CN113299225B - 驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备，其中驱动基板包括衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构及光电传感结构。第一有源层、第一导电结构、第二导电结构可形成第一开关器件，第一开关器件和光电传感结构能够对光进行亮度检测，并根据检测结果输出控制信号，以直接或间接控制外部发光器件的发光状态。通过将光电传感结构设置在驱动基板中，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并且提高整体结构的可靠性。

Description

驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备。

背景技术

随着手机技术的发展，用户对手机应用的舒适性和续航能力的要求越来越高，这就要求手机在显示时能够根据环境动态调节显示屏亮度。手机通常通过在显示面板外部安装环境光传感器来感知环境光学变化，通过感知周围光线情况，自动调节显示屏背光亮度，降低产品的功耗。

然而，环境光传感器通常需要通过胶材安装在屏幕的边框区域，由于环境光传感器的尺寸在毫米级，因此无法缩减胶材宽度，从而占用较多的边框区域面积，无法实现窄边框。

发明内容

基于此，有必要提供一种驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备，以实现窄边框，并提高整体结构的可靠性。

为了实现本申请的目的，本申请采用如下技术方案：

一种驱动基板，包括：

衬底；

第一有源层，设置在所述衬底上；

第一导电结构，设置在所述第一有源层上；

第二导电结构，设置在所述第一有源层上，与所述第一导电结构形成有沟道区；

光电传感结构，设置在所述沟道区中且与所述第一导电结构电性连接，用于感测环境光亮度。

一种驱动基板的制备方法，包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成第一有源层；

在所述第一有源层上形成光电传感结构，所述光电传感结构与所述第一有源层相互绝缘；

在所述第一有源层上形成第一导电结构及第二导电结构，所述第一导电结构及所述第二导电结构之间形成沟道区；

其中，所述光电传感结构位于所述沟道区，且所述光电传感结构与所述第一导电结构电性连接，所述光电传感结构与所述第二导电结构间隔设置。

一种显示面板，所述显示面板包括如上所述的驱动基板或包括由上述的制备方法制备获得的驱动基板。

一种电子设备，所述电子设备包括如上所述的显示面板。

上述提供的驱动基板及其制备方法、显示面板及电子设备，其中驱动基板包括衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构及光电传感结构。第一有源层、第一导电结构、第二导电结构可形成第一开关器件，第一开关器件和光电传感结构能够对光进行亮度检测。通过将光电传感结构设置在驱动基板中，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并且提高整体结构的可靠性。

附图说明

图1为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图2为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图3为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图4为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图5为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图6为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图7为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图8为一实施例中驱动基板的结构示意图；

图9为一实施例中驱动基板的制备方法的方法流程图；

图10为一实施例中驱动基板的制备方法的方法流程图

图11为一实施例中显示面板的结构示意图；

图12为一实施例中显示面板的结构示意图；

图13为一实施例中显示面板的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本申请，下面将参照相关附图对本申请进行更全面的描述。附图中给出了本申请的较佳的实施例。但是，本申请可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本申请的公开内容的理解更加透彻全面。

可以理解，本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

需要理解的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方法或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本申请。

在显示设备中，为了应用的舒适性和续航力，通常需要采用环境光传感器检测环境光亮度，显示设备基于环境光亮度动态调节屏幕亮度，以满足在各种环境光亮度下显示亮度都能满足用户的需求。一方面，例如手机等移动显示设备，由于显示器消耗的电量高达电池总电量的60％，基于环境光传感器感光，动态调节显示设备的显示亮度，可以最大限度地延长电池的工作时间。另一方面，环境光传感器有助于显示器提供柔和的画面，当环境亮度较高时，使用环境光传感器的显示器调成高亮度；当外界环境较暗时，显示器调成低亮度。然而，在相关技术中，环境光传感器需要通过胶材粘附在显示屏的边框区域上，由于环境光传感器的体积较大，因此占用了一定的边框面积，从而无法实现窄边框的效果。同时，由于通过胶材粘附在显示屏的边框区域上，胶材和环境光传感器之间还存在结合力问题，显示设备的可靠性会受到影响。

为了解决上述问题，本申请提供了一种驱动基板，驱动基板设有像素驱动电路，可应用于具有显示屏的电子设备，该电子设备可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、个人数字助理、电视机、多媒体显示面板、指纹感测等具有显示功能的设备。

