CN113414193A - 一种pc膜的剥离方法 - Google Patents
一种pc膜的剥离方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN113414193A CN113414193A CN202110776309.XA CN202110776309A CN113414193A CN 113414193 A CN113414193 A CN 113414193A CN 202110776309 A CN202110776309 A CN 202110776309A CN 113414193 A CN113414193 A CN 113414193A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film
- film layer
- substrate
- product
- sand blasting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 claims abstract description 11
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 claims abstract description 8
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 7
- -1 fluorene compound Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/04—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by a combination of operations
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B7/00—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
- B08B7/0035—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like
- B08B7/0057—Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by radiant energy, e.g. UV, laser, light beam or the like by ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
Abstract
本发明公开了一种PC膜的剥离方法,该种PC膜的剥离方法包括以下步骤:步骤S1:将需要剥离膜层的基底放置在氧气环境下,在190~280nm波长UV光下充分照射,照射时间240h,PC膜层在氧气环境中固定波长的UV光照射一段时间后会发生黄化现象,生成共振态芴雷化合物以及六元环产物,致使膜层粘附力降低变黄变脆;步骤S2:在PC膜层表面发现变黄变脆后,停止照射,静置一段时间;步骤S3:使用二氧化碳喷砂机对基底表面变脆后的PC膜层进行喷砂剥离,PC膜层粉化脱离产品基底。通过上述方式,本发明能够在不伤害产品基底的前提下剥离PC膜层,能够完美剥离膜层,无残留。
Description
技术领域
本发明涉及PC膜剥离技术领域,特别是涉及一种PC膜的剥离方法。
背景技术
在日常防水绝缘的产品表面通常会镀一层几百纳米到几十微米不等的PC膜层,很多情况下PC膜制备效果不好,需要剥离重新镀膜,PC膜具有极其稳定的物理特性,极难去除,现有技术主要是使用刀具或激光直接剥离产品表面的PC膜,无论使用刀具还是激光都存在以下缺陷:剥离效率低、残留量大、极容易伤害基底的可能性,往往无法完美的剥离膜层,基于以上缺陷和不足,有必要对现有的技术予以改进,设计出一种PC膜的剥离方法。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种PC膜的剥离方法,能够在不伤害产品基底的前提下剥离PC膜层,能够完美剥离膜层,无残留。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种PC膜的剥离方法,该种PC膜的剥离方法包括以下步骤:
步骤S1:将需要剥离膜层的基底放置在氧气环境下,在固定波长UV光下充分照射,PC膜层在氧气环境中固定波长的UV光照射一段时间后会发生黄化现象,生成共振态芴雷化合物以及六元环产物,致使膜层粘附力降低变黄变脆;
步骤S2:在PC膜层表面发现变黄变脆后,停止照射,静置一段时间;
步骤S3:使用二氧化碳喷砂机对基底表面变脆后的PC膜层进行喷砂剥离,PC膜层粉化脱离产品基底。
所述步骤S1中选用190~280nm波长UV光,照射时间240h。
所述步骤S3中二氧化碳喷砂机喷射气态干冰,喷射速度和时间根据产品基底材质以及PC膜层厚度而定。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
能够在不伤害产品基底的前提下剥离PC膜层,能够完美剥离膜层,无残留。
附图说明
图1为PC膜在UV光照射下的黄化现象图。
图2为PC膜在UV光照射下发生现象现象的黄化化学式示意图。
图3为一种PC膜的剥离方法的流程图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明较佳实施例进行详细阐述,以使发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1至图3,本发明实施例包括:
一种PC膜的剥离方法,该种PC膜的剥离方法包括以下步骤:
步骤S1:将需要剥离膜层的基底放置在氧气环境下,在190~280nm波长UV光下充分照射,照射时间240h,PC膜层在氧气环境中固定波长的UV光照射一段时间后会发生黄化现象,黄化现象如图1所示,生成共振态芴雷化合物以及六元环产物,其黄化化学式如图2所示,致使膜层粘附力降低变黄变脆;
步骤S2:在PC膜层表面发现变黄变脆后,停止照射,静置一段时间;
步骤S3:使用二氧化碳喷砂机对基底表面变脆后的PC膜层进行喷砂剥离,PC膜层粉化脱离产品基底。
所述步骤S3中二氧化碳喷砂机喷射气态干冰,喷射速度和时间根据产品基底材质以及PC膜层厚度而定。
本发明一种PC膜的剥离方法,能够在不伤害产品基底的前提下剥离PC膜层,能够完美剥离膜层,无残留。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (3)
1.一种PC膜的剥离方法,其特征在于:该种PC膜的剥离方法包括以下步骤:
步骤S1:将需要剥离膜层的基底放置在氧气环境下,在固定波长UV光下充分照射,PC膜层在氧气环境中固定波长的UV光照射一段时间后会发生黄化现象,生成共振态芴雷化合物以及六元环产物,致使膜层粘附力降低变黄变脆;
步骤S2:在PC膜层表面发现变黄变脆后,停止照射,静置一段时间;
步骤S3:使用二氧化碳喷砂机对基底表面变脆后的PC膜层进行喷砂剥离,PC膜层粉化脱离产品基底。
2.根据权利要求1所述的一种PC膜的剥离方法,其特征在于:所述步骤S1中选用190~280nm波长UV光,照射时间240h。
3.根据权利要求1所述的一种PC膜的剥离方法,其特征在于:所述步骤S3中二氧化碳喷砂机喷射气态干冰,喷射速度和时间根据产品基底材质以及PC膜层厚度而定。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110776309.XA CN113414193A (zh) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | 一种pc膜的剥离方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110776309.XA CN113414193A (zh) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | 一种pc膜的剥离方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113414193A true CN113414193A (zh) | 2021-09-21 |
