CN113411430A - 防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板和电子装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板和电子装置。防眩光盖板的制作方法包括提供玻璃基板，玻璃基板包括相对设置的第一表面和第二表面，第一表面包括多个第一区域和多个第二区域，第一区域和第二区域相接。在多个第一区域上形成多个凹坑。使用使用蚀刻液对第一区域和第二区域进行蚀刻以在第一区域形成第一磨砂表面以及在第二区域形成第二磨砂表面，从而得到防眩光盖板；其中，第一磨砂表面的粗糙度大于第二磨砂表面的粗糙度。防眩光盖板由该制作方法制成。如此，防眩光盖板上形成不同区域的防眩光效果，外观独特新颖，防指纹的同时还具有较细腻的手感，制作工艺简单，成本较低。
Description
技术领域
本申请涉及防眩光玻璃技术领域，尤其涉及一种防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板和电子装置。
背景技术
目前，防眩光玻璃不仅可以为空间装饰增添了美感，而且应用于电子装置壳体时，可以使得电子装置的壳体具有防眩光效果，但是仍无法满足用户对壳体外观效果丰富多样的追求。
发明内容
本申请实施方式提供了一种防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板和电子装置。
本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法包括：
提供玻璃基板，所述玻璃基板包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括多个第一区域和多个第二区域，所述第一区域与所述第二区域相接；
在多个所述第一区域上形成多个凹坑；
使用蚀刻液对所述第一区域和所述第二区域进行蚀刻以在所述第一区域形成第一磨砂表面以及在所述第二区域形成第二磨砂表面，从而得到所述防眩光盖板；其中，所述第一磨砂表面的粗糙度大于所述第二磨砂表面的粗糙度。
本申请实施方式的防眩光盖板由上述实施方式中的防眩光盖板的制作方法制成。
本申请实施方式的电子装置包括主体和上述实施方式中的防眩光盖板。所述防眩光盖板罩设在所述主体上。
在本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法、防眩光盖板和电子装置中，可先在玻璃基板的第一表面上的第一区域进行预处理以形成多个凹坑，然后通过蚀刻液对第一区域和第二区域进行蚀刻，以使第一区域和第二区域上形成粗糙度不同的第一磨砂表面和第二磨砂表面，得到具有组合防眩光效果的防眩光盖板，外观新颖独特，能够具有较好的防指纹特性的同时还具有较细腻的手感，制作工艺简单且成本较低。
本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法的流程示意图；
图2是本申请实施方式的玻璃基板的初始的剖面示意图；
图3是本申请实施方式的玻璃基板的形成凹坑的剖面示意图；
图4是本申请实施方式的防眩光盖板的立体示意图；
图5是本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法的又一流程示意图；
图6是本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法的再一流程示意图；
图7是本申请实施方式的防眩光盖板的制作方法的再一流程示意图；
图8是本申请实施方式的电子装置的立体示意图。
主要元件符号说明：
玻璃基板10、第一表面11、第二表面12、第一区域111、凹坑1111、第二区域112、防眩光盖板20、第一磨砂表面21、第二磨砂表面22、电子装置100、主体30。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参阅图1-图4，本申请实施方式的防眩光盖板20的制作方法包括：
S10：提供玻璃基板10，玻璃基板10包括相对设置的第一表面11和第二表面12，第一表面11包括多个第一区域111和多个第二区域112，第一区域111与第二区域112相接；
S30：在多个第一区域111上形成多个凹坑1111；
S50：使用蚀刻液对第一区域111和第二区域112进行蚀刻以在第一区域111形成第一磨砂表面21以及在第二区域112形成第二磨砂表面22，从而得到防眩光盖板20；其中，第一磨砂表面21的粗糙度大于第二磨砂表面22的粗糙度。