其中，驱动基板包括光电传感结构和第一开关器件组成的光电传感模组，光电传感结构用于根据采集的环境光生成光电流，第一开关器件用于读取光电流以获得环境光亮度信息。光电传感模组设置在驱动基板上，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并且不会存在结合力的问题。

在一些实施例中，当光电传感结构处于光感测状态时，第一开关器件作为光电传感模组的组成部分，用于在导通时接收光电流以读取环境光亮度信息；当光电传感结构处于非光感测状态时，第一开关器件可以仅作为驱动基板像素驱动电路中的一个开关器件，参与像素发光单元的发光驱动。

在一些实施例中，光电传感模组可与控制模组电性连接，控制模组根据所述光电传感结构感测到的环境光亮度，输出控制信号以控制像素驱动电路动态调节屏幕的亮度。

在一些实施例中，光电传感模组可与时序电路电性连接，例如第一开关器件的栅极与时序电路电性连接，时序电路可用于根据实际需要在预设时间段控制第一开关器件的导通或关断，从而控制光电传感模组的环境光亮度检测时间和频率。例如，可以控制第一开关器件在一帧中导通，第一开关器件在一帧中获取光电传感结构生成的光电流，从而光电传感模组在一帧中实现对环境光亮度的检测。

图1为一实施例中的驱动基板的结构示意图。

驱动基板10包括衬底101、第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104及光电传感结构105。其中，第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104可形成第一开关器件，第一开关器件和光电传感结构105组合形成的光电传感模组，能够对光进行亮度检测。

在本实施例中，衬底101可以选用柔性衬底或者非柔性衬底，例如可以选用透明有机材料也可以选用玻璃。在一个实施例中，玻璃衬底可以为无碱硼硅酸盐超薄玻璃，无碱硼硅酸盐玻璃具有较高的物理特性、较好的耐腐蚀性能、较高的热稳定性以及较低的密度和较高的弹性模量。衬底101上设置有能够感测环境光信息的光电传感结构105及能够获取光电流信号的第一开关器件。

在本实施例中，第一有源层102设置在衬底101上。

其中，第一有源层102包括对应沟道区G的通道区102a，以及分别与通道区连接的第一接触区102b和第二接触区102c，第一接触区102b可用于设置第一导电结构103，第二接触区102c可用于设置第二导电结构104。

其中，第一有源层102的材料可以选用非晶硅、多晶硅或金属氧化物。以多晶硅为例，第一有源层102可以利用化学气相沉积法形成一非晶硅层，再将非晶硅层转换为多晶硅层，多晶硅层形成后，通过掩膜版对多晶硅层中对应第一接触区102b的预成形区域和对应第二接触区102c的预成形区域进行掺杂，例如离子注入，以产生相互连接的第一接触区102b、通道区102a及第二接触区102c。

其中，第一有源层102材料的选取能够确定第一开关器件的种类，而第一开关器件的种类可以根据光电传感结构105所形成的光电流信号的大小进行选择。当光电传感结构105形成的光电流信号比较小时则选择漏电流比较小的半导体器件，例如氧化物薄膜晶体管，从而第一有源层102的材料可以选用半导体氧化物；当光电流信号比较大时则选择漏电流比较大的半导体器件作为第一开关器件以减少漏电流对检测结果的影响，例如多晶硅薄膜晶体管，从而第一有源层102的材料可以选用多晶硅。

在本实施例中，第一导电结构103设置在第一有源层102上；第二导电结构104设置在第一有源层102上，与第一导电结构103形成有沟道区G。

其中，第一导电结构103作为第一开关器件的第一源/漏极，第二导电结构104作为第一开关器件的第一漏/源极，第一导电结构103作为第一开关器件的输入端用于与光电传感结构105连接，光电传感结构105根据接收的外部光线生成的光电流信号，第二导电结构104作为第一开关器件的输出端。

其中，第一导电结构103和第二导电结构104可以选用金属材料，例如包括钼、钛、铝和铜中的至少一种，以保证良好的导电性能。第一导电结构103和第二导电结构104的材料和厚度可以相同或者不同，具体根据实际应用情况进行选择和调整，在此不作限定。在一些实施例中，第一导电结构103和第二导电结构104可以同层设置，并采用相同的材料和相同的工艺步骤制备获得，从而可以减少制备步骤，降低制备成本。

