。
在样本室426处布置了辐射检测器500,该辐射检测器用于检测相互作用辐射,例如x射线辐射和/或阴极发光光线。辐射检测器500连接至控制单元123,该控制单元包括监视器124。控制单元123处理辐射检测器500的检测信号,并且将这些检测信号以图像的形式显示在监视器124上。
控制单元123还具有数据库126,在该数据库中存储数据并且从中读取出数据。进一步,控制单元123包括操作设备128。粒子束装置400的用户可以经由操作设备128操作控制单元123。
粒子束装置400的控制单元123还包括处理器127。包括程序代码的计算机程序产品被加载到处理器127中,该程序代码在被执行时执行用于操作粒子束装置400的方法。下文更详细地解释这点。
下文参考按照图1的SEM 100更详细地描述本发明。关于组合装置200和关于粒子束装置400,细节上作必要的修改同样适用。
图4示出了按照图1的SEM 100的略微简化的图示。因此,首先参考上文的说明。相同的部件设有相同的附图标记。呈样本室120形式的真空室包括主室602和与主室602邻接的辅助真空室603。辅助真空室603与束发生器真空室600邻接,并且因此,辅助真空室603布置在束发生器真空室600与主室602之间。电子源101布置在束发生器真空室600中。分离阀601布置在束发生器真空室600与辅助真空室603之间。分离阀601控制第三供给管线619中的第三流动连接,其中,第三供给管线619将束发生器真空室600连接至辅助真空室603。分离阀601的功能将在下文更详细地讨论。
如上所述,泵***130布置在SEM 100的样本室120处。泵***130包括第一真空泵604,该第一真空泵例如在图4所展示的实施例中被实施为涡轮分子泵。第一真空泵604经由第一供给管线606连接至样本室120。举例来说,第一真空泵604经由第一供给管线606连接至样本室120的主室602。第一真空泵604的进气阀605布置在第一真空泵604的进气口上。另外或作为其替代方案,提供了将第一真空泵604的进气阀605流动连接至第一真空泵604的进气口。举例来说,进气阀605布置在第一供给管线606中。举例来说,第一真空泵604的进气口是开口,来自样本室120、具体地样本室120的主室602的空气通过该开口通过第一供给管线606被吸入第一真空泵604中。通过关闭第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间中断。相比之下,通过打开第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间建立。
第一真空泵604还设有出气口。举例来说,第一真空泵604的出气口是开口,第一真空泵604吸入的空气通过该开口逸出。第一真空泵604的出气口经由第二供给管线608流动连接至第二真空泵609的进气口。第一真空泵604的出气阀607布置在第一真空泵604的出气口上。另外或作为其替代方案,提供了将第一真空泵604的出气阀607流动连接至第一真空泵604的出气口。举例来说,出气阀607布置在第二供给管线608中。通过关闭第一真空泵604的出气阀607,第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间中断。相比之下,通过打开第一真空泵604的出气阀607,第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间建立。
举例来说,第二真空泵609是可商购获得的预真空泵,并且具有进口,该进口经由第四供给管线610流动连接至样本室120。举例来说,第四供给管线610可以邻接第一供给管线606。举例来说,第二真空泵609的进口是开口,来自样本室120的空气通过该开口通过第四供给管线610被吸入第二真空泵609中。举例来说,进口是第二真空泵609的前述进气口。作为其替代方案,第二真空泵609的进口和进气口是不同进口,空气通过这些不同进口进入第二真空泵609。这在图4中进行了展示。
第二真空泵609分配有进气阀611,该进气阀布置在第四供给管线610上。通过关闭第二真空泵609的进气阀611,第四供给管线610中的第四流动连接在第二真空泵609的进口与样本室120之间中断。相比之下,通过打开第二真空泵609的进气阀611,第四供给管线610中的第四流动连接在第二真空泵609的进口与样本室120之间建立。
样本室120设有通气设备613。举例来说,通气设备613布置在样本室120处。举例来说,通气设备613是通气阀。打开通气设备613导致通气气体流入样本室120中。举例来说,空气被用作通气气体。另外或作为其替代方案,与空气不同的气体被用作通气气体,例如稀有气体,具体地氦气。
SEM 100包括呈第三真空泵612形式的另外的真空泵。举例来说,第三真空泵612被实施为离子吸气泵。在SEM 100的此实施例中,束发生器真空室600流动连接至第三真空泵612。因此,束发生器真空室600可以通过第三真空泵612被抽空以产生真空。举例来说,在束发生器真空室600中存在超高真空(10-7hPa至10-12hPa)。
图5示出了根据本发明的方法的实施例,该实施例由按照图4的SEM100执行,并且其中在样本室120中应该存在来自前述压力范围之一的压力。在图5所展示的根据本发明的方法的实施例中,假设初始状态,在该初始状态下第三真空泵612处于泵送操作中并且对束发生器真空室600进行抽空。进一步,第一真空泵604也处于泵送操作中并且对样本室120进行抽空。另外地,第二真空泵609也在泵送操作中操作。进一步,关闭第二真空泵609的进气阀611。此外,打开第一真空泵604的进气阀605和出气阀607。
在方法步骤S1中,关闭分离阀601,使得第三供给管线619中的第三流动连接在样本室120的辅助真空室603与束发生器真空室600之间中断。另外地,在另外的方法步骤S2中,关闭第一真空泵604的进气阀605,其方式使得第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间中断。此外,在另外的方法步骤S3中,关闭第一真空泵604的出气阀607,其方式使得第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间中断。替代性地,可以首先执行方法步骤S3,并且可以在前者之后执行方法步骤S2。
在按照图5的根据本发明的方法中,现在提供了在泵送操作中操作的第一真空泵604(方法步骤S4)。因此,第一真空泵604继续将空气从第一真空泵604的进气口泵送到第一真空泵604的出气口。因此,第一真空泵604未停用或切换到待机模式,其方式使得没有空气从第一真空泵604的进气口泵送到第一真空泵604的出气口。因此,与现有技术相比,第一真空泵604未停用,而是在泵送操作中被有意地操作。