在本申请实施方式的防眩光盖板20的制作方法、防眩光盖板20和电子装置100中，可先在玻璃基板10的第一表面11上的第一区域111进行预处理以形成多个凹坑1111，然后通过蚀刻液对第一区域111和第二区域112进行蚀刻，以使第一区域111和第二区域112上形成粗糙度不同的第一磨砂表面21和第二磨砂表面22，得到具有组合防眩光效果的防眩光盖板20，外观新颖独特，能够具有较好的防指纹特性的同时还具有较细腻的手感，制作工艺简单且成本较低。
“眩光”是一种不良的照明现象，当光源的亮度极高或是背景与视野中心的亮度差较大时，使人不能看清眼前的物体，同时对视力健康有着很大的影响。“防眩光”可以通过在玻璃表面进行一定的磨砂处理，使得玻璃表面***糙，进而当光线照射时会使光线在玻璃表面产生漫反射，减少直射眼部的光线，使得光线柔和而不刺目，能够起到保护视力的作用。当然，防眩光也可以通过其他方式，本申请以对此不做限制，
如图2所示，在步骤S10中，玻璃基板10可以为矩形的玻璃板材，玻璃基板10可以但不限于按预设尺寸进行裁切处理，具体形状及料量等可根据实际情况进行选择。玻璃基板10可以为硅酸盐玻璃，例如，石英玻璃、高硅氧玻璃、钠钙玻璃、铝硅酸盐玻璃或硼硅酸盐玻璃等。当然，玻璃基板10也可以为硼酸盐玻璃、磷酸盐玻璃等。进而玻璃基板10能够有更好的耐磨性，更高的强度，能够更好的满足电子装置100的使用需求。
在某些实施方式中，玻璃基板10的具体形态结构可以为2D玻璃形态或者2.5D玻璃形态，进而为了使得后续防眩光盖板20的结构形态更加丰富，满足更多的形状要求，玻璃基板10可以通过热弯成型工艺形成3D形态的玻璃基板10。其中，第一表面11可以为3D形态玻璃基板10的凸面，第二表面12可以为3D形态的玻璃基板10的凹面。
为了使得防眩光盖板20上能够展现多种不同的效果，增加防眩光盖板20外观的多样性，第一表面11上形成了多个第一区域111和第二区域112。第一区域111和第二区域112的形状可以为规则的几何形状，例如，矩形、三角形、圆形、椭圆形等，第一区域111和第二区域112在第一表面11上拼接或间隔设置。当然，第一区域111和第二区域112的形状也可以为不规则的形状，例如，第一区域111的轮廓线可以为直线、曲线围成的任意形状或图案，第二区域112为第一表面11上除第一区域111外的区域。本申请对于第一区域111和第二区域112的具体形状不做限制。
如图3所示，在步骤S30中，在第一区域111上形成多个凹坑1111，进而相比于未经处理的第二区域112，第一区域111的表面粗糙度大于第二区域112的表面粗糙度，从而使得防眩光盖板20能够具备组合的防眩光效果，丰富了外观效果，同时，通过设置不同粗糙度的表面可以使得防眩光盖板20能够在具有较好的防指纹特性的同时还具有较细腻的手感，制作工艺简单且成本较低。凹坑1111的形状可以为圆形、矩形及其组合等任意形状。凹坑1111可以均匀地分布在第一区域111上，当然也可以根据实际需求进行不均匀分布。本申请对于凹坑1111的形状以及分布不做限制。
如图4所示，在步骤S50中，蚀刻液中包含有酸性化学物质，玻璃基板10的主要化学组成为SiO2。玻璃基板10中的SiO2能够与酸性化合物发生化学反应，其中，由于SiO2与酸性化合物生成硅酸盐，硅酸盐可以附着在玻璃基板10的表面，进而酸性化合物只能对玻璃基板10的表层进行腐蚀，硅酸盐的附着能够防止酸性化合物继续与表层内的SiO2反应。玻璃基板10的表面被腐蚀而形成凹凸不平的表面，即第一区域111形成第一磨砂表面21，第二区域112形成第二磨砂表面22。第一区域111的粗糙度大于第二区域112的粗糙度，进而第一磨砂表面21的粗糙度大于第二磨砂表面22的粗糙度。
同时，由于第一区域111上形成有多个凹坑1111，凹坑1111能够为蚀刻中生成的难溶性盐晶体提供成核点，成核点便于难溶性盐晶体的附着，进而降低了晶体生成的能量，减少了晶体生成的时间，使得蚀刻液对第一区域111内的蚀刻更加均匀且全面，不易发生漏蚀的情况。通过形成凹陷来增加物理的晶格缺陷，可以有效弥补单一化学蚀刻产生的晶格缺陷的不均匀状态，使得形成的磨砂表面外观均匀性更佳。
将经过蚀刻液腐蚀后的玻璃基板10进行适当的处理进而形成所需的防眩光盖板20。
请参阅图5，在某些实施方式中，在步骤S30之前，防眩光盖板20的制作方法还包括：
S20：在第二区域112和第二表面12上喷涂油墨保护层；
在步骤S50之前，防眩光盖板20的制作方法还包括：
S40：去除的油墨保护层。
如此，油墨保护层能够对玻璃基板10进行保护，以防止在第一区域111形成凹坑1111时对第二区域112和第二表面12产生影响。
具体地，油墨保护层中的油墨可以包括光固化油墨或热固化油墨中的至少一种。在步骤S20中，喷涂在第二区域112和第二表面12的油墨在经过光照或加热后，能够在表面固化形成油墨保护层。在第一区域111以化学方式形成凹坑1111时，油墨具有较好的化学稳定性，不会参与反应；在第一区域111以物理方式形成凹坑1111时，油墨能够使得第一区域111和第二区域112形成区分，以防止凹坑1111形成在第二区域112和第二表面12上。