其中，第一导电结构103和第二导电结构104之间形成沟道区G，在沟道区G中可以设置光电传感结构105，从而第一导电结构103及第二导电结构104位于光电传感结构105的两侧，第一导电结构103的上端部、光电传感结构105及第二导电结构104的上端部围绕形成纵截面类似U字形的结构，以使光电传感结构105感测进入U字形结构的光线，从而防止其他方向的无效光线，例如从衬底101两侧或者衬底101底部进入的非检测对象光线的进入。

其中，驱动基板10还包括第一栅极106。第一开关器件可以为顶栅型或底栅型开关器件。对于顶栅型的第一开关器件，第一栅极106设置在第一有源层102背离衬底101的一侧，且与第一有源层102通过绝缘层绝缘设置；对于底栅型的第一开关器件，第一栅极106设置在第一有源层102靠近衬底101的一侧，且与第一有源层102通过绝缘层绝缘设置。

示例性的，如图2所示，第一栅极106设置在沟道区G中且位于第一有源层102和光电传感结构105之间。第一导电结构103和第二导电结构104分别与第一有源层102电性连接，第一栅极106与第一有源层102、第一导电结构103及第二导电结构104绝缘设置，从而第一栅极106、第一导电结构103第二导电结构104及第一有源层102形成顶栅型的第一开关器件，用以获取光电传感结构105的光电流。其中，第一栅极106与第一有源层102之间通过绝缘层的设置以实现绝缘的目的。

在本实施例中，光电传感结构105设置在沟道区G中且与第一导电结构103电性连接。

其中，光电传感结构105能够对接收到的光信号转换形成光电流信号，将光电流信号通过第一导电结构103输出至第一开关器件，以使第一开关器件获知光信息。具体的，当光照射到光电传感结构105中，光电传感结构105中价带的电子被激发至导带中，价带出现空穴，导带出现电子，电子和空穴的跃迁从而形成光电流。光的强度能够决定光电流的大小，从而根据光电流的大小可以感知光的强弱信息。

其中，光电传感结构105设置在沟道区G中，能够避免增加额外的占用体积，且不需要额外通过胶材粘附，降低了体积因素对性能和应用范围的制约；并且光电传感结构105设置在沟道区G中能够避免感测到沟道区G外侧的无效光线。示例性的，光电传感结构105的上表面可以与第一导电结构103的上表面、第二导电结构104上表面齐平，或者光电传感结构105的上表面低于第一导电结构103的上表面、第二导电结构104上表面，从而光电传感结构105能够保证避免感测到沟道区G外侧的无效光线。

其中，光电传感结构105与第一导电结构103电性连接，示例性的，可以通过感光区域以外的地方通过设置接触孔并填充导电材料以使光电传感结构105与第一导电结构103实现电连接，并且保证光电传感结构105的感光区域不会被遮挡，能尽可能的获得需要检测的光线。

在一些实施例中，如图3所示，第一导电结构103贯穿至光电传感结构105，形成第一开关器件和光电传感结构105的共用电极，即光电传感结构105不需要再单独设置导电结构与第一开关器件连接，可以减少制作的工艺步骤，降低成本。示例性的，第一导电结构103贯穿至光电传感结构105感测区域的侧边上，从而尽可能保证光电传感结构105的感光区域不会被遮挡，能够获得需要检测的光线。示例性的，第一导电结构103选用透光性较好的材料，从而可以进一步保证光电传感结构105的感光区域不会被遮挡。

在一些实施例中，光电传感结构105为铟镓锌氧化物。一方面，采用铟镓锌氧化物材料，由于铟镓锌氧化物材料的带隙较宽，对可见光完全透明，因此，能让更多的可见光到达光电传感结构105，从而提高了光电传感结构105的光响应特性；另一方面，铟镓锌氧化物材料的光电传感结构105，其尺寸可以做到尽可能小且尽可能薄，从而可以缩小光电传感结构105在驱动基板10中的占用面积。

在一些实施例中，如图4所示，驱动基板10还包括第一遮挡结构107。

其中，第一遮挡结构107设置在光电传感结构105靠近衬底101的一侧。当第一开关器件为顶栅结构时，第一遮挡结构107设置在第一栅极106与光电传感结构105之间(图4以此为例)；当第一开关器件为底栅结构时，第一遮挡结构107设置在第一有源层102与光电传感结构105之间。