在方法步骤S5中,通过打开通气设备613来对样本室120进行通气,其方式使得通气气体流入样本室120。如上所述,空气例如用作通气气体。另外或作为其替代方案,与空气不同的气体被用作通气气体,例如稀有气体,具体地氦气。
在对样本室120进行通气之后,最初在方法步骤S6中打开样本室120,并且随后进行物体125的更换和/或物体125在样本载台122的物体固持器114上的安装。另外或作为其替代方案,提供了安装、移除和/或维修例如呈成像设备(具体地室检测器119)形式和/或呈处理设备(例如,切割设备——未展示)形式的部件。再次明确地参考以下事实:本发明不限于成像设备和处理设备的前述实施例。相反,适合于本发明的任何成像设备都可以被用作成像设备和/或适合于本发明的任何处理设备都可以被用作处理设备。
现在,在方法步骤S7中打开第二真空泵609的进气阀611,其方式使得第四供给管线610中的第四流动连接在第二真空泵609的进口与样本室120之间建立。举例来说,最初在样本室120中产生10-1hPa量级的初步真空。在图5所展示的根据本发明的方法的实施例中,然后在方法步骤S8中提供了关闭第二真空泵609的进气阀611。方法步骤S8在方法步骤S9之前、期间或之后实施。在方法步骤S9中,首先打开出气阀607,并且之后打开第一真空泵604的进气阀605。作为其替代方案,提供了首先打开第一真空泵604的进气阀605,并且之后打开出气阀607。明确地参考以下事实:方法步骤S8是可选的方法步骤。在根据本发明的方法的其他实施例中可以省略该方法步骤。
通过打开第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间建立。进一步,通过打开第一真空泵604的出气阀607,第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间建立。随后,在方法步骤S10中,使用第一真空泵604对样本室120进行抽空,直到在样本室120中获得了期望的压力——以及因此期望的真空。举例来说,样本室120在第一压力范围内或在第二压力范围内操作。如上所述,第一压力范围仅包括小于或等于10-3hPa的压力,并且第二压力范围仅包括大于10-3hPa的压力。
图6示出了根据本发明的方法的进一步实施例。按照图6的根据本发明的方法的另外的实施例基于按照图5的根据本发明的方法的实施例。因此,参考上文的说明。与按照图5的根据本发明的方法的实施例相比,按照图6的根据本发明的方法的实施例包括附加方法步骤。因此,方法步骤S4A在方法步骤S4之后。在方法步骤S4A中,提供了在对样本室120进行通气(方法步骤S5)之前和/或期间将第二真空泵609切换到待机模式。换句话说,第二真空泵609不在泵送操作中操作。举例来说,第二真空泵609被完全停用或部分地停用,其方式使得第二真空泵609不再吸入空气。进一步,在方法步骤S6之后执行方法步骤S6A。在方法步骤S6A中,提供了将第二真空泵609切换到泵送操作。在这之后执行方法步骤S7。
图7以稍微简化的图示示出了按照图1的SEM 100的另外的实施例。图7的实施例基于图4的实施例。因此,首先参考上文的说明。相同的部件设有相同的附图标记。与图4的实施例相比,图7的实施例中束发生器真空室600包括第一部分600A和第二部分600B,第一部分和第二部分由光阑616彼此分开。电子源101布置在束发生器真空室600的第一部分600A中。
第三真空泵612流动连接至束发生器真空室600的第一部分600A。因此,束发生器真空室600的第一部分600A通过第三真空泵612被抽空以产生真空。举例来说,在束发生器真空室600的第一部分600A中存在超高真空(10-7hPa至10-12hPa)。
束发生器真空室600的第二部分600B流动连接至例如呈离子吸气泵形式的另外的第三真空泵612A。因此,束发生器真空室600的第二部分600B通过另外的第三真空泵612A被抽空以产生真空。举例来说,在束发生器真空室600的第二部分600B中存在超高真空(10- 7hPa至10-12hPa)。
在还按照图7的实施例中,第一真空泵604经由第一供给管线606连接至样本室120。举例来说,第一真空泵604经由第一供给管线606连接至样本室120的主室602。第一真空泵604的进气阀605流动连接至第一真空泵604的进气口。举例来说,进气阀605布置在第一供给管线606中。通过关闭第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间中断。相比之下,通过打开第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间建立。
与图4的实施例相比,图7的实施例包括另外的进气阀614,该另外的进气阀分配给第一真空泵604。另外的进气阀614经由第五供给管线615流动连接至第一真空泵604的进气口。第五供给管线615将第一真空泵604的进气口连接至样本室120的辅助真空室603。举例来说,另外的进气阀614布置在第五供给管线615中。通过关闭另外的进气阀614来中断第五供给管线615中的第五流动连接。相比之下,通过打开另外的进气阀614,第五供给管线615中的第五流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120的辅助真空室603之间建立。
进一步,与按照图4的实施例相比,将样本室120的主室602连接至第二真空泵609的第三供给管线610布置在按照图7的实施例中与第二供给管线608相同的进气口处,第二供给管线将第一真空泵604的出气口连接至第二真空泵609的进气口。
此外,与按照图4的实施例相比,在按照图7的实施例中,计量阀617布置在样本室120处,所述计量阀在下文更详细地讨论。
图8示出了根据本发明的方法的另外的实施例,该方法由按照图7的SEM 100执行。按照图8的根据本发明的方法的另外的实施例具体地用于在前述第一压力范围内操作样本室120,并且基于按照图5的根据本发明的方法的实施例。因此,参考上文的说明。在图8所展示的根据本发明的方法的实施例中,假设初始状态,在该初始状态下第三真空泵612和另外的第三真空泵612A两者均处于泵送操作中。第三真空泵612对束发生器真空室600的第一部分600A进行抽空。进一步,另外的第三真空泵612A对束发生器真空室600的第二部分600B进行抽空。进一步,关闭第二真空泵609的进气阀611。此外,打开第一真空泵604的进气阀605和出气阀607。还打开分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。进一步,第一真空泵604也处于泵送操作中并且对样本室120进行抽空。另外地,第二真空泵609也在泵送操作中操作。关闭计量阀617。