在步骤S40中，在对形成凹坑1111的玻璃基板10进行蚀刻之前，需要将第二区域112上的油墨保护层去除，当然，如若第二表面12也需要进行蚀刻时，则将第二表面12的油墨保护层也去除掉。本申请对于去除油墨的方法不做限制，不对玻璃基板10进行损坏即可，例如可以采用氨液进行清洗。
请参阅图6，在某些实施方式中，步骤S30包括：
S31：通过喷砂、数控加工、模压和激光镭雕中的至少一种对第一区域111进行加工处理以在第一区域111上形成多个凹坑1111。
在步骤S31中，第一区域111的凹坑1111可以通过多种方式形成。例如，第一区域111上的凹坑1111可以通过喷砂而形成。将玻璃基板10的第二区域112和第二表面12喷涂油墨保护层后，采用240#的棕刚砂，以50cm的喷砂距离对第一区域111的表面进行喷砂3S，然后对经过喷砂的表面进行清洗，以去除掉残留的砂子和杂质，进而在第一区域111上形成有多个凹坑1111。然后去除油墨保护层，对玻璃基板10进行蚀刻操作；第一区域111上的凹坑1111还可以通过数控加工进行加工而形成。将玻璃基板10置入数控机床，输入第一区域111所在的区域范围，对数控机床进行精确调节，以在第一区域111内形成有多个凹坑1111。然后将玻璃基板10从数控机床上取下，对玻璃基板10进行蚀刻操作。
当然，在某些实施方式中，第一区域111上的凹坑1111还可以通过多种方式配合而形成，本申请对于凹坑1111的形成方式不做限制。
请参阅图3和图4，在某些实施方式中，多个第一区域111和多个第二区域112依次间隔排列设置。
如此，第一区域111和第二区域112能够形成多种不同方式的排列组合，使得防眩光壳体的外观更加丰富多样，能够满足更多用户的需求。
具体地，第一区域111的粗糙度较大，能够更好的起到防指纹效果；第二区域112的粗糙度较小，能够在具有防眩光的同时具有更细腻的手感；两者能够以任意方式的结合能够使得防眩光盖板20的外观具有更多的选择性，能够根据用户的实际需求进行搭配，满足用户的使用要求。
在某些实施方式中，凹坑1111为微米级凹坑。
凹坑1111的径向尺寸不宜过大，径向尺寸过大则会导致粗糙度过大，影响用户的手感，同时径向尺寸过大也会使得防眩光的效果变弱。“微米级凹坑”可以理解为凹坑1111的最大径向尺寸为微米级。“径向尺寸”可以理解为凹坑1111的轮廓线上任意两点之间的距离。
在某些实施方式中，凹坑1111的径向尺寸小于2μm。例如，凹坑1111的径向尺寸可以为1.8μm、1.6μm、1.4μm、0.8μm等，本申请对比不做具体限制。
请参阅图3和图4，在某些实施方式中，第一磨砂表面21的表面粗糙度为1.5-3.0μm，雾化度为75-90％，第二磨砂表面22的表面粗糙度为0.1-0.35μm，雾化度为70-80％。
“表面粗糙度”是指加工表变形成的较小间距和微小峰谷的不平度，相邻波峰和波谷之间的距离很小，属于微观几何形状误差。其中，表面粗糙度越小，表面越光滑。
“雾化度”可以为透过防眩光盖板20而偏离入射光方向的散射光通量与透射光通量之比。其中，雾化度越大，透过防眩光盖板20所看到的视野越模糊。
在某些实施方式中，蚀刻液包括：15-45重量份的氟氢化铵、1-5重量份的盐酸、0-15重量份的硫酸和3-10重量份的氢氟酸，其余分量均为去离子水。
在其中一种实施例中，蚀刻液可以包括35重量份的氟氢化铵、5重量份的盐酸、0重量份的硫酸、8重量份的氢氟酸以及52重量份的去离子水。
在第一区域111形成有凹坑1111的玻璃基板10经过该比例配比的蚀刻液腐蚀后，第一磨砂表面21的表面粗糙度可以在1.6-2.2μm之间，雾化度可以为80±5％，例如，第一磨砂表面21的表面粗糙度为1.5μm，雾化度为83％；第二磨砂表面22的表面粗糙度可以在0.15-0.25μm之间，雾化度可以为75±3％，例如，第二磨砂表面22的表面粗糙度为0.18μm，雾化度为77％。
在另外一种实施例中，蚀刻液可以包括30重量份的氟氢化铵、5重量份的盐酸、8重量份的硫酸、5重量份的氢氟酸以及52重量份的去离子水。
在第一区域111形成有凹坑1111的玻璃基板10经过该比例配比的蚀刻液腐蚀后，第一磨砂表面21的表面粗糙度可以在2.2-3.0μm之间，雾化度可以为85±5％，例如，第一磨砂表面21的表面粗糙度为2.8μm，雾化度为88％；第二磨砂表面22的表面粗糙度可以在0.2-0.35μm之间，雾化度可以为78±3％，例如，第二磨砂表面22的表面粗糙度为0.28μm，雾化度为80％。
本申请对于蚀刻液的具体重量份配比不做限制，可根据实际所需的粗糙度以及雾化度进行搭配。
请参阅图7，在某些实施方式中，防眩光盖板20的制作方法还包括：
S60：对防眩光盖板20进行抛光处理。