一方面，由于第一导电结构103和第二导电结构104一般采用金属材质，具有较高的反射率，从而使入射至光电传感结构105的光线在驱动基板10内部发生反射，当第一导电结构103和第二导电结构104将光线反射至光电传感结构105下方区域时，通过第一遮挡结构107，可以使入射在沟道区G且被第一导电结构103和第二导电结构104发射的光线经过再次反射进入光电传感结构105中，从而避免光电传感结构105对部分感测光的遗漏，提供光感测的准确性。

另一方面，若第一有源层102采用多晶硅材料，第一有源层102存在H离子，当光电传感结构105的材料为氧化物半导体时，光电传感结构105中的氧离子易与H离子结合形成羟基，从而损坏光电传感结构105的氧化物，通过第一遮挡结构107，可以防止第一有源层102的H离子逸出至光电传感结构105，保证了光电传感结构105的结构稳定和性能稳定，进而保证了由光电传感结构105和第一开关器件形成的驱动基板10的结构稳定和性能稳定。

在一些实施例中，第一遮挡结构107为不透光金属层，从而第一遮挡结构107既能实现光线反射功能，也能实现对第一有源层102H离子的遮挡功能。

在一些实施例中，第一遮挡结构107正投影在衬底101上的第一投影面积大于或等于光电传感结构105正投影在衬底101上的第二投影面积(图4中以第一投影面积等于第二投影面积为例)。从而，第一遮挡结构107能够尽可能多的将第一导电结构103和第二导电结构104反射的光线反射至光电传感结构105中，并且能够保证阻挡可能存在的H离子，避免H离子逃逸至光电传感结构105中。

在一些实施例中，如图5所示，驱动基板10还包括缓冲层108。

缓冲层108设置在衬底101与第一有源层102之间。

其中，缓冲层108可以通过化学气相沉积或其他沉积方式形成单层或多层结构，例如氧化硅层、氮化硅层或两种的组合，在此不再限定。缓冲层108可以防止从衬底101产生的水分或杂质对第一有源层102造成影响，还可以提高第一开关器件与衬底101之间的粘附性。

需要说明的是，在上述实施例中，驱动基板10还包括设置在第一有源层102和第一栅极106之间的绝缘层201，设置在第一栅极106和第一遮挡结构107之间的层间介质层203，设置在第一遮挡结构107和光电传感结构105之间的层间介质层204，设置在光电传感结构105和第一导电结构103及第二导电结构104之间的层间介质层202。其中，绝缘层及层间介质层均可以通过化学气相沉积或其他沉积方式形成单层或多层结构，例如氧化硅层、氮化硅层或两种的组合，在此不再限定。

本实施例提供的驱动基板10，包括衬底101、第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104及光电传感结构105。其中，第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104可形成第一开关器件，第一开关器件和光电传感结构105，能够对光进行亮度检测。通过将第一开关器件和光电传感结构105设置在驱动基板10中，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并且提高整体结构的可靠性。

图6为一实施例中的驱动基板10的结构示意图。

驱动基板10包括衬底101、第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104、光电传感结构105、第二有源层109及第三导电结构110。其中，第一有源层102、第一导电结构103及第二导电结构104可用于形成第一开关器件，第二有源层109及第三导电结构110可用于形成第二开关器件。

其中，衬底101包括第一区域和第二区域，光电传感结构105正投影在第一区域上，第一区域用于设置第一开关器件和光电传感结构105，第二区域用于设置第二开关器件。第一开关器件和光电传感结构105组合形成的光电传感模组，第二开关器件可用于连接其他开关器件或直接连接外部发光器件，光电传感模组对环境光进行亮度检测。

其中，第一有源层102、第一导电结构103、第二导电结构104、光电传感结构105参见上述实施例的相关描述，在此不再赘述。

在本实施例中，第二有源层109正投影在第二区域上。

其中，第二有源层109的材料可以选用非晶硅、多晶硅或金属氧化物。若第一开关器件为多晶硅薄膜晶体管，则第二开关器件可以为氧化物薄膜晶体管，使得驱动基板10具有LTPO(Low Temperature Polycrystalline Oxide，低温多晶氧化物)结构，实现第一开关器件和第二开关器件在制备步骤、层级结构上的整合和部分共用，降低驱动基板10的制备成本。第二有源层109的材料可以根据需要选择适宜的金属氧化物材料，如氧化锌(ZnO)、氧化锡(SnO2)、铟镓锌氧化物(IGZO)、铟锌氧化物(IZO)或者其他材料。