与按照图5的根据本发明的方法的实施例相比,按照图8的根据本发明的方法包括下文阐述的方法步骤。在方法步骤S3之后,在方法步骤S3A中,关闭分配给第一真空泵604的另外的进气阀614,其方式使得第五供给管线615中的第五流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120的辅助真空室603之间中断。在这之后执行按照图5的方法步骤S4。此外,在按照图8的根据本发明的方法的实施例中提供了在方法步骤S8之后执行方法步骤S9A,而不是方法步骤S9。在方法步骤S9A中,首先打开第一真空泵604的出气阀607,然后打开第一真空泵604的进气阀605,并且然后打开分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。在另外的实施例中,提供了首先打开第一真空泵604的进气阀605,然后打开第一真空泵604的出气阀607,并且然后打开另外的进气阀615。通过打开第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120之间建立。进一步,通过打开第一真空泵604的出气阀607,第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间建立。通过打开分配给第一真空泵604的另外的进气阀614,第五供给管线615中的第五流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120的辅助真空室603之间建立。在已经执行方法步骤S9A之后执行按照图5的方法步骤S10。
根据本发明的方法的另外的实施例在图6中展示,并且现在基于按照图8的实施例。因此,执行按照图5和图8的方法的方法步骤。因此,参考上文的说明。与按照图8的根据本发明的方法的实施例相比,按照图6的根据本发明的方法包括附加方法步骤,这些附加方法步骤已执行并且在上文已经进行了进一步说明。参考这些说明。
图9示出了根据本发明的方法的另外的实施例,该方法由按照图7的SEM 100执行。按照图9的根据本发明的方法的另外的实施例具体地用于在前述第二压力范围内操作样本室120,并且基于按照图5的根据本发明的方法的实施例。因此,参考上文的说明。在图9所展示的根据本发明的方法的实施例中,假设初始状态,在该初始状态下第三真空泵612和另外的第三真空泵612A两者均处于泵送操作中。第三真空泵612对束发生器真空室600的第一部分600A进行抽空。进一步,另外的第三真空泵612A对束发生器真空室600的第二部分600B进行抽空。进一步,打开第二真空泵609的进气阀611。此外,打开第一真空泵604的出气阀607。还打开分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。相比之下,关闭第一真空泵604的进气阀605。进一步,第一真空泵604处于泵送操作中并且对样本室120进行抽空。另外地,第二真空泵609也在泵送操作中操作。如上所述,按照图7的SEM 100包括布置在样本室120处的计量阀617。所述计量阀在初始状态下打开。气体,例如空气或稀有气体,具体地氦气,通过计量阀617进入样本室120。以此方式,设置要获得的第二压力范围内的压力。
与按照图5的根据本发明的方法的实施例相比,按照图9的根据本发明的方法包括下文阐述的方法步骤。在按照图5的方法步骤S1之后,在按照图9的方法步骤S1A中关闭第二真空泵609的进气阀611,使得第四供给管线610中的第四流动连接在第二真空泵609的进气口与样本室120的主室602之间中断。进一步,在方法步骤S2A中,关闭分配给第一真空泵604的另外的进气阀614,使得第五供给管线615中的第五流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120的辅助真空室603之间中断。此外,关闭第一真空泵604的出气阀607,其方式使得第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间中断。进一步,在方法步骤S4A中关闭计量阀617。随后,执行按照图5的方法步骤S4。
与按照图5的根据本发明的方法的实施例相比,在方法步骤S6之后在方法步骤S6B中提供打开计量阀617。气体,例如空气或稀有气体,具体地氦气,现在再一次通过计量阀617进入样本室120。在另外的实施例中,方法步骤S6B在方法步骤S7之前、期间或之后执行。
进一步,与按照图5的根据本发明的方法的实施例相比,在按照图9的根据本发明的方法的实施例中,在方法步骤S7A中打开第一真空泵604的出气阀607。在方法步骤S7之后执行所述方法步骤。因此,第二供给管线608中的第二流动连接在第一真空泵604的出气口与第二真空泵609的进气口之间建立。此外,在方法步骤S7B中打开分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。因此,第五供给管线615中的第五流动连接在第一真空泵604的进气口与样本室120的辅助真空室603之间建立。在这之后执行方法步骤S10。
图10以稍微简化的图示示出了按照图1的SEM 100的另外的实施例。进一步,图10的实施例基于图4的实施例。因此,首先参考上文的说明。相同的部件设有相同的附图标记。
在还按照图10的实施例中,第一真空泵604经由第一供给管线606连接至样本室120。举例来说,第一真空泵604的第一进气口经由第一供给管线606连接至样本室120的主室602。第一真空泵604的进气阀605流动连接至第一真空泵604的第一进气口。举例来说,进气阀605布置在第一供给管线606中。通过关闭第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的第一进气口与样本室120之间中断。相比之下,通过打开第一真空泵604的进气阀605,第一供给管线606中的第一流动连接在第一真空泵604的第一进气口与样本室120之间建立。
与图4的实施例相比,图10的实施例包括例如邻接第一供给管线606的第六供给管线618。第六供给管线618将样本室120的辅助真空室603的第一部分603A连接至第一真空泵604的第一进气口。分配给第一真空泵604的另外的进气阀614布置在第六供给管线618上。如果关闭另外的进气阀614,则第六流动连接在辅助真空室603的第一部分603A与第一真空泵604的第一进气口之间中断。相比之下,如果打开另外的进气阀614,则第六流动连接在辅助真空室603的第一部分603A与第一真空泵604的第一进气口之间的第六供给管线618中建立。除了第六供给管线618之外,按照图10的实施例提供了另外的进气阀614还布置在第五供给管线615上。第五供给管线615将第一真空泵604的第二进气口连接至样本室120的辅助真空室603的第二部分603B。如果关闭另外的进气阀614,则第五供给管线615中的第五流动连接在辅助真空室603的第二部分603B与第一真空泵604的第二进气口之间中断。相比之下,如果打开另外的进气阀614,则第五流动连接在辅助真空室603的第二部分603B与第一真空泵604的第二进气口之间的第五供给管线615中建立。