经过蚀刻液进行腐蚀的防眩光盖板20表面可能会形成有尖锐晶体，进而用户在使用时可能会产生刮手的不良体验。进而，在蚀刻液腐蚀过后，仍需对防眩光盖板20进行抛光处理。当然，在某些其他实施方式中，防眩光盖板20的制作方法还包括对防眩光盖板20进行开孔位、精修等操作，本申请对此不做限制。
请参阅图4，本申请实施方式的防眩光盖板20由上述实施方式中的防眩光盖板20的制作方法制成。如此，经由上述制作方法制成的防眩光盖板20能够具有多重效果。根据防眩光盖板20的表面粗糙度的不同，使得防眩光盖板20在具有防眩光的同时还能具有新颖独特的外观，能够使得用户拥有更多的使用体验。
请参阅图8，本申请实施方式的电子装置100包括主体30和上述实施方式中的防眩光盖板20，防眩光盖板20罩设在主体30上。
防眩光盖板20可以包覆在主体30的外部，能够对主体30起到保护作用，同时，经过打磨、抛光等步骤后的防眩光盖板20在防眩光的同时还具有一定的美观性。其中，电子装置100包括但不限于手机、平板电脑、穿戴设备(如智能手表)等具有保护壳体的电子设备。以手机为例，主体30可包括中框和显示屏，防眩光盖板20可以是手机的后壳或者是显示屏的盖板，具体在此不作限制。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合所述实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本申请的实施方式，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本申请的原理和宗旨的情况下可以对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，本申请的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (11)
1.一种防眩光盖板的制作方法，其特征在于，包括：
提供玻璃基板，所述玻璃基板包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括多个第一区域和多个第二区域，所述第一区域与所述第二区域相接；
在多个所述第一区域上形成多个凹坑；
使用蚀刻液对所述第一区域和所述第二区域进行蚀刻以在所述第一区域形成第一磨砂表面以及在所述第二区域形成第二磨砂表面，从而得到所述防眩光盖板；其中，所述第一磨砂表面的粗糙度大于所述第二磨砂表面的粗糙度。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述在多个所述第一区域上形成多个凹坑之前，所述制作方法还包括：
在所述第二区域和所述第二表面上喷涂油墨保护层；
在所述使用蚀刻液对所述第一区域和所述第二区域进行蚀刻以在所述第一区域形成第一磨砂表面以及在所述第二区域形成第二磨砂表面之前，所述制作方法还包括：
去除所述油墨保护层。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在多个所述第一区域上形成多个凹坑，包括：
通过喷砂、数控加工、模压和激光镭雕中的至少一种对所述第一区域进行加工处理以在所述第一区域上形成多个所述凹坑。
4.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，多个所述第一区域和多个所述第二区域依次间隔排列设置。
5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述凹坑为微米级凹坑。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述凹坑的径向尺寸小于2μm。
7.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一磨砂表面的表面粗糙度为1.5-3μm，雾化度为75-90％，所述第二磨砂表面的表面粗糙度为0.1-0.35μm，雾化度为70-80％。
8.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述蚀刻液包括：
15-45重量份的氟氢化铵；
1-5重量份的盐酸；
0-15重量份的硫酸；
3-10重量份的氢氟酸；
其余分量均为去离子水。
9.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：
对所述防眩光盖板进行抛光处理。
10.一种防眩光盖板，其特征在于，所述防眩光盖板由权利要求1-9中任一项所述的制作方法制成。
11.一种电子装置，其特征在于，包括：
主体；和
权利要求10所述的防眩光盖板，所述防眩光盖板罩设在所述主体上。
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