在一实施例中，第二有源层109与光电传感结构105同层设置(图7以第二有源层109与光电传感结构105同层设置为例)，从而第二有源层109与光电传感结构105可以选用相同的材料，例如同时采用IGZO材料，通过对IGZO层进行图案化处理同时制备获得，不需要在制备其中一种结构时刻蚀掉多余的材料，在减少步骤的同时还可以节省材料，从而可以提高制备效率并降低制备成本。

在本实施例中，第三导电结构110，设置在第二有源层109背离衬底101的一侧上且贯穿至第一有源层102。

其中，第三导电结构110为第二开关器件的源/漏极，可以作为第二开关器件的输入端用于与第一开关器件的输出端连接，在光电传感结构105处于非光感测状态时，第一开关器件和第二开关器件作为像素驱动电路的组成部分，可以连接像素发光单元，驱动像素发光单元的发光状态。

其中，第三导电结构110可以选用金属材料，例如包括钼、钛、铝和铜中的至少一种，以保证良好的导电性能。第三导电结构110的材料和厚度可以根据实际应用情况进行选择和调整，在此不作限定。

在一些实施例中，第二有源层109上还设置有第四导电结构，第四导电结构可以为漏/源极，作为第二开关器件的输出端，用于与像素发光单元连接，以便通过第二开关器件实现对像素发光单元的驱动。

其中，第四导电结构可以选用金属材料，例如包括钼、钛、铝和铜中的至少一种，以保证良好的导电性能。第四导电结构的材料和厚度可以根据实际应用情况进行选择和调整，在此不作限定。在一些实施例中，第三导电结构110和第四导电结构可以同层设置，并采用相同的材料和相同的工艺步骤制备获得，从而可以减少制备步骤，降低制备成本。

其中，驱动基板10还包括第二栅极。第二开关器件可以为顶栅型或底栅型开关器件。对于顶栅型的第二开关器件，第二栅极设置在第二有源层109背离衬底101的一侧，且与第二有源层109通过绝缘层绝缘设置(如图7所示，图7中111为第二栅极)；对于底栅型的第二开关器件，第一栅极106设置在第二有源层109靠近衬底101的一侧，且与第二有源层109通过绝缘层绝缘设置。

在一些实施例中，如图8所示，驱动基板10还包括第二遮挡结构112(为了便于后续介绍，图8以图5的实施例为基础)。

第二遮挡结构，设置在第二有源层109靠近衬底101的一侧，第二遮挡结构112正投影在衬底101上的第三投影面积大于或等于第二有源层109正投影在衬底101上的第四投影面积。

其中，第二遮挡结构112可以遮挡第一有源层102中可能逸出的H离子。当第一有源层102采用多晶硅材料，第一有源层102存在H离子，若第二有源层109的材料为氧化物半导体，第二有源层109中的氧离子易与H离子结合形成羟基，从而损坏第二有源层109的氧化物，通过第二遮挡结构112，可以防止第一有源层102H离子逸出至第二有源层109，保证了第二有源层109的结构稳定和性能稳定。

其中，第二遮挡结构112正投影在衬底101上的第三投影面积大于或等于第二有源层109正投影在衬底101上的第四投影面积(图8中以第三投影面积等于第四投影面积为例)。从而，第二遮挡结构能够保证阻挡可能存在的H离子，避免H离子逸至第二有源层109中。

在一些实施例中，第二遮挡结构112与第一遮挡结构107可以同层设置，并采用相同的材料和相同的工艺步骤制备获得，从而可以减少制备步骤，降低制备成本。

需要说明的是，在上述实施例中，驱动基板10还包括设置在第二有源层109和第二栅极之间的绝缘层205，设置在第二有源层109和第二遮挡结构112之间的层间介质层204。其中，绝缘层205和层间介质层204均可以通过化学气相沉积或其他沉积方式形成单层或多层结构，例如氧化硅层、氮化硅层或两种的组合，在此不再限定。