进一步,与按照图4的实施例相比,将样本室120的主室602连接至第二真空泵609的第三供给管线610布置在按照图10的实施例中与第二供给管线608相同的进气口处,第二供给管线将第一真空泵604的出气口连接至第二真空泵609的进气口。
此外,与按照图4的实施例相比,在按照图10的实施例中,计量阀617布置在样本室120处,所述计量阀在下文更详细地讨论。
例如使用按照图8的方法来操作按照图10的SEM 100,其中样本室120在前述第一压力范围内操作。在此,假设以下初始状态,在该初始状态下第三真空泵612处于泵送操作中。第三真空泵612对束发生器真空室600进行抽空。进一步,关闭第二真空泵609的进气阀611。此外,打开第一真空泵604的出气阀607、第一真空泵604的进气阀605以及分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。进一步,第一真空泵604处于泵送操作中并且对样本室120进行抽空。另外地,第二真空泵609也在泵送操作中操作。如上所述,按照图10的SEM 100包括布置在样本室120处的计量阀617。所述计量阀在当前可应用的初始状态下关闭,以便在第一压力范围内获得期望的压力。
从上文描述的初始状态开始,现在使用按照图8的根据本发明的方法的实施例来操作按照图10的SEM 100。因此,最初参考关于图8的前述说明。当执行按照图8的根据本发明的方法时并且与上文给出的说明相比,当在方法步骤S3A中关闭分配给第一真空泵604的另外的进气阀614时,除了第五流动连接之外,第六供给管线618中的第六流动连接也在第一真空泵604的第一进气口与样本室120的辅助真空室603的第一部分603A之间中断。进一步,当在方法步骤S9A中打开另外的进气阀614时,除了第五流动连接之外,第六供给管线618中的第六流动连接也在第一真空泵604的第一进气口与样本室120的辅助真空室603的第一部分603A之间建立。
从上文描述的初始状态开始,现在可以使用按照图6的根据本发明的方法的实施例来操作按照图10的SEM 100,其中,按照图6的根据本发明的方法基于按照图8的实施例。因此,参考上文的说明。因此,首先执行按照图8的实施例的方法步骤。与按照图8的根据本发明的方法的实施例相比,按照图6的根据本发明的方法包括另外的方法步骤,这些另外的步骤在上文已经进行了进一步说明。参考这些说明。
例如使用按照图9的方法也可以操作按照图10的SEM 100,其中样本室120在前述第二压力范围内操作。在此,假设以下初始状态,在该初始状态下第三真空泵612处于泵送操作中。第三真空泵612对束发生器真空室600进行抽空。进一步,关闭第一真空泵604的进气阀605。此外,打开第二真空泵609的进气阀611、第一真空泵604的出气阀607以及分配给第一真空泵604的另外的进气阀614。进一步,第一真空泵604处于泵送操作中并且对样本室120进行抽空。另外地,第二真空泵609也在泵送操作中操作。如上所述,按照图10的SEM 100包括布置在样本室120处的计量阀617。所述计量阀在当前可应用的初始状态下打开,以便在第二压力范围内获得期望的压力。
从上文描述的初始状态开始,现在使用按照图9的根据本发明的方法的实施例来操作按照图10的SEM 100。因此,最初参考关于图9的前述说明。当执行按照图9的根据本发明的方法时并且现在与上文给出的说明相比,当在方法步骤S2A中关闭分配给第一真空泵604的另外的进气阀614时,除了第五流动连接之外,第六供给管线618中的第六流动连接也在第一真空泵604的第一进气口与样本室120的辅助真空室603的第一部分603A之间中断。进一步,当在方法步骤S7B中打开另外的进气阀614时,除了第五流动连接之外,第六供给管线618中的第六流动连接也在第一真空泵604的第一进气口与样本室120的辅助真空室603的第一部分603A之间建立。
从上文描述的初始状态开始,现在可以使用按照图6的根据本发明的方法的实施例来操作按照图10的SEM 100,其中,按照图6的根据本发明的方法基于按照图9的实施例。因此,参考上文的说明。因此,首先执行图9的实施例的方法步骤。关于按照图10的SEM 100,与按照图9的根据本发明的方法的实施例相比,按照图6的根据本发明的方法包括另外的方法步骤,这些另外的方法步骤在上文已经进行了进一步说明。参考这些说明。
与现有技术相比,本发明的优点在于,在对样本室120进行通气之后,随后的抽空以及因此从样本室120中泵出到期望的真空的时间显著缩短。举例来说,直到获得期望的压力——并且因此期望的真空——(例如,在10-5hPa的范围内)的抽空过程花费的时间少于一分钟。因此,在物体125已被改变之后,可以快速恢复通过SEM 100对物体125进行成像、分析和/或处理。在组装、移除和/或维修布置在样本室120中和/或样本室上的部件(例如成像设备和/或处理设备)之后,对应的声明适用。
在本说明书、附图和权利要求中披露的本发明的特征对于在本发明的各个实施例中实现本发明而言可能是必不可少的,无论是单独地还是以任意的组合。本发明不限于所描述的实施例。在权利要求的范围内并且考虑到本领域相关技术人员的知识,可以对其进行改变。
*******
附图标记清单
100 SEM
101 电子源
102 引出电极
103 阳极
104 束引导管
105 第一聚束透镜
106 第二聚束透镜
107 第一物镜
108 第一光阑单元
108A 第一光圈
109 第二光阑单元
110 极靴
111 线圈
112 单独的电极
113 管状电极
114 物体固持器
115 扫描设备
116 第一检测器
116A 相反场光栅
117 第二检测器
118 第二光圈
119 室检测器
120 呈样本室形式的真空室
121 第三检测器
122 样本载台
123 控制单元
124 监视器
125 物体
126 数据库
127 处理器
128 操作设备
129 样本室的门
130 泵***
200 组合装置
201 呈样本室形式的真空室
300 离子束装置
301 离子束发生器
302 离子束装置中的引出电极
303 聚束透镜
304 第二物镜
306 可调整或可选择光阑
307 第一电极布置
308 第二电极布置
400 具有校正器单元的粒子束装置
401 粒子束柱
402 电子源
403 引出电极
404 阳极
405 第一静电透镜
406 第二静电透镜
407 第三静电透镜
408 磁偏转单元
409 第一静电束偏转单元
409A 第一多极单元
409B 第二多极单元
410 束偏转设备
411A 第一磁扇区
411B 第二磁扇区
411C 第三磁扇区
411D 第四磁扇区
411E 第五磁扇区
411F 第六磁扇区
411G 第七磁扇区
413A 第一反射镜电极
413B 第二反射镜电极
413C 第三反射镜电极
414 静电反射镜
415 第四静电透镜
416 第二静电束偏转单元
416A 第三多极单元
416B 第四多极单元
417 第三静电束偏转单元