Family
ID=77720728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110776309.XA Pending CN113414193A (zh) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | 一种pc膜的剥离方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113414193A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115815079A (zh) * | 2022-11-23 | 2023-03-21 | 维沃移动通信有限公司 | 边框的加工方法、边框及电子设备 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5782253A (en) * | 1991-12-24 | 1998-07-21 | Mcdonnell Douglas Corporation | System for removing a coating from a substrate |
CN1200075A (zh) * | 1995-08-21 | 1998-11-25 | 日东电工株式会社 | 包装用材料、胶粘带用基材或隔离片 |
WO2010140510A1 (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-09 | 信越化学工業株式会社 | サンドブラスト処理を施した貼り合わせ基板の結晶品質改善方法 |
CN105452919A (zh) * | 2013-09-27 | 2016-03-30 | 松下知识产权经营株式会社 | 光波导用干膜和使用该光波导用干膜的光波导的制造方法以及光波导 |
US20170186829A1 (en) * | 2015-12-28 | 2017-06-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Flexible device, display device, and manufacturing methods thereof |
-
2021
- 2021-07-09 CN CN202110776309.XA patent/CN113414193A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5782253A (en) * | 1991-12-24 | 1998-07-21 | Mcdonnell Douglas Corporation | System for removing a coating from a substrate |
CN1200075A (zh) * | 1995-08-21 | 1998-11-25 | 日东电工株式会社 | 包装用材料、胶粘带用基材或隔离片 |
WO2010140510A1 (ja) * | 2009-06-02 | 2010-12-09 | 信越化学工業株式会社 | サンドブラスト処理を施した貼り合わせ基板の結晶品質改善方法 |
CN105452919A (zh) * | 2013-09-27 | 2016-03-30 | 松下知识产权经营株式会社 | 光波导用干膜和使用该光波导用干膜的光波导的制造方法以及光波导 |
US20170186829A1 (en) * | 2015-12-28 | 2017-06-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Flexible device, display device, and manufacturing methods thereof |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN115815079A (zh) * | 2022-11-23 | 2023-03-21 | 维沃移动通信有限公司 | 边框的加工方法、边框及电子设备 |
CN115815079B (zh) * | 2022-11-23 | 2023-11-17 | 维沃移动通信有限公司 | 边框的加工方法、边框及电子设备 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Song et al. | Graphene transfer: Paving the road for applications of chemical vapor deposition graphene | |
KR101191865B1 (ko) | 금속 배선이 함몰된 유연 기판의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 유연 기판 | |
CN102637584A (zh) | 一种图形化石墨烯的转移制备方法 | |
CN103922327B (zh) | 一种大面积无损转移石墨烯薄膜的方法 | |
CN104195518B (zh) | 一种黑色吸光薄膜及其制备方法 | |
CN108517555B (zh) | 基于范德华外延获得大面积高质量柔性自支撑单晶氧化物薄膜的方法 | |
WO2005050756A3 (fr) | Procede de fabrication d'une micro-batterie au lithium | |
CN113414193A (zh) | 一种pc膜的剥离方法 | |
CN105293427A (zh) | 一种基于弯月面受限局部电镀的超疏水表面的制备方法 | |
WO2004006291A3 (en) | Patterning method | |
WO2017177499A1 (zh) | 柔性基板的剥离方法 | |
WO1997041591A1 (en) | Photoelectrochemical wet etching of group iii nitrides | |
CN108220915B (zh) | 一种面向图形化金刚石薄膜制备的微增减材复合制造方法 | |
CN112968107B (zh) | 弱化结构的制作方法、微器件的转移方法 | |
US20050022862A1 (en) | Methods and apparatus for fabricating solar cells | |
CN111009496A (zh) | 一种具有高热导率的半导体衬底及其制备方法 | |
RU2515420C2 (ru) | Способ изготовления фотопреобразователя со встроенным диодом | |
CN110098299B (zh) | 一种led金属电极制作中的电极剥离方法 | |
CN114180562B (zh) | 一种石墨烯转移方法 | |
CN105744745A (zh) | 一种多层fpc板的制作方法 | |
CN106449377A (zh) | 一种可自动控制成形终点的碲镉汞刻蚀掩膜及其去除方法 | |
CN104362227B (zh) | 一种金属电极贴片的制备方法 | |
CN116469968A (zh) | 一种二氧化硅-蓝宝石复合衬底及其制备方法和应用 | |
DE59904533D1 (de) | Verfahren zur herstellung grossflächiger membranmasken | |
WO2004046826A3 (en) | Positive tone lithography in carbon dioxide solvents |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20210921 |