图9示出了一实施例的驱动基板的制备方法，用于制备如上实施例的驱动基板。制备方法包括步骤101、步骤102、步骤103及步骤104。

步骤101：提供衬底。

步骤102：在衬底上形成第一有源层。

步骤103：在一有源层上形成光电传感结构，光电传感结构与所述第一有源层相互绝缘。

步骤104：在第一有源层上形成第一导电结构及第二导电结构，第一导电结构及第二导电结构之间形成沟道区。其中，光电传感结构位于沟道区，且光电传感结构与第一导电结构电性连接，光电传感结构与第二导电结构间隔设置。

其中，关于衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构及光电传感结构的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。需要说明的是，衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构及光电传感结构的制备方法可以为传统的衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构及光电传感结构的制备方法，本申请实施例对此不做进一步的限定。

在一些实施例中，在步骤102之后且在步骤103之前，制备方法还可以包括步骤105。

步骤105：在所述第一有源层上形成第一遮挡结构，第一遮挡结构分别与所述光电传感结构与所述第一有源层相互绝缘。

其中，关于第一遮挡结构的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。第一遮挡结构可以根据实际选用的材料选择相应的制备方法，例如当选用不透光金属制备时，可以选择溅射的方法形成第一遮挡结构，本申请实施例对此不做进一步的限定。

在一些实施例中，在步骤102之后且在步骤103之前，制备方法还可以包括步骤106。

步骤106：在所述第一有源层上形成第一栅极，第一栅极分别与所述第一遮挡结构与所述第一有源层相互绝缘。其中，第一栅极的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。第一栅极的制备可以为传统的沉积方法，本申请实施例对此不做进一步的限定。

在一些实施例中，在步骤102之前，制备方法还可以包括步骤107。

步骤107：在衬底上形成缓冲层。其中，缓冲层的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。缓冲层的制备可以为传统的沉积方法，本申请实施例对此不做进一步的限定。

需要说明的是，在上述实施例中，制备方法还包括在第一有源层和第一栅极之间形成绝缘层，在第一栅极和第一遮挡结构之间形成层间介质层，在第一遮挡结构和光电传感结构之间形成层间介质层。其中，绝缘层及层间介质层均可以通过化学气相沉积或其他沉积方式形成单层或多层结构，例如氧化硅层、氮化硅层或两种的组合，在此不再限定。

图10示出了一实施例的驱动基板的制备方法，用于制备如上实施例的驱动基板。制备方法包括步骤201、步骤202、步骤203、步骤204及步骤205。

步骤201：提供衬底。

步骤202：在衬底上的第一区域形成第一有源层。

步骤203：在衬底上的第二区域形成第二有源层。

步骤204：在第一有源层上形成光电传感结构，光电传感结构与第一有源层相互绝缘。

步骤205：在第一有源层上形成第一导电结构及第二导电结构，第一导电结构及第二导电结构之间形成沟道区。其中，光电传感结构位于所述沟道区，且光电传感结构与第一导电结构电性连接，光电传感结构与第二导电结构间隔设置。

步骤206：在第二有源层背离衬底的一侧上形成第三导电结构，第三导电结构贯穿至第一有源层。

其中，当第二有源层和光电传感结构同层设置且材料相同时，步骤203和步骤204可以同时进行。

其中，关于衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构、光电传感结构、第二有源层及第三导电结构的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。需要说明的是，衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构、光电传感结构、第二有源层及第三导电结构的制备方法可以为传统衬底、第一有源层、第一导电结构、第二导电结构、光电传感结构、第二有源层及第三导电结构的制备方法，本申请实施例对此不做进一步的限定。

在一些实施例中，在步骤203之前，制备方法还可以包括步骤207。

步骤207：在所述第二区域上形成第二遮挡结构，以使第二遮挡结构位于第二有源层靠近所述衬底的一侧。

其中，关于第二遮挡结构的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。第二遮挡结构可以根据实际选用的材料选择相应的制备方法，例如当选用不透光金属制备时，可以选择溅射的方法形成第二遮挡结构，本申请实施例对此不做进一步的限定。

其中，当第二遮挡结构和第一遮挡结构同层设置且材料相同时，步骤207和上一实施例中的步骤105可以同时进行。

在一些实施例中，在步骤203之后，制备方法还可以包括步骤208。

步骤208：在第二有源层上形成第二栅极，第二栅极分别与第二有源层相互绝缘。其中，第二栅极的描述参见上述实施例中的相关描述，在此不再赘述。第二栅极的制备可以为传统的沉积方法，本申请实施例对此不做进一步的限定。