418 第五静电透镜
418A 第五多极单元
418B 第六多极单元
419 第一分析检测器
420 束引导管
421 物镜
422 磁透镜
423 第六静电透镜
424 样本载台
425 物体
426 呈样本室形式的真空室
427 检测束路径
428 第二分析检测器
429 扫描设备
432 磁偏转元件
500 辐射检测器
600 束发生器真空室
600A 束发生器真空室的第一部分
600B 束发生器真空室的第二部分
601 分离阀
602 主室
603 样本室的辅助真空室
603A 辅助真空室的第一部分
603B 辅助真空室的第二部分
604 第一真空泵
605 第一真空泵的进气阀
606 第一供给管线
607 第一真空泵的出气阀
608 第二供给管线
609 第二真空泵
610 第四供给管线
611 第二真空泵的进气阀
612 第三真空泵
612A 另外的第三真空泵
613 通气设备
614 分配给第一真空泵的另外的进气阀
615 第五供给管线
616 光阑
617 计量阀
618 第六供给管线
619 第三供给管线
709 第一束轴线
710 第二束轴线
OA 光轴
OA1 第一光轴
OA2 第二光轴
OA3 第三光轴
S1至S10 方法步骤
S1A至S4A 方法步骤
S3B 方法步骤
S6A、S6B 方法步骤
S7A、S7B 方法步骤
S9A 方法步骤
*******
Claims (25)
1.一种用于对粒子束装置(100,200,400)的真空室(120,201,426)进行通气和抽空的方法,所述真空室流动连接至另外的真空室(600,600A,600B),粒子束发生器(101,301,402)布置在该另外的真空室(600,600A,600B)中,其中,该方法包括以下步骤:
-关闭第一真空泵(604)的至少一个进气阀(605),其方式使得第一供给管线(606)中的第一流动连接在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120)之间中断;
-关闭该第一真空泵(604)的至少一个出气阀(607),其方式使得第二供给管线(608)中的第二流动连接在该第一真空泵(604)的出气口与第二真空泵(609)的进气口之间中断;
-在泵送操作中操作该第一真空泵(604);
-关闭布置在该真空室(120,201,426)与该另外的真空室(600,600A,600B)之间的分离阀(601),其方式使得第三供给管线(619)中的第三流动连接在该真空室(120,201,426)与该另外的真空室(600,600A,600B)之间中断,其中,该真空室(120,201,426)中存在第一真空,并且其中,该另外的真空室(600,600A,600B)中存在第二真空;
-通过打开流动连接至该真空室(120,201,426)的至少一个通气设备(613)来对该真空室(120,201,426)进行通气,其方式使得至少一种通气气体流入该真空室(120,201,426);
-打开该第二真空泵(609)的至少一个进气阀(611),其方式使得第四供给管线(610)中的第四流动连接在该第二真空泵(609)的进口与该真空室(120,201,426)之间建立;
-使用该第二真空泵(609)对该真空室(120,201,426)进行抽空;
-打开该第一真空泵(604)的出气阀(607),其方式使得该第二供给管线(608)中的第二流动连接在该第一真空泵(604)的出气口与该第二真空泵(609)的进气口之间建立;
-打开该第一真空泵(604)的进气阀(605),其方式使得该第一供给管线(606)中的第一流动连接在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120,201,426)之间建立;以及
-使用该第一真空泵(604)对该真空室(120,201,426)进行抽空。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,在打开该通气设备(613)之前,关闭该分离阀(601)。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,该方法包括以下步骤之一:
(i)首先关闭该第一真空泵(604)的进气阀(605),并且之后关闭该第一真空泵(604)的出气阀(607);
(ii)首先关闭该第一真空泵(604)的出气阀(607),并且之后关闭该第一真空泵(604)的进气阀(605)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,该方法包括以下步骤之一:
(i)首先打开该第一真空泵(604)的进气阀(605),并且之后打开该第一真空泵(604)的出气阀(607);
(ii)首先打开该第一真空泵(604)的出气阀(607),并且之后打开该第一真空泵(604)的进气阀(605)。
5.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
-在对该真空室(120,201,426)进行通气之前和/或在对该真空室进行通气期间,将该第二真空泵(609)切换到待机模式;并且其中,
-在对该真空室(120,201,426)进行通气之后和/或在对该真空室进行通气期间,将该第二真空泵(609)切换到泵送操作。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在打开该第一真空泵(604)的进气阀(605)之前、期间或之后和/或在打开该第一真空泵(604)的出气阀(607)之前、期间或之后,关闭该第二真空泵(609)的进气阀(611),其方式使得该第四供给管线(610)中的第四流动连接在该第二真空泵(609)的进口与该真空室(120,201,426)之间中断。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,首先关闭该第二真空泵(609)的进气阀(611),之后打开该第一真空泵(604)的出气阀(607),并且之后打开该第一真空泵(604)的进气阀(605)。
8.根据前述权利要求中任一项所述的方法,包括以下步骤中的至少一个:
(i)在对该真空室(120,201,426)进行通气之后,将物体(125,425)布置在该真空室(120,201,426)中和/或从该真空室(120,201,426)中移除;
(ii)对准、组装和/或移除布置在该真空室(120,201,426)中的该粒子束装置(100,200,400)的部件(114,122,119,500)。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在关闭该第一真空泵(604)的进气阀(605)之前、期间或之后和/或在关闭该第一真空泵(604)的出气阀(607)之前、期间或之后,关闭该第一真空泵(604)的另外的进气阀(614),其方式使得第五供给管线(61 5)中的第五流动连接在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120,201,426)之间中断。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,关闭该第一真空泵(604)的另外的进气阀(614),其方式使得第六供给管线(618)中的第六流动连接在该第一真空泵(604)的进口与该真空室(120,201,426)之间中断。