需要说明的是，在上述实施例中，制备方法还包括在第一有源层和第一栅极之间形成绝缘层，在第一栅极和第一遮挡结构之间形成层间介质层，在第一遮挡结构和光电传感结构之间形成层间介质层，在第二有源层和第二栅极之间形成层间介质层以及在第二栅极与第三导电结构之间形成层间介质层。其中，绝缘层及层间介质层均可以通过化学气相沉积或其他沉积方式形成单层或多层结构，例如氧化硅层、氮化硅层或两种的组合，在此不再限定。

本申请还提供一种显示面板，包括如上实施例所述的驱动基板或包括由如上实施例所述的制备方法制备获得的驱动基板。该显示面板通过将光电传感结构设置在驱动基板中，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并具有较高的可靠性。

在一些实施例中，如图11所示(图中AA为显示区)，显示面板还包括显示区；光电传感结构105为透光件；光电传感结构105位于显示区上。由于光电传感结构105为透光件，当光电传感结构105设置在显示区上时，不会影响显示效果。

进一步地，在一些实施例中，如图12所示(图中300为像素发光单元，AAG为显示感光区域)，显示面板包括像素发光单元，像素发光单元设置在显示区的驱动基板上。显示区域包括显示感光区域，位于显示感光区域的多个像素发光单元，至少两个像素发光单元之间设有光电传感结构。从而，光电传感结构可以穿插设置在相邻的像素发光单元之间，相邻像素发光单元之间通常余留有闲置区域，因此将光电传感结构105设置在相邻像素发光单元间的闲置区域中，有利于提高显示面积的有效利用率。当光电传感结构105的数量为1个时，光电传感结构105可以设置在两个相邻的像素发光单元之间；当光电传感结构105的数量为多个时，多个光电传感结构105可以设置在显示感光区域的多个相邻的像素发光单元之间，从而形成区域性的感光区。示例性的，显示面板还设有非显示区(如图12所示，图中NAA为非显示区)；显示感光区域位于显示区靠近非显示区的边缘处。从而光电传感结构105设置在显示区靠近非显示区的边缘处，在不影响显示效果的基础上还能确保不占用边框区域的面积，有利于进一步实现窄边框，进一步提高显示效果。

进一步地，在一些实施例中，如图13所示，多个像素发光单元包括第一像素单元310、与第一像素单元310分离的一对第二像素单元320及与第一像素单元310和第二像素单元320分离的一对第三像素单元330。

第二像素单元320沿第一线位于第一像素单元310的相对侧，第一像素单元310、第二像素单元320和另一个第一像素单元310沿第一线连续排列；第三像素单元330沿第二线位于第一像素单元310的相对侧，第一像素单元310、第三像素单元330和另一个第一像素单元310沿第二线连续排列，第二线与第一线在第一像素单元310的位置处相交。其中，在显示感光区域中，相邻两个第一像素单元310之间设有光电传感结构105，第二像素单元320与相邻的第三像素单元330之间设有光电传感结构。

示例性的，如图13所示，第一像素单元310沿着第一虚拟直线VL1排列，第二像素单元320和第三像素单元330交替排列并沿着第二虚拟直线VL2进行排列。第二像素单元320位于沿着虚拟方块VS的一个对角线的第一顶点P1处，第三像素单元330位于沿着虚拟方块VS的另一个对角线的第二顶点P2处，其中虚拟方块VS在虚拟的中心点具有一个第一像素单元310。

示例性的，第一像素单元310、第二像素单元320以及第三像素单元330分别发射绿光、蓝光以及红光，且每个第一像素单元310具有比相邻的第二像素单元320和第三像素单元330更小的面积。

在一些实施例中，显示面板还包括控制模组，控制模组分别与所述第二导电结构及像素发光单元电连接，用于根据环境光亮度调节像素发光单元的发光状态，从而动态调节屏幕的亮度，降低产品的功耗。

本申请还提供一种电子设备，包括如上实施例所述的驱动基板或包括由如上实施例所述的制备方法制备获得的驱动基板。该电子设备通过将光电传感结构设置在驱动基板中，不需要额外通过胶材安装在屏幕的边框区域，有利于实现窄边框，并具有较高的可靠性。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (18)