11.根据权利要求10所述的方法,其中,在使用该第一真空泵(604)对该真空室(120,201,426)进行抽空期间或对该真空室进行抽空之后,打开该第一真空泵(604)的另外的进气阀(614),其方式使得该第六供给管线(618)的第六流动连接在该第一真空泵(604)的进口与该真空室(120,201,426)之间建立。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的方法,其中,在使用该第一真空泵(604)对该真空室(120,201,426)进行抽空期间或对该真空室进行抽空之后,打开该第一真空泵(604)的另外的进气阀(614),其方式使得该第五供给管线(615)的第五流动连接在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120,201,426)之间建立。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,
-在关闭该第一真空泵(604)的进气阀(605)之前、期间或之后和/或在关闭该第一真空泵(604)的出气阀(607)之前、期间或之后,关闭分配给该真空室(120,201,426)的计量阀(617),其方式使得没有气体通过该计量阀(617)进入该真空室(120,201,426);并且其中,
-为了建立该第四流动连接,在打开该第二真空泵(609)的进气阀(611)之前、期间或之后,打开该计量阀(617),其方式使得气体通过该计量阀(617)进入该真空室(120,201,426)。
14.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,至少一个第三真空泵(612,612A)布置在该另外的真空室(600,600A,600B)处,所述第三真空泵用于对该另外的真空室(600,600A,600B)进行抽空以建立该第二真空。
15.根据权利要求14所述的方法,其中,离子吸气泵被用作第三真空泵(612,612A)。
16.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,该方法还包括以下步骤中的至少一个:
(i)样本室被用作真空室(120,201,426);
(ii)涡轮分子泵被用作第一真空泵(604);
(iii)预真空泵被用作第二真空泵(609);
(iv)该第二真空泵(609)的进气口被用作该第二真空泵(609)的进口。
17.一种包括程序代码的计算机程序产品,该程序代码能够被加载到粒子束装置(100,200,400)的处理器(127)中并且在被执行时控制该粒子束装置(100,200,400),其方式使得根据前述权利要求中任一项所述的方法被执行。
18.一种粒子束装置(100,200,400),包括
-至少一个束发生器(101,301,402),该至少一个束发生器用于生成包括带电粒子的粒子束;
-至少一个物镜(107,304,421),该至少一个物镜用于将该粒子束聚焦到物体(125,425)上;
-至少一个真空室(120,201,426),该至少一个真空室用于接纳该物体(125,425);
-至少一个另外的真空室(600,600A,600B),在该至少一个另外的真空室中布置该束发生器(101,301,402);
-至少一个第一真空泵(604),该至少一个第一真空泵经由第一供给管线(606)连接至该真空室(120,201,426),其中,该第一真空泵(604)具有至少一个进气口和至少一个出气口;
-至少一个第二真空泵(609),该至少一个第二真空泵经由第二供给管线(608)连接至该第一真空泵(604),并且经由第四供给管线(610)连接至该真空室(120,201,426),其中,该第二真空泵(609)具有至少一个进气口;
-至少一个分离阀(601),该至少一个分离阀布置在第三供给管线(619)上,用于在该真空室(120,201,426)与该另外的真空室(600,600A,600B)之间建立或中断该第三供给管线(619)中的第三流动连接,其中,该另外的真空室(600,600A,600B)经由该第三供给管线(619)连接至该真空室(120,201,426),其中,在该真空室(120,201,426)中存在第一真空,并且其中,在该另外的真空室(600,600A,600B)中存在第二真空;
-至少一个通气设备(613),该至少一个通气设备流动连接至该真空室(120,201,426)用于将通气气体引入该真空室(120,201,426);
-该第一真空泵(604)的至少一个进气阀(605),该至少一个进气阀布置在该第一供给管线(606)上用于在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120,201,426)之间建立或中断该第一供给管线(606)中的第一流动连接;
-该第一真空泵(604)的至少一个出气阀(607),该至少一个出气阀布置在该第二供给管线(608)上用于在该第一真空泵(604)的出气口与该第二真空泵(609)的进气口之间建立或中断该第二供给管线(608)中的第二流动连接;
-该第二真空泵(609)的至少一个进气阀(611),该至少一个进气阀布置在该第四供给管线(610)上用于在该第二真空泵(609)的进气口与该真空室(120,201,426)之间建立或中断该第四供给管线(610)中的第四流动连接;并且包括
-至少一个控制单元(123),该至少一个控制单元包括其中加载有根据权利要求17所述的计算机程序产品的处理器(127)。
19.根据权利要求18所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该粒子束装置(100,200,400)进一步包括:
(i)第五供给管线(615),该第五供给管线布置在该真空室(120,201,426)与该第一真空泵(604)之间;以及
(ii)至少一个另外的进气阀(614),该至少一个另外的进气阀布置在该第五供给管线(615)上并且分配给该第一真空泵(604)用于在该第一真空泵(604)的进气口与该真空室(120,201,426)之间建立或中断该第五供给管线(615)中的第五流动连接。
20.根据权利要求18或19所述的粒子束装置(100,200,400),其中,第六供给管线(618)布置在该第一真空泵(604)的进口与该真空室(120,201,426)之间。