1.一种驱动基板，其特征在于，包括：

衬底；

第一有源层，设置在所述衬底上；

第一导电结构，设置在所述第一有源层上；

第二导电结构，设置在所述第一有源层上，与所述第一导电结构形成有沟道区；

光电传感结构，设置在所述沟道区中且与所述第一导电结构电性连接，用于感测环境光亮度。

2.根据权利要求1所述的驱动基板，其特征在于，所述驱动基板还包括：

第一遮挡结构，设置在所述光电传感结构靠近衬底的一侧。

3.根据权利要求2所述的驱动基板，其特征在于，所述第一遮挡结构正投影在所述衬底上的第一投影面积大于或等于所述光电传感结构正投影在所述衬底上的第二投影面积。

4.根据权利要求1所述的驱动基板，其特征在于，所述第一导电结构贯穿至所述光电传感结构。

5.根据权利要求1所述的驱动基板，其特征在于，所述光电传感结构的材料为铟镓锌氧化物。

6.根据权利要求1所述的驱动基板，其特征在于，所述衬底包括第一区域和第二区域，所述光电传感结构正投影在所述第一区域上；所述驱动基板还包括：

第二有源层，正投影在所述第二区域上；

第三导电结构，设置在所述第二有源层背离所述衬底的一侧上且贯穿至所述第一有源层。

7.根据权利要求6所述的驱动基板，其特征在于，所述第二有源层与所述光电传感结构同层设置。

8.根据权利要求6所述的驱动基板，其特征在于，所述驱动基板还包括：

第二遮挡结构，设置在所述第二有源层靠近所述衬底的一侧，所述第二遮挡结构正投影在所述衬底上的第三投影面积大于或等于所述第二有源层正投影在所述衬底上的第四投影面积。

9.根据权利要求6所述的驱动基板，其特征在于，所述第二有源层的材料为铟镓锌氧化物。

10.根据权利要求1所述的驱动基板，其特征在于，所述驱动基板还包括：

缓冲层，设置在所述衬底与所述第一有源层之间。

11.一种驱动基板的制备方法，其特征在于，包括：

提供衬底；

在所述衬底上形成第一有源层；

在所述第一有源层上形成光电传感结构，所述光电传感结构与所述第一有源层相互绝缘；

在所述第一有源层上形成第一导电结构及第二导电结构，所述第一导电结构及所述第二导电结构之间形成沟道区；

其中，所述光电传感结构位于所述沟道区，且所述光电传感结构与所述第一导电结构电性连接，所述光电传感结构与所述第二导电结构间隔设置。

12.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-10任一项所述的驱动基板或包括由权利要求11所述的制备方法制备获得的驱动基板。

13.根据权利要求12所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板设有显示区，所述光电传感结构为透光件，所述光电传感结构位于所述显示区。

14.根据权利要求13所述的显示面板，其特征在于，还包括：

像素发光单元，设置在所述显示区的所述驱动基板上；

所述显示区域包括显示感光区域，位于所述显示感光区域的多个所述像素发光单元中，至少两个所述像素发光单元之间设有所述光电传感结构。

15.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，多个所述像素发光单元包括：

第一像素单元；

与所述第一像素单元分离的一对第二像素单元，所述第二像素单元沿第一线位于所述第一像素单元的相对侧，所述第一像素单元、所述第二像素单元和另一个第一像素单元沿所述第一线连续排列；以及

与所述第一像素单元和所述第二像素单元分离的一对第三像素单元，所述第三像素单元沿第二线位于所述第一像素单元的相对侧，所述第一像素单元、所述第三像素单元和另一个第一像素单元沿所述第二线连续排列，所述第二线与所述第一线在所述第一像素单元的位置处相交；

其中，在所述显示感光区域中，相邻两个所述第一像素单元之间设有所述光电传感结构，所述第二像素单元与相邻的所述第三像素单元之间设有所述光电传感结构。

16.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，还包括：

控制模组，分别与所述第二导电结构及所述像素发光单元电连接，用于根据环境光亮度调节所述像素发光单元的发光状态。

17.根据权利要求14所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还设有非显示区；

所述显示感光区域位于所述显示区靠近所述非显示区的边缘处。

18.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求12-17任一项所述的显示面板。

Images