21.根据权利要求18至20中任一项所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该粒子束装置(100,200,400)进一步包括以下特征中的至少一个:
(i)计量阀(617),该计量阀可操作地连接至该真空室(120,201,426);
(ii)至少一个第三真空泵(612,612A);
(iii)至少一个离子吸气泵(612,612A);
(iv)该第一真空泵(604)被实施为涡轮分子泵;
(v)该第二真空泵(609)被实施为预真空泵。
22.根据权利要求18至21中任一项所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该粒子束装置进一步包括以下特征中的至少一个:
(i)该第一真空泵(604)的进气阀(605)布置在该第一真空泵(604)的进气口处和/或流动连接至该第一真空泵(604)的进气口;
(ii)该第一真空泵(604)的出气阀(607)布置在该第一真空泵(604)的出气口处和/或流动连接至该第一真空泵(604)该出气口;
(iii)该第二真空泵(609)的进气阀(611)布置在该第二真空泵(609)的进口处和/或流动连接至该第二真空泵(609)的进口。
23.根据权利要求18至22中任一项所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该粒子束装置(100,200,400)进一步包括:
(i)至少一个扫描设备(115,307,308,429),该至少一个扫描设备用于使该粒子束在该物体(125,425)之上扫描;
(ii)至少一个检测器(116,117,119,121,419,428,500),该至少一个检测器用于检测由于该粒子束与该物体(125,425)的相互作用产生的相互作用粒子和/或相互作用辐射;以及
(iii)至少一个显示设备(124),该至少一个显示设备用于基于检测到的相互作用粒子和/或检测到的相互作用辐射显示该物体(125,425)的图像和/或分析。
24.根据权利要求18至23中任一项所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该束发生器(101)被实施为第一束发生器并且该粒子束被实施为具有第一带电粒子的第一粒子束,其中,该物镜(107)被实施为用于将该第一粒子束聚焦到该物体(125)上的第一物镜,并且其中,该粒子束装置(100,200,400)还包括:
-至少一个第二束发生器(301),该至少一个第二束发生器用于生成包括第二带电粒子的第二粒子束;以及
-至少一个第二物镜(304),该至少一个第二物镜用于将该第二粒子束聚焦到该物体(125)上。
25.根据权利要求18至24中任一项所述的粒子束装置(100,200,400),其中,该粒子束装置(100,200,400)是电子束装置和/或离子束装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102020111151.7A DE102020111151B4 (de) | 2020-04-23 | 2020-04-23 | Verfahren zum Belüften und Abpumpen einer Vakuumkammer eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens |
DE102020111151.7 | 2020-04-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113555266A true CN113555266A (zh) | 2021-10-26 |
CN113555266B CN113555266B (zh) | 2024-07-02 |
Family
ID=78130101
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110403013.3A Active CN113555266B (zh) | 2020-04-23 | 2021-04-13 | 粒子束装置及其真空室的通气抽空方法、计算机程序产品 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113555266B (zh) |
DE (1) | DE102020111151B4 (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5093578A (en) * | 1990-01-10 | 1992-03-03 | U.S. Philips Corporation | Valve device for a particle beam apparatus |
JP2001148340A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
JP2009004112A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
US20110079711A1 (en) * | 2009-07-15 | 2011-04-07 | Wolfram Buehler | Particle beam microscopy system and method for operating the same |
CN105190824A (zh) * | 2013-05-10 | 2015-12-23 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子线装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5376799A (en) | 1993-04-26 | 1994-12-27 | Rj Lee Group, Inc. | Turbo-pumped scanning electron microscope |
DE10107910A1 (de) | 2001-02-20 | 2002-08-22 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Teilchenstrahlsystem mit einem Spiegelkorrektor |
JP4977399B2 (ja) | 2005-11-10 | 2012-07-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
JP5584819B2 (ja) | 2011-03-04 | 2014-09-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡用ホルダー、電子顕微鏡及び試料観察方法 |
JP5930922B2 (ja) | 2012-09-14 | 2016-06-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
DE102018203096B9 (de) | 2018-03-01 | 2020-02-27 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Betrieb eines Drucksystems für eine Vorrichtung zum Abbilden, Analysieren und/oder Bearbeiten eines Objekts und Vorrichtung zum Ausführen des Verfahrens |
-
2020
- 2020-04-23 DE DE102020111151.7A patent/DE102020111151B4/de active Active
-
2021
- 2021-04-13 CN CN202110403013.3A patent/CN113555266B/zh active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5093578A (en) * | 1990-01-10 | 1992-03-03 | U.S. Philips Corporation | Valve device for a particle beam apparatus |
JP2001148340A (ja) * | 1999-11-19 | 2001-05-29 | Advantest Corp | 荷電粒子ビーム露光方法及び装置 |
JP2009004112A (ja) * | 2007-06-19 | 2009-01-08 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置およびその真空立上げ方法 |
US20110079711A1 (en) * | 2009-07-15 | 2011-04-07 | Wolfram Buehler | Particle beam microscopy system and method for operating the same |
CN105190824A (zh) * | 2013-05-10 | 2015-12-23 | 株式会社日立高新技术 | 带电粒子线装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113555266B (zh) | 2024-07-02 |
DE102020111151B4 (de) | 2023-10-05 |
DE102020111151A1 (de) | 2021-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1936653B1 (en) | Gas field ion source for multiple applications | |
EP2365512A2 (en) | Inspection system by charged particle beam | |
EP2088613A1 (en) | Dual mode gas field ion source | |
JP6389569B2 (ja) | モノクロメーターおよびこれを備えた荷電粒子線装置 | |
US9666404B2 (en) | Charged particle source arrangement for a charged particle beam device, charged particle beam device for sample inspection, and method for providing a primary charged particle beam for sample inspection in a charged particle beam | |
US10049855B2 (en) | Detecting charged particles | |
EP3236486A1 (en) | Method for generating a composite image of an object and particle beam device for carrying out the method | |
CN110223899B (zh) | 装置的压力***的操作方法及执行该方法的装置 | |
CN113555266B (zh) | 粒子束装置及其真空室的通气抽空方法、计算机程序产品 | |
EP3477682B1 (en) | Improved sims secondary ion mass spectrometry technique | |
US10460904B2 (en) | Imaging device for imaging an object and for imaging a structural unit in a particle beam apparatus | |
US7557346B2 (en) | Scanning electron microscope | |
US10665423B2 (en) | Analyzing energy of charged particles | |
US20220384140A1 (en) | Method for operating a particle beam device, computer program product and particle beam device for carrying out the method | |
US11469072B2 (en) | Charged particle beam apparatus, scanning electron microscope, and method of operating a charged particle beam apparatus | |
CN113253333A (zh) | 操作粒子束装置的方法、计算机程序产品和粒子束装置 | |
EP3477683A1 (en) | Improved sims spectrometry technique using fluorine catalysis | |
JPWO2002001596A1 (ja) | 荷電粒子線による検査装置及びその検査装置を用いたデバイス製造方法 | |
CN115346850A (zh) | 具有偏转单元的粒子束装置 | |
CN112750674A (zh) | 粒子辐射设备和光学显微镜以及用于操作其的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant |